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光学薄膜论坛»论坛 › 薄膜工艺 › 薄膜工艺 › 膜厚的重复性问题
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膜厚的重复性问题

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txlyaya

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发表于 2006-7-24 20:24:09 | 显示全部楼层 |阅读模式
膜厚与什么关系密切？/ q: y# s1 S( K3 w  r
4 U% H$ t" G& l9 B) U! \2 o) g
速率/ 基地温度/？？？3 D" I" `( @2 s9 u. z$ {

6 t! h8 L* E8 g2 K) N; ^ 我用电子枪度铝膜，任何工艺不改动，1500A / 3500 / 1500' J) g/ ?6 \. M2 o4 l7 l5 F
先薄 --》 厚--》 薄，可是做完厚的膜以后在回来做薄的就比原来的高了，大约1700A左右。  h6 I9 H% \% z8 Z
这是什么原因造成的？7 ]1 w  \8 c) P
0 }) V& W& o/ k. L
能分析一下么？
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发表于 2006-7-30 11:43:56 | 显示全部楼层
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