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光学设计公差允许

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发表于 2006-8-29 00:06:53 | 显示全部楼层 |阅读模式
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. ^! H( c& m4 O. f& x6 D9 N" w) `3 D& W  I; M% n
<br/>一 公差分配思路<br/>& v  A! k# F3 k1 X: B' b
<br/>原准备用ODP841进行公差分配计算,但该软件是用于几何传函的计算,对小象差系统计算的结果比Zemax中的MTFT好的多,这是因为没考虑衍射效应对象差的干扰。我们设计的系统鉴别率是很高的。因此用ODP841计算偏差很大。故采用Zemax计算。<br/>
" W" Y% y5 h) B7 p6 B<br/>首先介召公差计算的总体思路:<br/>* L" {/ r: \( V: c. U1 ?1 g0 x+ B
<br/>在光学设计中给所有工艺允许的总公差是: 使最差情况下的传函由于工艺因素的总下降量不大于0&#46;15 lp/mm(下降后的传函仍有MTF=0&#46;15,以便CCD仍能分辩它对应的空间频率),对于本系统就是在F=1&#46;23光圈、1H,0&#46;7H口径下允许鉴别率总下降量不大于0&#46;15 lp/mm。<br/>
2 X9 \' `7 Z3 h8 e  A/ u# g<br/>公差分配的环节有:<br/>
9 [, N  P4 V" F0 F, b2 ]: P5 d<br/>半径、厚度1(透镜厚度)、厚度2(透镜气隙)、玻璃折射率、玻璃色散、中心偏1(加工偏心)、中心偏2(装配偏心)、余量<br/>( ?2 d/ m9 k) r) X' P/ t4 P
<br/>上面的公差余量是为了在实际的工艺实施中,由于工艺原因必需放宽公差时,总公差允许量不致于超。<br/>
* [( N! B3 f# v* p+ N<br/>在计算公差时,先按经验以工艺上最宽松的条件给出各结构参量的公差预定值,这样作是为了先考核最差情况对总公差的影响。当总公差不超时,也不能以此作为公差分配的最终结果,因为在工艺允许的条件下,应尽量提高成象质量,因此应减少对总公差影响大的诸结构公差,这样才能最有效的提高成象质量。<br/>
8 T4 g* e5 b* K) W' H<br/>二 公差分配<br/>' _  j! J! e: j; j& m: I+ x  r
<br/>1 思路<br/>" I/ R3 ?0 H% d5 x* a- c
<br/>对本样例镜头,用Zemax公差计算功能时应遵循如下原则:<br/>
3 i' T2 V2 i! S<br/>(1) 因为F=2~8口径均比F=1&#46;2口径的传函高很多,因此应以F=1&#46;2口径传函为准考核传函变化量。<br/>
8 F% }: S+ _% k' D2 N. }6 B<br/>(2) 在F=1&#46;2口径的传函中,应要求0W,0&#46;7W的传函,而0W传函比0&#46;7W传函高很多,因此应以0&#46;7W视场传函为准考核传函变化量所允许的半径公差。<br/>
' c- p3 l: s4 P7 ?+ F' c& L<br/>(3) 在计算传函时,应以MTF=0&#46;3为基准考核传函的空间频率。<br/>
! X4 E" h; E2 J, Z! M4 r4 i1 {+ J<br/>(4) 正态分布的蒙特卡罗数应取20以上,我们取50(此数越大,得到的公差计算结果的可信度越高,但计算量就越大)。<br/>
6 B! ?9 O. x& G% R$ p1 J4 U: O& V<br/>(5) 用传函计算公差时,各结构变量公差预定值的给定,可参考“各结构公差计算时预定公差的给定原则”给出。<br/>' _3 r+ ^' i& m9 }) L8 J/ Z
<br/>(6) 为了加速公差计算,应以光学设计中有象质要求的各种情况下,传函最低的的情况,计算公差的允许值。<br/>; P+ c  m2 V. G  J5 h. y  w3 V
<br/>2 各结构公差计算时预定公差的给定原则<br/>9 ]: _7 {5 Z! z% G: ?% P2 y2 ~$ C3 f. y
<br/>2&#46;1 TFRN(光圈公差)预定公差的给定<br/>
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