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薄膜的应力控制技术研究现状

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发表于 2025-7-22 10:34:40 | 显示全部楼层 |阅读模式
  摘 要:薄膜应力普遍存在于薄膜元器件中,从而影响薄膜器件性能,限制了其良好的应用前景.所以控制薄膜的应力,消除其不良影响,是薄膜生产工艺中不可或缺的技术手段.本文对此详细阐述了几种常用的薄膜应力控制方法,并对以后研究工作的开展提出几点要求.
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  关键词:薄膜;应力;控制技术 5 v5 j/ T( v% \/ o

% f- G8 n# {( F   分类号:O484.2 文献标识码:A / z+ ]& [" e# p1 ~. o
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  文章编号:1672-7126(2008)增刊-017-05
1 p3 o2 ?, I6 F3 s. g1 r
0 t) I1 Y" {" y2 _/ p  l) w Stress Release and Control of Thin Films materials Used in Devices Fabrication
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Jiang Zhao  Chen Xuekang ' ]3 Q' l6 F: v

/ [0 D8 t2 r2 v6 b   蒋钊,联系人:Tel:13893225634;E-mail:qqq-128@163.com
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! @) x' F3 a" l9 j& _* ~' ~: M   作者单位:蒋钊(兰州物理研究所,表面工程技术国家级重点实验室,兰州,730000) 4 Z: ?. \, y2 s8 f% _) p" c. n; L

% K2 r! k: G6 h, w1 Y, M. _, P2 l- _   陈学康(兰州物理研究所,表面工程技术国家级重点实验室,兰州,730000) 1 B" R3 m6 m8 C6 S9 n
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