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真空科学与技术的一些前沿课题(1)

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发表于 2011-3-14 14:02:28 | 显示全部楼层 |阅读模式
  真空产品生产厂家、真空行业的科技工作者每时每刻都应该掌握自己工作领域内最近、最新的学术动态,研究自己工作范围内的前沿课题,以便给自己定位,确定自己的对策,找出自己前进的方向,积极参加市场竞争,不断改革创新,才能立于不败之地。尤其是我国加入WTO之后,真空科技工作者的目光应该更远大,获取科技信息就显得更为重要,它是企业存在的保障,是科技工作者的生命线。
0 [! h  g9 W: p) w( ?3 A: _1、真空泵
" {, I, b* }6 v% p  真空泵的种类很多,可按下表进行分类。
  E% q( R# K2 r' u
" m5 d8 g+ K' Z: @, G! K9 g8 ~. }  真空泵的前沿课题主要有:①号称21世纪绿色真空泵的各种无油泵(干泵)的研制;②喷射泵、扩散泵的理论研究与设计计算;③探索创新泵的工作原理,研制新型泵。2 g2 {. y& X6 \8 B
2、真空计量% F4 g" W8 H/ _. M$ w* E0 U# n
  真空计量目前研究的主要内容有:6 J* q) [6 \9 ^6 ?6 j$ H" I
  ①真空度(全压力)测量与校准;& J1 i7 H, A+ `. I0 u' z" p8 c7 U" m
  ②真空质谱分析,分压力的测量与校准;' {# V9 t% _' Z6 w2 A2 @
  ③气体微流量(漏率)的测量与校准;; ^9 q7 q8 i$ m3 A  V( [3 d
  ④材料放气率的测量;; H9 m8 D  N& J! {& t/ s
  ⑤真空泵抽速测量。
, j$ V  }5 M/ j. s. @% T8 T. i5 k真空计量研究的前沿课题可归纳为:) D/ D2 D: i$ N0 m
  ①研究非平衡态分子流理论,非平衡态分子流校准系统,超音速分子流校准系统,为空间真空测量和校准解决难题;& Z, `% \7 L5 w2 T) [
  ②研究微小漏气率测量、校准技术;; `$ n0 R7 t+ v# ]8 v" \
  ③研究解决极高真空的测量、校准问题,寻找新的测量理论;
; e) n- ]' u4 \# V: {  ④研究材料微量放气率测量与放气成分分析技术- {. G7 g6 l6 S! [( K. l
  ⑤研究解决扩散泵返油率的测量问题,寻找新的测量方法。
4 Q6 Z2 r. d. }; s& Y, k9 T3、真空镀膜1 y0 `) g# u& ~  P' ^( |) O$ R/ e/ n
  真空镀膜是真空科学技术领域中最活跃的一门应用技术,它涉及到镀膜设备、工艺、膜材、靶材等诸多方面,薄膜的种类很多,这里只能简单论述其中的一部分。0 @9 K1 O* J/ W& Z4 H3 b
3.1、硬质薄膜7 N, R) F* L6 N" L2 L$ E
  自然界中金刚石最硬,立方氮化硼第二,碳化硼第三。
1 {1 S+ j1 z' B9 Z  A. T; k% [; N  ①金刚石膜(CVD法生产): 热丝CVD法金刚石膜沉积速率可达 2.5μm/h,HV40~50GPa;3 d$ ?3 L* j% k3 m* [( y& L
  ②B4C 碳化硼:用磁控溅射法生产,高温热稳定性好,1100℃以上,它是最硬材料,HV50.4gPa;
) g6 C8 D+ T( ]+ ?& S) v% i  ③复合膜:TiN-第1代;TiCN、TiAlN--第二代; 第三代是多组元复合膜和多层膜体系;TiN/TiCN、TiN/NbN、TiN/TiAlN、TiN/CrN、TaN/NbN(氮化钽/氮化铌),HV55.6GPa,发展成多层纳米梯度膜- TiAl、TiAl1、TiAl2、ZrN(氮化锆)。发展方向:提高膜的韧性、耐磨性、耐热性、耐蚀性。
