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* o1 R8 ]! c9 x% q. f6 U4 C! Q1 A* H, l# l7 n0 m' n( E
<br/>一 公差分配思路<br/>+ \, r5 Q4 E7 \) a4 v& T
<br/>原准备用ODP841进行公差分配计算,但该软件是用于几何传函的计算,对小象差系统计算的结果比Zemax中的MTFT好的多,这是因为没考虑衍射效应对象差的干扰。我们设计的系统鉴别率是很高的。因此用ODP841计算偏差很大。故采用Zemax计算。<br/>
' j i& B$ H& P7 x* R% O/ R, o<br/>首先介召公差计算的总体思路:<br/>1 U& `- \9 E; E2 \5 e% H
<br/>在光学设计中给所有工艺允许的总公差是: 使最差情况下的传函由于工艺因素的总下降量不大于0.15 lp/mm(下降后的传函仍有MTF=0.15,以便CCD仍能分辩它对应的空间频率),对于本系统就是在F=1.23光圈、1H,0.7H口径下允许鉴别率总下降量不大于0.15 lp/mm。<br/>
5 f3 l% d& ]' H) [<br/>公差分配的环节有:<br/>
2 Z# w7 M6 u+ w( Q* ^4 [<br/>半径、厚度1(透镜厚度)、厚度2(透镜气隙)、玻璃折射率、玻璃色散、中心偏1(加工偏心)、中心偏2(装配偏心)、余量<br/>
2 V+ I+ l) Y! @: d4 j+ V5 ~<br/>上面的公差余量是为了在实际的工艺实施中,由于工艺原因必需放宽公差时,总公差允许量不致于超。<br/>
& i9 q$ w% d+ b<br/>在计算公差时,先按经验以工艺上最宽松的条件给出各结构参量的公差预定值,这样作是为了先考核最差情况对总公差的影响。当总公差不超时,也不能以此作为公差分配的最终结果,因为在工艺允许的条件下,应尽量提高成象质量,因此应减少对总公差影响大的诸结构公差,这样才能最有效的提高成象质量。<br/>
+ _2 Y; B7 X( o4 c! z+ [9 q3 L# `<br/>二 公差分配<br/>% @, ^8 Y) m! x0 @; H
<br/>1 思路<br/>) O% d; _0 ]9 a: D8 o
<br/>对本样例镜头,用Zemax公差计算功能时应遵循如下原则:<br/>/ e/ n5 v8 ]+ w, k8 f; F% S
<br/>(1) 因为F=2~8口径均比F=1.2口径的传函高很多,因此应以F=1.2口径传函为准考核传函变化量。<br/>
6 [" V) z9 C; { W<br/>(2) 在F=1.2口径的传函中,应要求0W,0.7W的传函,而0W传函比0.7W传函高很多,因此应以0.7W视场传函为准考核传函变化量所允许的半径公差。<br/>
& R7 z5 J) O. J6 [, N$ x<br/>(3) 在计算传函时,应以MTF=0.3为基准考核传函的空间频率。<br/>( M# y( a) t& W2 `1 e! W% g$ _& Y
<br/>(4) 正态分布的蒙特卡罗数应取20以上,我们取50(此数越大,得到的公差计算结果的可信度越高,但计算量就越大)。<br/>) |1 E# N7 Y6 G6 d' ?. K( T- L( S
<br/>(5) 用传函计算公差时,各结构变量公差预定值的给定,可参考“各结构公差计算时预定公差的给定原则”给出。<br/>
( V: g6 D1 z5 z* E; y<br/>(6) 为了加速公差计算,应以光学设计中有象质要求的各种情况下,传函最低的的情况,计算公差的允许值。<br/>
% D- f! [' F j% O+ }) \5 W$ \<br/>2 各结构公差计算时预定公差的给定原则<br/>
* p0 ?% \+ N+ [) B. e<br/>2.1 TFRN(光圈公差)预定公差的给定<br/> |
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