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各位好!
_+ N# L% A6 l5 p机器配置:机器为南光1300,双电子枪(日本产)一个蒸发sio2,一个蒸发tio2,还有一个中科九章的离子源(阳极电流约5安培,阳极电压150伏特)。3600晶控。/ \9 o9 F3 G$ @. Z% V
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工艺:开离子源,工件架转速30转/分,工艺时真空10-2帕,蒸发率tio2为2.5埃/分,sio2为10埃/分,充氧气。
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$ f, p# P8 c$ _$ ?) }5 a7 b症状描述:在蒸发tio2和sio2时,蒸发率曲线不稳,上下有0.3-0.5埃/秒的波动。且预熔时,蒸发率曲线上就有约为0.5埃/秒的曲线。8 g* X- k8 t# ?% y/ v, H% l) |
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使用历史:机器使用快两年了,工艺参数是标准工艺(不用怀疑工艺的问题)。
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所作测量和判断:1.放置产品的罩不导电或者是兆欧姆(不同测量点)
3 \# c$ j6 B. l3 }1 I8 V3 C3 e 2.工件架不转动时,蒸发率曲线稳定
% R5 D0 h) `/ i0 i, O 3.不开离子源时,蒸发率曲线稳定
0 n& W* _ H5 u7 X3 {$ G 4.离子源和工件架同时工作,蒸发率曲线就不稳% m4 Z3 m# P `- v9 T
8 Q( L- T4 ^5 @% L: ~% | h分析:1.以前出现过类似情况,中科九章的工程师说,晶振上的遮挡板不导电了,导致离子都趋向晶振片,影响力了晶振。将遮挡板打磨后,一切ok。现在同样的方法不行。
1 z. V7 p6 i2 z* V' l 2.不导电的工件架,昨天也打磨了,不行。
0 l' q8 R5 e4 j( E 3.工件架接了一根导线,连在腔体上,仍然不行。
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% v; [9 h, S' a" |' Z各位,谁帮忙分析一下?? 万般感谢!!!!!!!!! |
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