& [0 A- B$ a$ Z% y8 d. H3.2、金刚石涂层刀具& V3 e1 J) R2 H: `
2 }" a( i2 o1 B) P4 ~
  研究方向:①提高金刚石涂层与基体之间附着力,设计中间过渡层,开发多涂层刀具; ②增大沉积面积,提高生长速率; ③研究PVD法金刚石涂层理论和工艺。
, U& ?5 A2 h; W  m3.3、光、电、 磁各种功能膜" I: x' y0 A3 a, T4 v! P- N
  这些功能膜种类繁多,性能各异,这里仅举部分例证。
- R0 D2 _. e  p8 g4 a  l& Y  ①发光薄膜:Y2O3:Eu(尿素D溶液法)Eu(射频溅射法);7 r/ o; j: c! t
  ②冷光膜- 可见光区高反射,红外光区高透射,实现冷光照射,达到保护被照物目的;
; a$ V+ l$ o) a  ③有机光电薄膜:金属酞菁膜:CuPc-PbPc;CuPc/ZnS; 酞菁氧钛具有极高光敏系数;' @) s+ ^9 V, T6 w! h8 F* N+ u" X3 V
  ④光电功能复合膜- Ag-Au-SiO2,Ag-BaO,Ag-SiO2,Ag-MgF2,其中Ag-MgF2纳米金属陶瓷薄膜具有光吸收特性,Ag-BaO具有光电发射特性;( K( v' j& V' a7 y$ ?  I
  ⑤透明导电膜:ITO(In2O3:Sn),ZAO(ZnO:Al),IMO(In2O3:Mo);
4 K# ^# x% n/ _  ⑥光致变色薄膜:18烷基取代螺吡喃薄膜(SP-18),在紫外光照下变色,在可见光照下恢复无色,可用于光信息存储、光控开关等;
+ i2 S  n: ?9 }0 V2 [5 U( _  ⑦磁光记录薄膜:PbFeCo(铅铁钴);
, V3 v% z# S" b- s- b! S/ I  ⑧超大规模集成电路(VLSI): 在Si基片上溅射Cu或Al,实现多层布线;) {/ f0 \4 M8 j6 t  ?
  ⑨半导体膜:SiC、ZnO;
# R% J: w5 X" E1 a  ⑩其它光电磁等特性功能膜:
4 C# X: f; b& _7 R; |  v2 B- P  LiF、CaF2用于平面型场发射显示器;- d1 Z# J) M/ w2 D: B
  Fe/Cr多层膜有巨磁电阻(GMR) ;6 B3 g) j9 m" j# @
  Fe=SiO2膜具有隧道磁电阻效应(TMR);) E, B" r0 T" H( ?- j' a& K% {
  TiO2膜具有优良的介电、压电、气敏和光催化功能;
4 J% {8 e1 D' V0 m! p; J  Cu-SCN-Al(有机络和物)有极性记忆效应;
( Z% @3 t1 W7 f( U* `" T9 n  三乙胺- 四氰-P-醌二甲烷(TEA(TCNQ)2)单晶是一种可以用来进行高密度信息存储的有机复合材料;
' G1 ?6 B* b( z/ L; E  YBCO属高温超导(HTS)膜。
% F  v. \) B. ^. g+ L0 q3.4、装饰膜
- }. ]5 _& C4 b; F1 e  研究方向:①对薄膜材料的研究正向复合化、 多种类、高性能、新工艺方向发展②研究复合膜的设计、性能检测、制备方法; ③研究薄膜应力( 牢固度) ;④研究大面积靶材制作技术,提高靶材利用率。
0 P1 G1 n( w2 p. e8 @/ r  `3.5、前沿课题
7 r9 E2 t- W0 o  k4 q: w4 a  ①发现具有新特性的新的膜层材料;6 o7 {, _) j0 U. s" f
  ②设计具有特殊功能的新的膜系(复合膜);
4 H8 b7 i& l  l8 b3 ~  ③发展高科技产业,例如集成电路产业,信息存储产业,平面显示器产业,包括液晶显示器(LCD),等离子体显示器(PDP), 场致发射显示器(EL);
" I) \' B0 H) i0 T7 A5 A! ~' p" z  ④深入膜层结构与特性关系等理论研究。
+ ]- b8 W9 C8 p. q, F  ]$ W" t  
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