电子枪蒸发速率曲线不稳

fanyushan

各位好！
机器配置：机器为南光1300，双电子枪（日本产）一个蒸发sio2，一个蒸发tio2，还有一个中科九章的离子源（阳极电流约5安培，阳极电压150伏特）。3600晶控。

工艺：开离子源，工件架转速30转/分，工艺时真空10-2帕，蒸发率tio2为2.5埃/分，sio2为10埃/分，充氧气。
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症状描述：在蒸发tio2和sio2时，蒸发率曲线不稳，上下有0.3-0.5埃/秒的波动。且预熔时，蒸发率曲线上就有约为0.5埃/秒的曲线。

使用历史：机器使用快两年了，工艺参数是标准工艺（不用怀疑工艺的问题）。
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" ]* f- l! O# T- V所作测量和判断：1.放置产品的罩不导电或者是兆欧姆（不同测量点）
3 e4 ^$ Z5 W" @. X  b) @                2.工件架不转动时，蒸发率曲线稳定
' B. c4 h& O6 m0 l- R/ ~                3.不开离子源时，蒸发率曲线稳定
% D2 `& X0 T8 K) T  I% m                4.离子源和工件架同时工作，蒸发率曲线就不稳
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分析：1.以前出现过类似情况，中科九章的工程师说，晶振上的遮挡板不导电了，导致离子都趋向晶振片，影响力了晶振。将遮挡板打磨后，一切ok。现在同样的方法不行。
7 i6 Q, F2 H7 k1 D8 k      2.不导电的工件架，昨天也打磨了，不行。
      3.工件架接了一根导线，连在腔体上，仍然不行。
      

3 I: u  Q; K# _+ _, R$ i' R) x& @各位，谁帮忙分析一下？？ 万般感谢！！！！！！！！！

gds

.工件架转动时，蒸发率曲线不稳定,是不是工件盘转动时产生静电?还是产生震动?
是不是主要是离子源的问题啊,
晶振探头到振荡器之间是否通?
5 X) N: V* ~5 Z: t+ a  i; F把晶振重新打磨,最好把里面用细砂纸也打磨下,看看
3 m, l, q4 ]. B9 _/ ~另外还要看看冷却水温??
; |" x: B6 V. s: Z) @' E; F) n6 G* Z还请别的高手说说

fanyushan

恢复楼上gds
: e( F% {7 {6 a8 v. i7 B& ?1.晶振重新打磨过，
# B3 [# E7 r- q2 }5 B$ g- U2.探头到晶振器之间导通
5 o' z# V" L$ q# ?: k5 O3.工件架看不到明显的抖动，但是转速调的快一点，曲线震动会小一些，但是再快的速度，蒸发率曲线不会平直
% H* V8 D5 t- X/ B9 [/ C# e/ p0 o4.水温正常
; W# z, O4 P  q7 o
: C7 Y5 a, }; u- h8 G1 n另外问一下，会产生经典么？转架和轴承都是金属的，腔体接地呀。
如果是离子源的问题，那是它是如何干扰晶振的

现在设备又无理由的好了，我郁闷呀！

weimao_liu

看来，问题还有点复杂。

1985120

希望楼主解决之后能分享经验！！！！！！！！！！！！！