真空工艺对环境地要求

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真空工艺对环境的要求


! R7 z2 Z2 D6 ]+ A　　常规真空工艺对环境的要求
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  d9 j" @/ a& i/ I　　所谓常规真空工艺系指没有特殊要求的真空工艺过程，这类真空装置（设备）对真空卫生的要求：

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. q' `$ @2 q+ I5 \4 B. v- L" u　　（1）凡是处于真空中的真空设备零件，都要求无积存的污染源，表面无尘埃，无铁屑、无锈蚀；

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　　（2）真空设备的真空室表面要光滑、无松软组织和气孔、无内焊缝等影响真空的缺陷；


# O0 ?2 P( f) ?$ l, P　　（3）高真空设备中，真空室内的运动部件不得用机油作润滑剂，要用饱和蒸气压低的扩散泵油、硅油作润滑剂；法兰、观察窗的密封部件要涂以高真空油脂；
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6 Z- Y& B: Z# o　　（4）真空设备一般应在温度为15～30℃，相对湿度不高于70%的清洁空气流通的环境中工作，冷却水进水温度不高于25 ℃。
电真空工艺对环境的要求
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% B: G8 ]2 Y( f　　电真空结构材料除具有良好的机械性能和加工性能外，还要满足其他性能的要求，即容易除气、低的饱和蒸气压、一定的化学稳定性、一定的纯度和清洁度、合适的辐射能力等。所以电真空工艺具有特殊性，对清洁处理要求是极为严格的，应最大限度清除或减少零件的污染。
1 H! ^* X; o9 c真空镀膜工艺对环境的要求

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: H& |6 ~  V6 v9 n6 H" @        真空镀膜工艺衬底（基片）表面的清洁处理很重要，基片进入镀膜室前均应进行认真的镀前清洁处理，达到工件去油、去污和脱水的目的。基片表面污染来自零件在加工、传输、包装过程所粘附的各种粉尘、抛光膏、油脂、汗渍等物；零件表面在潮湿空气中生成的氧化膜；零件表面吸收和吸附的气体。这些污物基本上均可采用去油或化学清洗方法将其去掉。  

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