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[原创] 真空电镀与其它电镀区别及工序介绍

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发表于 2013-3-9 07:25:45 | 显示全部楼层 |阅读模式
湿法工艺: ( q7 O7 \2 U" K, H! c" B% J& d5 [
   1.化学浸镀 # {- n8 I3 S( @4 f: L4 l
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   4.烫金 , ~; a7 {; ]& Q# k' q+ P
   5.熔融喷镀
, k) q6 P# N8 s; A8 n   真空蒸镀法是在高度真空条件下加热金属,使其熔融、蒸发,冷却后在塑料表面形成金属薄膜的方法。常用的金属是铝等低熔点金属。 # k# g2 w6 n4 B0 D' A) Z, f
   加热金属的方法:有利用电阻产生的热能,也有利用电子束的。
" T% J& d8 G1 k$ d3 `在对塑料制品实施蒸镀时,为了确保金属冷却时所散发出的热量不使树脂变形,必须对蒸镀时间进行调整。此外,熔点、沸点太高的金属或合金不适合于蒸镀。 7 w. v8 e9 ]' w5 t8 l6 p5 d  Y
   置待镀金属和被镀塑料制品于真空室内,采用一定方法加热待镀材料,使金属蒸发或升华,金属蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金属薄膜。
" F) O7 v0 P. V8 j* A   在真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向塑料制品过程中和其他分子的碰撞,减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应(如氧化等),从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa,对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合,则要求压力更低( 10-5Pa )。 ! D$ F$ b8 l: Z9 X3 m; W8 o+ k
   镀层厚度0.04-0.1um,太薄,反射率低;太厚,附着力差,易脱落。厚度0.04时反射率为90%。
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