|
|
<BR>
* U2 h. H5 C$ f0 d6 N# F- K9 ?/ G3 U# S- C
<br/>一 公差分配思路<br/>& b6 ?$ _% x3 b
<br/>原准备用ODP841进行公差分配计算,但该软件是用于几何传函的计算,对小象差系统计算的结果比Zemax中的MTFT好的多,这是因为没考虑衍射效应对象差的干扰。我们设计的系统鉴别率是很高的。因此用ODP841计算偏差很大。故采用Zemax计算。<br/>+ ]) x4 l3 a7 F7 n* E/ q1 k$ a
<br/>首先介召公差计算的总体思路:<br/>
" b2 I5 p/ ?1 p8 o z2 U0 S<br/>在光学设计中给所有工艺允许的总公差是: 使最差情况下的传函由于工艺因素的总下降量不大于0.15 lp/mm(下降后的传函仍有MTF=0.15,以便CCD仍能分辩它对应的空间频率),对于本系统就是在F=1.23光圈、1H,0.7H口径下允许鉴别率总下降量不大于0.15 lp/mm。<br/> x2 D g" F- p
<br/>公差分配的环节有:<br/>
+ d8 W. y" G* V; j<br/>半径、厚度1(透镜厚度)、厚度2(透镜气隙)、玻璃折射率、玻璃色散、中心偏1(加工偏心)、中心偏2(装配偏心)、余量<br/>8 c# s. i( d2 D$ t
<br/>上面的公差余量是为了在实际的工艺实施中,由于工艺原因必需放宽公差时,总公差允许量不致于超。<br/>
7 y$ w G* d; J3 }% ~. c- t5 q<br/>在计算公差时,先按经验以工艺上最宽松的条件给出各结构参量的公差预定值,这样作是为了先考核最差情况对总公差的影响。当总公差不超时,也不能以此作为公差分配的最终结果,因为在工艺允许的条件下,应尽量提高成象质量,因此应减少对总公差影响大的诸结构公差,这样才能最有效的提高成象质量。<br/>* y' z! ?/ L9 Q j6 A6 u# n3 k
<br/>二 公差分配<br/>
, S2 i! M5 l% G. A<br/>1 思路<br/>
1 Q' w+ C1 X3 O" `( D; W<br/>对本样例镜头,用Zemax公差计算功能时应遵循如下原则:<br/>. F3 G5 ?4 J9 B% I$ O
<br/>(1) 因为F=2~8口径均比F=1.2口径的传函高很多,因此应以F=1.2口径传函为准考核传函变化量。<br/>2 Z( Y% p. {+ Y; G
<br/>(2) 在F=1.2口径的传函中,应要求0W,0.7W的传函,而0W传函比0.7W传函高很多,因此应以0.7W视场传函为准考核传函变化量所允许的半径公差。<br/>
7 c" b$ a! y" c' H8 \, U/ i! q<br/>(3) 在计算传函时,应以MTF=0.3为基准考核传函的空间频率。<br/>) w" V" E) w, }2 L! @
<br/>(4) 正态分布的蒙特卡罗数应取20以上,我们取50(此数越大,得到的公差计算结果的可信度越高,但计算量就越大)。<br/>
2 h4 k7 i& A2 s% v0 ?. R8 w" ^3 q<br/>(5) 用传函计算公差时,各结构变量公差预定值的给定,可参考“各结构公差计算时预定公差的给定原则”给出。<br/>
' n: H+ ?2 b }6 s* t( P<br/>(6) 为了加速公差计算,应以光学设计中有象质要求的各种情况下,传函最低的的情况,计算公差的允许值。<br/>/ T. m. o; e' _1 N
<br/>2 各结构公差计算时预定公差的给定原则<br/>( Q- f' J" z5 i! ]2 b( t
<br/>2.1 TFRN(光圈公差)预定公差的给定<br/> |
|