光学薄膜界面粗糙度互相关特性与光散射

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光学薄膜界面粗糙度互相关特性与光散射Optical Thin Films Interfaces Roughness Cross-Correlated Properties and Light Scattering

【作者】          潘永强；          吴振森；          杭凌侠；         

      【Author】      Pan Yongqiang1,2 Wu Zhensen2 Hang Lingxia11School of Photoelectric Engineering,Xi’an Technological University,Xi’an,Shaanxi 710032,China2School of Science,Xidian University,Xi’an,Shaanxi 710071,China)

【机构】      西安工业大学光电工程学院；      西安电子科技大学理学院；      西安工业大学光电工程学院 陕西西安710032西安电子科技大学理学院；      陕西西安710071；      陕西西安710032；      
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8 H3 ]8 k3 {% b' @0 S9 w% B            【摘要】 为了研究光学薄膜界面的互相关特性及光散射特性,介绍了光学薄膜的散射理论和模型。依据光学薄膜矢量散射的表达式,借助于总背向散射理论分析了光学薄膜界面互相关特性对光散射的影响,并用实验验证和分析了TiO2单层薄膜膜层厚度,K9玻璃基底粗糙度以及离子束辅助沉积(IBAD)工艺等因素对光学薄膜界面互相关特性的影响。结果表明,根据矢量光散射理论计算的光学薄膜界面互相关特性和光散射的关系与实验测量结果一致。随着基底粗糙度、薄膜光学厚度的增加,薄膜界面的互相关特性会变差,采用离子束辅助沉积的TiO2单层薄膜的膜层界面互相关性明显好于不用离子束辅助沉积的薄膜。 [url=]更多[/url][url=]还原[/url]

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樓主謝謝

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