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2 z, E/ Q1 {# t5 u% f: f
( X; i0 s* e+ I0 Z4 z, V! C& J: R$ n0 V; [
; H9 o& D" R3 f, F<head>
b! w& G+ y7 S" u$ q, z1 [+ s* T- \2 y& [ c" M, b
<meta http-equiv="Content-Type" content="text/html; charset=gb2312"> ?! c7 W/ h+ y {/ e ]
1 V, [5 R+ I5 t& Z5 _/ M# r2 P<meta name="GENERATOR" content="Microsoft FrontPage 4.0">
* S" |# I# k8 C) w
~; H% ]+ I4 Y/ J, n4 }/ K<meta name=" rogId" content="FrontPage.Editor.Document">
. l x; M' I# t* ~1 b, M) q
6 m1 q5 R" U! s$ i% M; f! X<title>中国真空学会薄膜专业委员会培训中心招生简章</title>
" U$ n, K/ }" `' B& V0 m+ G& k2 p% ^- d* q9 ^) N
</head>
! `6 O* ~, ]: F7 t
. I; {. V- i1 p. w K+ S( d( h1 O2 d" |: L/ C1 o; ]
1 ^( Y2 {9 m- K<body>
# l/ n9 b y4 l5 w7 l+ |3 `9 w9 S
% y$ w. x' D# Z! | K) _/ ~: k
, [3 S9 F1 N1 c- v" x9 }3 h<table border="0" width="100%">
. X4 F& |, n* d0 Z+ w* P0 b- g; G9 F/ w
<tr>
4 g+ N2 G, s- s- @7 B) x m: j. D/ A; |$ E9 b( C M2 B
<td width="100%">
$ M2 s6 k* g8 L+ d* l
* {; s& | n& b+ G5 h <p align="center"></td>
/ n7 r, f! z( W9 N
, c9 |: C( T8 ?; b1 h </tr>% a- {5 W" X9 e0 v( M
3 ^( `" v% y! T3 I' X <tr>/ \( T" C. w4 o: o8 G
# V% g1 F r+ d
<td width="100%">
% @3 V5 j0 t$ p9 v% ^2 M8 D1 v
. q" T& e1 S5 ]: j! N$ z <p style="line-height: 150%"><font size="2"><b> 中国真空学会薄膜专业委员会决定</b>：自2004年起，在<b>北京</b>组建常设短期培训中心（以下简称培训中心）。由<b>潘峰</b>
/ A: @2 U2 D- L! i* t- h- X3 |3 s) W5 Y9 R
教授出任培训中心主任，中心领导小组暂时由：<b>范毓殿</b> 0 c) A. r% r* d) P- v: t( D* p
' }8 f: J. }$ U! B
教授；<b>董镛</b> 教授级高工；<b>陈国平</b> 教授；<b>王怡德</b>
4 E( A, m q# v5 N, d( S( k
. i. v3 O. K" W+ V& L: S 高工；<b>何整风</b> 高工；<b>那振兴</b> 高工组成。</font></p>
% r* s; y ^5 g G8 q2 I9 l- e4 z' ?3 i. @
<p style="line-height: 150%"><font size="2"> 培训中心设置：培训班；提高班；研讨班三种类型，分期进行。培训目标有所不同。</font></p>3 H3 o3 j% L0 r9 ]
! i; P1 L# w: ]' S0 j$ o
<p style="line-height: 150%"><font size="2"><b>培训班</b>：传授基础知识；讲解实用工艺；掌握操作技能；拓宽知识层面；了解行业概况。</font></p>7 ~+ u) \1 s# V* j4 z8 j# [1 ~* u2 _
8 Z ~5 ]9 ?( t3 h: I
<p style="line-height: 150%"><font size="2"><b>提高班</b>：围绕专题较系统地传授专业理论基础；着重了解最新技术发展动向；亲自动手参与1-2个新技术专题的实践；提高解决实际问题的能力。</font></p>5 R& {, p& W; T/ ^0 v/ P
3 s, w1 t; s- a" J <p style="line-height: 150%"><font size="2"><b>研讨班</b>：针对具体专题进行系统地讨论；参观或实际参与最新技术的实践；了解、分析与评估行业进展的实际情况；（研讨班可能与外商联合举办）。</font></p>
|! x# C* E+ k% g
/ b& S9 u7 k; q7 V, `+ O <p style="line-height: 150%"><font size="2"><b>办班原则：（1）</b>着眼於提高参与者的理论与实践水平，开阔眼界，办成真空薄膜技术工作者之家。<b>（2）</b>教师采取邀请制，博采众长。<b>（3）</b>逐步建立行业技术支持网络和信息网络。培训班和提高班结业后由中国科协颁发有效的继续教育证明书。</font></p>
$ _7 n$ a% I: S1 M. E L+ j7 `' g% Q) ? h
<p style="line-height: 150%"><b><font size="2"> </font></b><font size="2">
& f8 b9 }5 y8 D+ Z+ D! d1 S1 _* ?
