光学薄膜沉积自动控制系统

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光学薄膜沉积自动控制系统   
  　　在光学薄膜的制备中，随着制备技术，特别是沉积方式如离子束溅射、离子束辅助沉积技术的发展，光学薄膜的物理和化学性能达到了很好的水平。随着自动控制技术的应用，光学薄膜制备设备的自动化水平也越来越高。光学薄膜膜厚控制系统作为核心技术，也达到了很高水平。本公司开发的光学薄膜沉积自动控制系统，集光学薄膜膜厚自动控制、电子枪束流自动控制及镀膜机系统自动控制于一体，为高品质光学薄膜的自动制备提供了保证。
光学薄膜沉积自动控制系统由光源、光纤传输、单色仪、探测器、放大和信号处理、计算机中心控制、束流反馈和自动挡板控制系统、真空自动控制系统等组成。下图示例了白光源控制系统示意图：
　　光学薄膜沉积自动控制系统的特点：
7 i) E, o5 G" S　　1. 膜厚控制精度高：本系统的控制精度一方面通过超低噪声的信号处理系统，通过光源的稳定、信号调制后的锁相放大进行小信号检测，达到超低噪声的信号处理；另一方面通过对光学薄膜理论的深入研究，对透射率反射率信号变化规律和其所独特的特点，采用相适应的优异的数学算法进行极值判断（Peak Fit），使极值的判断精度大大提高；由于信号处理的高稳定度和高精度，在进行非四分之一比例判断时，判断精度也大大提高，极值判断精度的提高同时也使比例判断时进行停点的过极值修正的精度大大提高；
% a) V3 ]5 i: h$ F: x& \. p( t4 C  Z　　2. 适用范围广，从光通讯的DWDM-50G超窄带滤光片（仅限离子束溅射设备），到常规窄带滤光片，低通带纹波高截止度的带通滤光片，宽带偏振分光膜、宽带消偏振分光膜，常规的高指标高反高透薄膜，等等；
　　3. 重复性高，完全克服了人工操作误差，使成品率大大提高；
　　4. 性能价格比高；
　　5. 模块化设计，光学薄膜膜厚自动控制系统作为基本核心，电子枪束流自动控制系统及镀膜机自动控制系统可选；
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　　系统参数和指标：
1. 控制波长范围：由用户确定，光源根据产品要求配以可调谐激光器或白光光源；
2. 控制精度： 优于千分之一；
2 |' |7 s2 {* c3. 使用范围：四分之一膜系和非四分之一膜系控制；
" B  Y& m) x* R' o* g' u( y  t; Z1 J4. 环境要求：工业环境，温度-20o 到 +80o， 湿度<60%；

朱小朱

好东东 学习了

gandongdi

学习了，感谢楼主贡献宝贵资料