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电子枪蒸发速率曲线不稳

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发表于 2010-5-18 13:21:07 | 显示全部楼层 |阅读模式
各位好!
  _+ N# L% A6 l5 p机器配置:机器为南光1300,双电子枪(日本产)一个蒸发sio2,一个蒸发tio2,还有一个中科九章的离子源(阳极电流约5安培,阳极电压150伏特)。3600晶控。/ \9 o9 F3 G$ @. Z% V
( c1 x& C; x& m  U( a) m& e" T
工艺:开离子源,工件架转速30转/分,工艺时真空10-2帕,蒸发率tio2为2.5埃/分,sio2为10埃/分,充氧气。
1 y8 w! F% G4 V9 R& i9 z: \# `
$ f, p# P8 c$ _$ ?) }5 a7 b症状描述:在蒸发tio2和sio2时,蒸发率曲线不稳,上下有0.3-0.5埃/秒的波动。且预熔时,蒸发率曲线上就有约为0.5埃/秒的曲线。8 g* X- k8 t# ?% y/ v, H% l) |
4 B& p* A# J, `3 `" c/ ~1 l. c
使用历史:机器使用快两年了,工艺参数是标准工艺(不用怀疑工艺的问题)。
2 d% `8 r2 t  K: A& \' @/ D# z. k" e  x2 L) v+ n6 w
所作测量和判断:1.放置产品的罩不导电或者是兆欧姆(不同测量点)
3 \# c$ j6 B. l3 }1 I8 V3 C3 e                2.工件架不转动时,蒸发率曲线稳定
% R5 D0 h) `/ i0 i, O                3.不开离子源时,蒸发率曲线稳定
0 n& W* _  H5 u7 X3 {$ G                4.离子源和工件架同时工作,蒸发率曲线就不稳% m4 Z3 m# P  `- v9 T

8 Q( L- T4 ^5 @% L: ~% |  h分析:1.以前出现过类似情况,中科九章的工程师说,晶振上的遮挡板不导电了,导致离子都趋向晶振片,影响力了晶振。将遮挡板打磨后,一切ok。现在同样的方法不行。
1 z. V7 p6 i2 z* V' l      2.不导电的工件架,昨天也打磨了,不行。
0 l' q8 R5 e4 j( E      3.工件架接了一根导线,连在腔体上,仍然不行。
) g  _* a4 }/ y  \# D5 ^- K6 z      
' W5 J. h8 k2 K9 R* j# l% p
% v; [9 h, S' a" |' Z各位,谁帮忙分析一下?? 万般感谢!!!!!!!!!
发表于 2010-5-19 03:08:42 | 显示全部楼层
.工件架转动时,蒸发率曲线不稳定,是不是工件盘转动时产生静电?还是产生震动?' W& S, t) P( G$ o  ?- `' y% k
是不是主要是离子源的问题啊,
# H" j8 j8 p/ e4 J晶振探头到振荡器之间是否通?+ p3 V- k4 `, g5 W! K
把晶振重新打磨,最好把里面用细砂纸也打磨下,看看7 _8 y$ }* t: O2 u8 b: f% z
另外还要看看冷却水温??5 f' W" U! ?- Y1 r& b
还请别的高手说说
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 楼主| 发表于 2010-5-19 13:41:41 | 显示全部楼层
恢复楼上gds
5 q6 B  m& P: F1.晶振重新打磨过,
. U7 _1 o7 B& }7 t2.探头到晶振器之间导通
! q% w5 {/ X4 g/ C4 ^: x3.工件架看不到明显的抖动,但是转速调的快一点,曲线震动会小一些,但是再快的速度,蒸发率曲线不会平直
& D+ I$ \9 B  l0 J, L# R1 t4.水温正常- R/ n% o- ~. I  w0 O8 Q; ~
5 B0 f8 h* l8 ^0 Z1 p4 E7 n
另外问一下,会产生经典么?转架和轴承都是金属的,腔体接地呀。% a! z. u$ m4 f+ a
如果是离子源的问题,那是它是如何干扰晶振的8 K) O. W1 a  }  h! i) j/ t
7 N! u: |( k6 B! D- f6 ]
现在设备又无理由的好了,我郁闷呀!
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发表于 2010-5-19 15:06:41 | 显示全部楼层
看来,问题还有点复杂。
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发表于 2010-5-19 15:11:29 | 显示全部楼层
希望楼主解决之后能分享经验!!!!!!!!!!!!!
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