每期学员20-30人，小班、面对面教学相长。理论、实践、眼界并重。可以应地区或厂家要求派讲师团上门服务（邀请方可以自行点题、点人）。教材经过积累成熟一批，印发一批。不以盈利为目的，收取维持可持续办班的最低费用。每期教学费用每人1000-2000元之间（根据实际动用的人力、物力而定），备有食、宿条件，按常规差旅费标准收费。交通费自理。上门服务按双方协议执行。培训班每期7天；提高班每期7-10天，研讨班每期3-4天。自由报名，开班前20天发出报到通知。希望您将您的要求告知我们建立联系网络，可以随时取得办班信息。</font></p>
# m' b* ?( |! U; p- M, Y
, H* v3 a* K) ?6 Q# Z/ X9 ^ <p style="line-height: 150%"><font size="2"> 初步拟订的办班专题见下表，您愿意参加哪个班请圈定后传回，开办前我们会直接与您联系。</font></p>5 r7 w% T+ u, ^1 Y* }! D+ p
1 I8 l; E" A8 f* x4 s. d
<p style="line-height: 150%"> </td>9 I3 p& u3 {9 w/ l1 j ]/ I
; O+ ?4 Q/ I8 t6 p$ f* `. u3 Y; g! K
</tr>7 F. m7 M0 \9 q, S$ ~4 ?; v8 X; S
0 ]) d" s; O( Y- H2 Y7 h0 n0 P$ Y
<tr>
, I4 ^5 D$ C7 v( `; l& `/ C$ o. ^% U7 Q; n9 H! `* Z2 T' q
<td width="100%" align="center" valign="middle">; a- j3 }7 ]% t/ k1 L. N
! g4 W* N% u" ~
<table width="664">. K& v! F, `" D! h, S' e( u) V& O
% G4 u6 D3 t% \' \9 r <tr>3 T; {6 e" C, V# A: P; p
3 H6 C6 i7 W4 j8 ], D+ c% Y8 b" ~ <td class="Normal" vAlign="top" width="200">
1 H( z$ ~6 ^# B3 ~ {- l( z* g0 q( a! f# M9 a
<p><font size="2">培 训 班</font></p> , E4 S7 U7 m# F, W- w. s/ r1 h
% ]3 G" r4 A" v, A! ^ </td> 8 E/ y- p! T& ]/ s% y
2 x# H1 G( i9 S0 f <td class="Normal" vAlign="top" width="247">
6 E5 {: g3 G1 u6 b5 c6 z0 j ^) g/ P# W
<p><font size="2"> 提 高
5 A( s3 g9 Q: p" ^4 t0 B c( A' w. y) ^# V
班</font></p>
( W8 | S' S0 j3 ^" t0 f5 r* y$ J& s0 ?8 P; b9 C; |
</td>
! I# j# n& @! ?
