脉冲辉光PECVD制备DLC薄膜的结构和性能研究

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　　摘　要：类金刚石碳膜以其优异的性能,诸如高电阻率、高硬度、低摩擦系数、良好的光学特性等显示出良好的应用前景,越来越受到人们的关注.本文利用脉冲辉光PECVD在不同的脉冲电压下成功地制备了DIE薄膜.采用拉曼光谱仪、原子力显微镜、纳米压痕仪等设备对薄膜的相结构、表面形貌和力学性能进行了综合分析.

6 K* a9 W0 a  f7 X: |  W2 v4 R/ X% d 　　关键词：脉冲放电;等离子体辅助化学气相沉积法;类金刚石碳膜;Raman光谱;表面形貌
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　　分类号：O484.1　文献标识码：A
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$ P& O0 E* y8 ~# e 　　文章编号：1672-7126（2008）增刊-033-05
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' K% a! p' J8 m: L2 W Microstructures and Properties of Diamond-Like Carbon Films Grown by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
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  Z# Y7 q- K; ?, ] Gou Wei　 Li Jianfeng　 Chu Xinpu　 Zhang Liping　 Li Guoqing