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摘 要：类金刚石碳膜以其优异的性能,诸如高电阻率、高硬度、低摩擦系数、良好的光学特性等显示出良好的应用前景,越来越受到人们的关注.本文利用脉冲辉光PECVD在不同的脉冲电压下成功地制备了DIE薄膜.采用拉曼光谱仪、原子力显微镜、纳米压痕仪等设备对薄膜的相结构、表面形貌和力学性能进行了综合分析.
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( r1 C7 P# P( c2 _1 A! Q% Q7 q5 v 关键词：脉冲放电;等离子体辅助化学气相沉积法;类金刚石碳膜;Raman光谱;表面形貌 ' m; P/ P) }" }: c7 e2 W6 m
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分类号：O484.1 文献标识码：A
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文章编号：1672-7126（2008）增刊-033-05 3 t/ Q4 T3 V7 W4 h( m) i
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Microstructures and Properties of Diamond-Like Carbon Films Grown by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ; [( X" @; |. ~. s
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Gou Wei Li Jianfeng Chu Xinpu Zhang Liping Li Guoqing |
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发表于 2025-7-22 10:34:36
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