善思路' r# n1 r5 }& a! n& _
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3 G; M$ H1 X8 G! x$ W+ _1 ^9 u膜料点不良也是镀膜产品的一个常见问题,在日企、台企把膜料点称为“斑孔”,顾名思义,膜料点就是蒸镀中,大颗粒膜料点随着膜料蒸汽分子一起蒸镀到了基片的表面,在基片表面形成点状的突起,有时是个别点,严重时是成片的细点,大颗粒点甚至可以打伤基片表面。 0 J( s3 [3 G5 ~/ x
* F6 F+ r2 p& z: W8 \3 k7 a各种膜料的蒸发特性是不一样的,特别是熔点温度和蒸发温度有很大差异 " K: k/ D9 Q! d; p$ o
熔点温度大于蒸发温度的材料,由固态直接气化蒸发,是升华材料;
+ J' V( ]+ g/ i* q熔点温度小于蒸发温度的材料,由固态先化成液态尔后在转换成气态蒸发,是非升华材料; - `8 t9 e& } B. s5 D, G+ @0 e
熔点温度与蒸发温度相当的材料,由固态到气态蒸发,边融化边蒸发。是半升华材料。 2 A, p& S+ L: j
其中非升华材料最容易产生膜料点,因为液态的膜料继续加热会沸腾,沸腾中膜料中的气泡溢出,飞溅膜料点的可能性加大。有时在材料预熔时就有很大的飞溅。
- L2 K' |: D# e1 V5 }3 N t膜料受潮,预熔或蒸镀时水汽逸出,也会造成飞溅产生。 1 f/ t' Z I, _/ y4 w2 ~) o9 S4 r1 n
下表是几种常用膜料的升华特性
* s( v* Q9 D6 I' t: R膜料不纯、膜料参杂,即膜料中有了熔点温度、蒸发温度不一致的材料,这也是膜料点产生的原因。
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% C7 ]. k/ H0 q7 e3 x$ S改善思路:选用好的膜料、充分预溶、控制速率。
: w. W4 X: C# n7 _: G改善对策:
+ A( [- q7 q" E$ @ O9 m! j㈠ 选择杂质少的膜料
! q8 f5 @1 ]& n4 v$ P+ ?* _: b㈡ 对易飞溅的膜料选择颗粒合适的膜料
& s1 u$ E8 j# ~3 m$ S+ }3 n4 L㈢ 膜料在镀前用网筛筛一下 . e6 w8 \, m/ A4 j
㈣ 精心预熔,MgF2务必熔透一次蒸镀所需膜料,而Ta2O5 和TiO2必须彻底熔透。
/ T; T, H7 y1 s㈤ 用一把电子枪镀制几种膜料时,防治坩埚转动中膜料参杂及挡板掉下 膜料渣造成膜料污染。一旦发现坩埚膜料有污染,应立即更换。
/ ?2 d: r. F- q$ k" |3 H3 [+ f㈥ 尽最大可能使蒸发舟、坩埚干净。(勤打扫)。
5 z. j2 \" W6 L' {+ w㈦ 选择合适的蒸发速率及速率曲线的平滑。特别是非升华材料,蒸发速率不宜高。 7 ]- k. x! x4 z2 a
㈧ 膜料去潮,将待用膜料用培养皿盛放在真空室干燥
9 X* c2 ^. p6 i2 T- C注意:有时膜层内有一些细小的点子,有可能不是膜料点,而是灰尘点,处理的方法与膜料点不良是不同的,应严格区分,分别处理。
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