. Z$ o6 j3 l' t% }4 H4 G <td class="Normal" vAlign="top" width="197"> 3 h8 a; b$ P$ y. ?, y) t5 O
# a5 x2 F8 {9 _7 t; r' R
<p><font size="2"> 研 讨
3 i' P- k. Z% E/ B1 n- F% F+ c5 L
& Q4 \1 A/ E2 B2 w5 t, L7 K, P 班</font></p>
2 _5 [0 K1 x" U8 d( N+ D3 U3 X8 v7 R
</td> ' U/ T2 z. K1 s& c
+ K3 @4 h# B9 H0 K# }6 G; @+ a </tr>
# U. p5 J$ e8 f/ R+ K" s; Q9 _
. O C' t5 L$ E$ |/ v <tr> $ y1 T7 ~9 Y8 U& P! a% m" L' ~9 @
0 F+ `4 F+ U& o7 H! [" B
<td class="Normal" vAlign="top" width="200">
& C: f1 ~% U/ T+ ?+ {# U- J! g E* y# T; N" v$ [) X
<p><font size="2">真空系统使用与维修班</font></p> + I3 K) x& B3 n. d2 Y2 o
2 m" @, j- K* F! q$ U </td>
" ]( X& C g7 N' [* }: l2 p; O& j; O
<td class="Normal" vAlign="top" width="247">
% e( _7 ~- J- h3 G* O$ I5 F- `% m( [6 x5 U9 c
<p><font size="2">适合研发的镀膜机型与配置</font></p>
. ?0 I3 h! r9 U1 T! n6 S9 I+ V# s0 ?
</td>
/ ~" S) p- q) B$ k* G" y9 u+ k6 T) e9 H3 A
<td class="Normal" vAlign="top" width="197">
' o ^; u. U3 W* a$ l& ]* }$ h- h9 l( [2 N
<p><font size="2">平板显示器技术发展现状</font></p> 0 u' u/ \6 r; N+ U# f" b+ H/ t
3 U% b! e' ]3 S0 E) `) Y. C
</td>
1 _, J* h5 Y- g$ ^& R( d6 I; h2 ]1 o/ D6 ^% }9 J$ T3 h% n
</tr> 0 C9 b7 w( X. b0 i" |6 T
6 Y& K: P/ y; j# \1 J; |7 U: I
<tr> . J( f; g- W3 r5 `6 R$ d& C0 o
, ]0 w/ B, l- S0 z
<td class="Normal" vAlign="top" width="200"> : G% A/ e8 j" _ l, a% B; I
, L$ |' ]! @" ^: x* N' k <p><font size="2">磁控溅射技术培训班</font></p> # B, N" `, F% l/ Q; P/ p! {
+ n4 i% \. a/ I+ p
</td>
( a% p( `8 G8 X! q/ \- u# ]" j' U8 g7 A0 j* K c) y. a+ H
<td class="Normal" vAlign="top" width="247"> ! {8 Y0 o7 t7 ]# G- ^
$ F* \+ a9 V ~* D3 n0 W% k& Q u <p><font size="2">离子辅助镀膜的离子源选型</font></p>
4 i' _+ V8 X1 S5 `3 c$ b& p% H4 v1 D2 L1 F( F; O4 R
</td>
5 N3 k! v: o4 O$ M( U+ J$ M' U: B$ t' A# @/ |/ A
<td class="Normal" vAlign="top" width="197">
/ r9 ]: ?* w" j& U3 g% F+ f" e
! z; o- c0 N+ z <p><font size="2">新型电源与镀膜技术发展</font></p>
3 Y: n p) G3 W! p4 e2 q; i) c! m, E
</td> " a9 h) z0 K! s. Q
1 w& V% c& A7 }" j: J% l
</tr> 3 \+ P# H* _3 ^( D1 e* U
. V; Q7 r1 D1 _0 ?2 @4 N+ H/ c3 x
<tr> 2 E+ X6 X4 t, \$ p7 ^' R
5 M+ U: N+ {" y5 x <td class="Normal" vAlign="top" width="200"> $ n" _: I7 J% k4 |* d1 g
! B/ j# e; L3 ? R# |. Z1 j <p><font size="2">电子束蒸发技术培训班</font></p> 0 S( o; K p9 S, G. W4 {$ X* H
1 Y* Z$ v: |" S$ e) s |& X </td> : Z$ v; t4 S& j, t8 u" k; _
" M7 X5 J( f2 z: Q# ?
