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光学设计公差允许

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发表于 2006-8-30 16:51:40 | 显示全部楼层 |阅读模式
<BR>% m4 P4 N5 ?6 T3 a

4 k5 [; ~4 K  t8 Z5 H- M- c<br/>一 公差分配思路<br/>8 B, X& N. P" L* o  t! x* }- r! t9 q
<br/>原准备用ODP841进行公差分配计算,但该软件是用于几何传函的计算,对小象差系统计算的结果比Zemax中的MTFT好的多,这是因为没考虑衍射效应对象差的干扰。我们设计的系统鉴别率是很高的。因此用ODP841计算偏差很大。故采用Zemax计算。<br/>: j2 [: g% h) W* D( y4 [9 g
<br/>首先介召公差计算的总体思路:<br/>! S9 w0 K1 g  b9 p: J# A
<br/>在光学设计中给所有工艺允许的总公差是: 使最差情况下的传函由于工艺因素的总下降量不大于0&#46;15 lp/mm(下降后的传函仍有MTF=0&#46;15,以便CCD仍能分辩它对应的空间频率),对于本系统就是在F=1&#46;23光圈、1H,0&#46;7H口径下允许鉴别率总下降量不大于0&#46;15 lp/mm。<br/>
3 S7 F1 W0 a9 h0 S1 L<br/>公差分配的环节有:<br/># l; c. d' k% \) v) f; ^5 `
<br/>半径、厚度1(透镜厚度)、厚度2(透镜气隙)、玻璃折射率、玻璃色散、中心偏1(加工偏心)、中心偏2(装配偏心)、余量<br/>
# k& ~0 U# R+ K! G- E<br/>上面的公差余量是为了在实际的工艺实施中,由于工艺原因必需放宽公差时,总公差允许量不致于超。<br/>- ^( N+ U  g& b/ F7 x. ~
<br/>在计算公差时,先按经验以工艺上最宽松的条件给出各结构参量的公差预定值,这样作是为了先考核最差情况对总公差的影响。当总公差不超时,也不能以此作为公差分配的最终结果,因为在工艺允许的条件下,应尽量提高成象质量,因此应减少对总公差影响大的诸结构公差,这样才能最有效的提高成象质量。<br/>
. h9 m9 v) N, g<br/>二 公差分配<br/>% p; T) P3 T* d6 {& [
<br/>1 思路<br/>3 G( X8 _' Z7 U% F
<br/>对本样例镜头,用Zemax公差计算功能时应遵循如下原则:<br/>  }7 t% ^% ?8 B6 k2 g  d5 d
<br/>(1) 因为F=2~8口径均比F=1&#46;2口径的传函高很多,因此应以F=1&#46;2口径传函为准考核传函变化量。<br/>& z6 H* y" k8 P; M
<br/>(2) 在F=1&#46;2口径的传函中,应要求0W,0&#46;7W的传函,而0W传函比0&#46;7W传函高很多,因此应以0&#46;7W视场传函为准考核传函变化量所允许的半径公差。<br/>
9 g6 v+ e$ D, X<br/>(3) 在计算传函时,应以MTF=0&#46;3为基准考核传函的空间频率。<br/>  ?4 m. L1 |9 n4 A
<br/>(4) 正态分布的蒙特卡罗数应取20以上,我们取50(此数越大,得到的公差计算结果的可信度越高,但计算量就越大)。<br/>) O/ Y2 h5 w1 |. L! A' V
<br/>(5) 用传函计算公差时,各结构变量公差预定值的给定,可参考“各结构公差计算时预定公差的给定原则”给出。<br/>
: [1 @5 @3 w+ ?2 q! A$ u/ R% f<br/>(6) 为了加速公差计算,应以光学设计中有象质要求的各种情况下,传函最低的的情况,计算公差的允许值。<br/>
4 \. Y3 w3 C/ f! U( I<br/>2 各结构公差计算时预定公差的给定原则<br/>5 i: R; [. b0 D' f8 T5 ~2 Y
<br/>2&#46;1 TFRN(光圈公差)预定公差的给定<br/>

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