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; E' ?4 O7 S7 ^<br/>一 公差分配思路<br/>
2 _' T! \3 Z/ i C, U4 |# J* t9 n" X<br/>原准备用ODP841进行公差分配计算,但该软件是用于几何传函的计算,对小象差系统计算的结果比Zemax中的MTFT好的多,这是因为没考虑衍射效应对象差的干扰。我们设计的系统鉴别率是很高的。因此用ODP841计算偏差很大。故采用Zemax计算。<br/>9 k% u4 J0 k( C+ D
<br/>首先介召公差计算的总体思路:<br/>+ | y, Y+ _& R+ J T
<br/>在光学设计中给所有工艺允许的总公差是: 使最差情况下的传函由于工艺因素的总下降量不大于0.15 lp/mm(下降后的传函仍有MTF=0.15,以便CCD仍能分辩它对应的空间频率),对于本系统就是在F=1.23光圈、1H,0.7H口径下允许鉴别率总下降量不大于0.15 lp/mm。<br/>: Y+ y5 u8 _7 e& |7 V; G) d$ Q9 ?
<br/>公差分配的环节有:<br/>8 C0 V1 D6 a0 |5 s9 R
<br/>半径、厚度1(透镜厚度)、厚度2(透镜气隙)、玻璃折射率、玻璃色散、中心偏1(加工偏心)、中心偏2(装配偏心)、余量<br/># [. C, C' e/ Q) O& r) d% T
<br/>上面的公差余量是为了在实际的工艺实施中,由于工艺原因必需放宽公差时,总公差允许量不致于超。<br/>
4 Z3 x# }) m$ @0 D- I5 [: h<br/>在计算公差时,先按经验以工艺上最宽松的条件给出各结构参量的公差预定值,这样作是为了先考核最差情况对总公差的影响。当总公差不超时,也不能以此作为公差分配的最终结果,因为在工艺允许的条件下,应尽量提高成象质量,因此应减少对总公差影响大的诸结构公差,这样才能最有效的提高成象质量。<br/>: f; `8 F/ h. r( P8 [$ e
<br/>二 公差分配<br/>
+ g1 O" H7 @' [& G' N& U# R<br/>1 思路<br/>% J" V# \5 E5 g0 Q
<br/>对本样例镜头,用Zemax公差计算功能时应遵循如下原则:<br/>
* r5 y' n2 Q7 w# ?8 f% C<br/>(1) 因为F=2~8口径均比F=1.2口径的传函高很多,因此应以F=1.2口径传函为准考核传函变化量。<br/>+ A: Q2 B0 a1 J0 Q; _2 ]
<br/>(2) 在F=1.2口径的传函中,应要求0W,0.7W的传函,而0W传函比0.7W传函高很多,因此应以0.7W视场传函为准考核传函变化量所允许的半径公差。<br/>6 d' H- \6 Q! i: z# n3 V& H5 J& Y
<br/>(3) 在计算传函时,应以MTF=0.3为基准考核传函的空间频率。<br/>/ I J y5 u. L0 u
<br/>(4) 正态分布的蒙特卡罗数应取20以上,我们取50(此数越大,得到的公差计算结果的可信度越高,但计算量就越大)。<br/>
- S" W0 |0 K, x# O [( [8 j/ m9 T<br/>(5) 用传函计算公差时,各结构变量公差预定值的给定,可参考“各结构公差计算时预定公差的给定原则”给出。<br/>$ j. R% y L; Q( d
<br/>(6) 为了加速公差计算,应以光学设计中有象质要求的各种情况下,传函最低的的情况,计算公差的允许值。<br/>
0 y$ H8 @! i- K2 }5 k+ y3 [<br/>2 各结构公差计算时预定公差的给定原则<br/>: [! M; ]$ \+ j7 o! }0 \
<br/>2.1 TFRN(光圈公差)预定公差的给定<br/> |
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