<td class="Normal" vAlign="top" width="247"> ) v- L m! Q& V3 K
* U- E& i# K# J* T# D
<p><font size="2">新发展的溅射技术原理与实践</font></p> 4 w {# u3 v6 c" Q
* y9 s$ A& n8 j0 G# B# f, H8 E' @
</td>
) c" X. Q9 b" o
" y) \/ u2 k9 ]0 R$ ]) Y( { <td class="Normal" vAlign="top" width="197">
, x. q9 Y- ?2 m y; r' }/ B4 L6 t9 u5 Y6 R2 r8 \
<p><font size="2">建筑玻璃的发展动向</font></p>
+ j: g1 Y# w0 X; e1 T* v
! X3 @4 x+ E6 r8 i </td> % ^+ Z9 z9 Q) T/ `. h# j& z, B$ B! i
7 e C! z2 A, \: Q$ ~ t7 Q </tr>
r& b: y& Y) Q3 `( t3 f
. _7 y: A2 i% B) ~9 c, n4 F <tr>
/ a6 L3 C* Y* a0 g
/ w" p- i" H9 T ~4 v* [0 r <td class="Normal" vAlign="top" width="200">
' y q& U+ E! \
( E e5 \/ S( p$ m+ K+ e9 S <p><font size="2">离子辅助镀膜技术培训班</font></p>
7 m$ L8 ~3 ?9 y: M# d0 P3 a6 T5 C% ?, A* U9 u8 D$ i
</td>
; k3 e2 K. M6 h/ ^+ Z+ L' n: ~0 Z7 |4 t( Y
<td class="Normal" vAlign="top" width="247">
2 Q6 |( G) {/ }- x; u0 {" ^9 i! |
<p><font size="2">电子束离子辅助镀膜工艺与实践</font></p>
* a. X6 C! K) ]6 \
2 W9 E$ {% _# Z </td>
+ S* u9 U* o) F4 Y' W7 j/ _! M7 a. S% C
<td class="Normal" vAlign="top" width="197"> 0 m# K$ |, P4 L) V8 r
$ |9 a' s/ r' c6 ~6 H% G+ s <p><font size="2">太阳能转换薄膜发展动向</font></p> # J2 | x1 n+ D, z' w
' d7 x' R$ t6 I. v! x- @6 p
</td> , T' E9 r0 P6 I" B% [3 n
2 w( b7 m" I3 T2 n) j+ r M
</tr>
& ~/ U/ A2 z% |
* a g* q2 s+ W" l) V7 b <tr> 4 z# P* F7 r$ g2 V3 j9 l4 Q; ~+ J
8 I" d$ n% ~# f+ }# K
<td class="Normal" vAlign="top" width="200"> 6 B# a) s* @2 w7 e. x
1 {, l( s' X, Z! Q; r8 P! A8 v& I, {1 E1 P
<p><font size="2">离子束溅射技术培训班</font></p>
5 g- n9 i6 a1 l! T, `
) t3 D3 ?" Y: q5 z8 i, ^5 k% J </td> + W: X$ Z! V. a( m5 I. ?
7 ^1 ~9 L" E: m" X4 t6 W <td class="Normal" vAlign="top" width="247">
- v. E2 u1 j6 Q9 J/ L4 O' w3 C2 p! C3 h) q0 B5 O6 v
<p><font size="2">离子辅助与离子束增强溅射技术</font></p>
0 S4 e# c& H8 m3 Q/ O1 v E8 Z6 L: v& }' T
</td> 4 Y, y- {; h: r9 v% Z, y- [
7 S2 A/ \3 T6 L2 Q) f$ ?) J J4 K
<td class="Normal" vAlign="top" width="197"> . A! E( z- j* I+ S. d& {6 D4 t
1 i& ~6 [7 V5 o' z5 u B, d <p><font size="2">硬质薄膜技术发展历程</font></p> 1 v7 {7 s' N; `! A7 X
4 U! Z9 c/ a% @) P5 w
</td>
- m. E. V& Y5 a
9 o: F$ |" y y! N" ~2 o </tr> ( x9 B& [8 N( p" h7 a7 V: R. T
" v& K( ]$ M* B/ M! ~3 s
<tr>
, ?3 p1 y6 o/ p5 ]: G6 @3 H' r# A& w
<td class="Normal" vAlign="top" width="200"> 4 _9 F" @- x" m0 h
