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电子枪蒸发速率曲线不稳

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发表于 2010-5-18 13:21:07 | 显示全部楼层 |阅读模式
各位好!
; _3 \- V. L$ j) T; Z$ q' r- @机器配置:机器为南光1300,双电子枪(日本产)一个蒸发sio2,一个蒸发tio2,还有一个中科九章的离子源(阳极电流约5安培,阳极电压150伏特)。3600晶控。* a# J& _0 k/ N' v8 n& I9 Y: l& {
# ?' m9 R, @  N1 l" X+ R; Y
工艺:开离子源,工件架转速30转/分,工艺时真空10-2帕,蒸发率tio2为2.5埃/分,sio2为10埃/分,充氧气。
. O) }: V& S5 p' H* T& Q
; j* @1 _/ P5 p) A$ b症状描述:在蒸发tio2和sio2时,蒸发率曲线不稳,上下有0.3-0.5埃/秒的波动。且预熔时,蒸发率曲线上就有约为0.5埃/秒的曲线。8 ?/ Z' K& i3 _8 X: Q
8 U1 M2 {6 z1 Z9 U: n" O9 a2 }
使用历史:机器使用快两年了,工艺参数是标准工艺(不用怀疑工艺的问题)。# z, `/ `" O! I. E0 s1 {

; C' Q6 |) b/ |3 C- c所作测量和判断:1.放置产品的罩不导电或者是兆欧姆(不同测量点)
7 g& t3 A; ~. y' I) P! d  R                2.工件架不转动时,蒸发率曲线稳定0 Z/ Y/ T7 S( D% K/ t
                3.不开离子源时,蒸发率曲线稳定
. }# c+ l# [; b. k                4.离子源和工件架同时工作,蒸发率曲线就不稳4 o" L  `. J) F, U, q* V' D: r/ \+ g
4 ]% ^7 m' z0 Q4 P( p( B
分析:1.以前出现过类似情况,中科九章的工程师说,晶振上的遮挡板不导电了,导致离子都趋向晶振片,影响力了晶振。将遮挡板打磨后,一切ok。现在同样的方法不行。0 P4 L+ J/ {, v* i6 _
      2.不导电的工件架,昨天也打磨了,不行。
+ b  z; A) @. N1 R. c- ~0 u      3.工件架接了一根导线,连在腔体上,仍然不行。
5 n  {" c; m: u3 j1 l        `: V0 E0 W+ y
; \2 `0 C. v- H- D5 z7 e
各位,谁帮忙分析一下?? 万般感谢!!!!!!!!!
发表于 2010-5-19 03:08:42 | 显示全部楼层
.工件架转动时,蒸发率曲线不稳定,是不是工件盘转动时产生静电?还是产生震动?* [1 G+ a2 H: V
是不是主要是离子源的问题啊,
' |( s) E$ h& b8 D6 e9 H2 H- g9 S晶振探头到振荡器之间是否通?- D! ]& |" x# r) ?1 X3 A6 g
把晶振重新打磨,最好把里面用细砂纸也打磨下,看看
: b& F+ O" I1 v; c8 h另外还要看看冷却水温??; f" y" z0 D6 |
还请别的高手说说
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 楼主| 发表于 2010-5-19 13:41:41 | 显示全部楼层
恢复楼上gds
3 u' i. V& P4 V3 T+ Y8 ~: x1.晶振重新打磨过,  p: G& a3 s6 K8 N+ v
2.探头到晶振器之间导通
8 m/ {* X. Q3 B8 L9 H8 D9 [3.工件架看不到明显的抖动,但是转速调的快一点,曲线震动会小一些,但是再快的速度,蒸发率曲线不会平直
) g6 v' L3 K3 W0 L4.水温正常! I7 H5 f- ^1 u  x, @+ w

4 K3 x) m" r4 U* N5 j. K5 U另外问一下,会产生经典么?转架和轴承都是金属的,腔体接地呀。8 t5 R4 h" `+ O  s
如果是离子源的问题,那是它是如何干扰晶振的
3 v2 _6 o# j2 T
1 M- p% `4 W) L1 @# _4 z/ p- I+ ]现在设备又无理由的好了,我郁闷呀!
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发表于 2010-5-19 15:06:41 | 显示全部楼层
看来,问题还有点复杂。
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发表于 2010-5-19 15:11:29 | 显示全部楼层
希望楼主解决之后能分享经验!!!!!!!!!!!!!
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