4 d8 C9 x1 |; z H- l; k <p><font size="2">阴极电弧镀膜技术培训班</font></p> ! Q# o/ y4 \4 h' c- E
) W4 g- u2 f N3 i Q+ v, L$ b; G </td> " U8 P) C2 X$ d' O1 L+ Z
& d* ^0 Y! X- f$ u/ D
<td class="Normal" vAlign="top" width="247">
8 o. k# _- h# ] D% `8 a2 d) o, S1 t
5 E, Z5 J) F8 M0 ` <p><font size="2">切削工具的纳米涂层技术</font></p> 6 u- r) P5 a, J! B
: r! z' j' ?* O' N+ [/ j9 h. ?+ z </td> ' D) S8 t, O p7 y. q# d
$ E% u9 @, \- @ <td class="Normal" vAlign="top" width="197">
% o, N/ U) }! Y8 Z2 p/ Q: @" e
# Z: x2 N! H. `" x) x, B; F <p><font size="2">等离子体聚合技术及应用</font></p>
1 g$ w# d& C4 _, q* [9 p7 y
! o7 X; x5 ?& m- l$ d </td> $ w0 O4 J# z# _6 w
* v! r/ r# d: u7 K, `$ R
</tr> 8 f0 p7 I& h' T. ?2 C) T
! \' h" B+ R, E <tr>
. Q1 y& d/ t0 \1 O& K4 u* t8 {& B
<td class="Normal" vAlign="top" width="200"> 7 R P# |" H) S: X
4 I6 X' p1 R$ e& G, K9 _& H
<p><font size="2">反应离子刻蚀技术培训班</font></p> 1 ^9 j+ a. C/ j: k! S( G7 I. I
# x( l3 a0 g0 l6 ] @ </td>
# S' H# _8 ^7 C! k3 M
9 V9 H. V s! a {. \! R3 y. u4 X <td class="Normal" vAlign="top" width="247"> $ R$ O# c7 U9 Q7 `7 o* C
, ~4 h: B% a7 X1 }
<p><font size="2">大面积光学薄膜技术的进展</font></p> 0 _( o0 q/ ]9 J1 K
$ I( v$ ?( ?2 ~! f! q4 M </td> 2 y5 v; \2 c/ {
" V* Q* k3 W" [* N; F6 @/ {
<td class="Normal" vAlign="top" width="197">
7 R/ L3 n# _+ h/ u( h
# K" C5 W: o- y6 t, Q) p2 A: z6 W! F <p><font size="2">组合镀膜技术的探讨</font></p> ; m& ?8 D. v x Z
) D! [- o; G% `; i0 G* `- f </td> 0 J+ r" d4 G- g; v1 ^: L/ G# S* D
H# X1 Z3 s2 B$ H
</tr>
: i$ k {8 |- A2 \ b; H3 d0 D4 E& t$ D1 `% [: j
<tr> * d+ C7 D, I8 L6 s# h/ ^) r7 @
/ e1 k) O8 C! Z8 t1 B% C3 b
<td class="Normal" vAlign="top" width="200">
r V: v* M6 n2 |! T' o! V5 }! r: g% O9 I8 O5 C, A. M) G f* X& H
<p><font size="2">平板式CVD技术培训班</font></p> - r# y1 _- x+ T
) R2 X% k* ~: e$ O- ]
</td> " C4 {" r) [! m! _* o. V
1 d) u8 B6 T! e: g
<td class="Normal" vAlign="top" width="247"> : O! ^9 t+ N0 g/ F6 Q- Z0 P- h
4 t8 |3 B# a6 z" Z. J <p><font size="2">光能转换薄膜技术的进展</font></p>
( H; T+ Y- h( C- B; |" r/ s" j5 e# Y3 }: N2 v: Q# q- g: m
</td> $ k9 j3 q8 i; I
* V8 d. \; X! J6 U6 M9 i9 w' Q6 [: f <td class="Normal" vAlign="top" width="197">
8 [' q: g) q. j& D
6 K/ |0 r2 r: w9 K% y, j <p><font size="2">卷绕式镀膜技术的新进展</font></p>
# _( I5 `2 b0 U
: {$ |' A$ F/ f </td> m6 N# g: i7 Y1 F- c4 a
H! J" G8 d2 b( N& c& Q </tr>
+ T3 q' V7 [3 }+ t7 N8 K! B" e x
/ R) M$ @0 q' A* b, j" T% h! b <tr>
1 u' r2 ^) t( ~% r) v9 c1 Q
- I0 B) ^7 Y2 Y+ O+ j <td class="Normal" vAlign="top" width="200">
w# g+ X+ b( t% w" h& p8 w" ^! o
; H7 I/ E. L g- V9 Y( } <p><font size="2">卷绕式真空镀膜技术培训</font></p> 7 U$ L5 X9 j" t* M6 z d
) |. j0 r) r9 }) [* B( @ M
</td>
6 }4 U5 g" Q& s. {- e' h" E! C- i# e- k. } b/ J* P
<td class="Normal" vAlign="top" width="247">
# _; X$ U& `7 e7 K9 M
5 ^; T& P+ P: I+ {1 n% ~& R7 h <p><font size="2">脉冲与磁偏转弧镀技术</font></p>
: m- T8 e* _7 K' X* P+ M5 z0 l P5 o: R- l3 W# \' D& L U
</td>
& k& I0 J0 o i3 o$ ~/ F1 C
/ O5 I0 h4 s( Y+ x( z$ A/ E" R; c <td class="Normal" vAlign="top" width="197">
2 R+ j: @- T% w& X. h$ m9 b: V' D) N, K0 a% n0 o/ Y8 P. R4 X$ H
<p><font size="2">我国镀膜行业发展与前景</font></p> & X4 c6 E9 @: }5 B! u0 }
/ N7 y( }$ C0 i8 a8 }) V* y/ @
</td>
/ V- ^% t; d% V U5 b" I# F: i/ y8 @+ e' z* ]9 s7 ^6 O
</tr> # T& a3 H& {* P" a+ S& u
! q, P* }4 c {/ l! J0 f
</table> & n) {" o3 }' G
5 a& e9 L, K% Z6 T) z <p class="MsoBodyTextIndent" style="line-height: 150%" align="left"><font size="2">
6 W" P, I; d1 R, Q, S$ e; n7 N, g
1 Y, [ T; X; M% ]- b6 y, @: c 以上只是初步计划，还有更多，欢迎您点题，一旦开题办班，我们会及时通知您，请与我们建立联系。我们初步确定：2004年2月24日（全国真空展期间），开办第一期<b>提高班</b>，内容是：新溅射技术的原理与实践。分为：溅射技术基础；溅射技术的进展；交流磁控溅射、离子束辅助溅射、脉冲偏压溅射的原理与实践；新溅射技术开发前景4个单元。7-10天，收费每人1500元（交通费，食宿费自理）。欢迎您报名，满额30人，超过人员安排在下一期，时间另行通知。</font></p>5 n/ [& ^6 B2 X) Q9 g. I2 T2 e4 z
& ?8 u; P' r6 ?% Z <p style="line-height: 150%" align="left"><font size="2">与我们联系的方式有三种：<br>
, C. E0 g& K8 G5 w& R
$ T4 x' n0 x$ ] 北京2515信箱（100043） 中国真空学会
9 r$ S( {" @+ o7 ]5 q' h1 }- F. q* _/ J
谭 宁 收转，传真：010-68878447；<br> , l) E; J- L, X+ j9 e7 X" j
: q+ Y* S1 v6 `6 x9 ~
北京市丰台区大红门五里店路六合庄1号（100076）北京东方盖德真空技术有限公司
' J% z( y" b; C+ D7 O# n- r1 P+ i" @/ V
那振兴 收，传真：010-67243295；<br> ' k) Y, q" r% o/ n& Q
9 T. f$ w: q& } 北京市东直门外胡家园小区19楼1007号（100027）
$ U0 O( Q$ P X! X$ K1 e( V! A5 X# N, U4 j( w$ M
王怡德 收，传真：010-64640798。<br> - S; R# g+ t# \! z" ^
1 S* J( `& k1 Z: u; M 报名日期以信件或传真为准。</font></p>
4 |5 b5 {' E4 c2 h6 Y0 p5 g* {. v `
<p align="left" style="line-height: 150%"> </td>
5 g" P, h, X, Y
% E: m% T e" K# \* Q3 K2 x </tr>
0 D) J. F' M4 R0 T
8 W$ e( Y# m( G0 J: j& J</table> , C* r4 W1 M' b, R# ~, @
" Z% \6 V) v) x9 l! u' i: a
6 r7 W, O* ]; a
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发表于 2006-8-24 01:54:30
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