|
|
各位好!
; _3 \- V. L$ j) T; Z$ q' r- @机器配置:机器为南光1300,双电子枪(日本产)一个蒸发sio2,一个蒸发tio2,还有一个中科九章的离子源(阳极电流约5安培,阳极电压150伏特)。3600晶控。* a# J& _0 k/ N' v8 n& I9 Y: l& {
# ?' m9 R, @ N1 l" X+ R; Y
工艺:开离子源,工件架转速30转/分,工艺时真空10-2帕,蒸发率tio2为2.5埃/分,sio2为10埃/分,充氧气。
. O) }: V& S5 p' H* T& Q
; j* @1 _/ P5 p) A$ b症状描述:在蒸发tio2和sio2时,蒸发率曲线不稳,上下有0.3-0.5埃/秒的波动。且预熔时,蒸发率曲线上就有约为0.5埃/秒的曲线。8 ?/ Z' K& i3 _8 X: Q
8 U1 M2 {6 z1 Z9 U: n" O9 a2 }
使用历史:机器使用快两年了,工艺参数是标准工艺(不用怀疑工艺的问题)。# z, `/ `" O! I. E0 s1 {
; C' Q6 |) b/ |3 C- c所作测量和判断:1.放置产品的罩不导电或者是兆欧姆(不同测量点)
7 g& t3 A; ~. y' I) P! d R 2.工件架不转动时,蒸发率曲线稳定0 Z/ Y/ T7 S( D% K/ t
3.不开离子源时,蒸发率曲线稳定
. }# c+ l# [; b. k 4.离子源和工件架同时工作,蒸发率曲线就不稳4 o" L `. J) F, U, q* V' D: r/ \+ g
4 ]% ^7 m' z0 Q4 P( p( B
分析:1.以前出现过类似情况,中科九章的工程师说,晶振上的遮挡板不导电了,导致离子都趋向晶振片,影响力了晶振。将遮挡板打磨后,一切ok。现在同样的方法不行。0 P4 L+ J/ {, v* i6 _
2.不导电的工件架,昨天也打磨了,不行。
+ b z; A) @. N1 R. c- ~0 u 3.工件架接了一根导线,连在腔体上,仍然不行。
5 n {" c; m: u3 j1 l `: V0 E0 W+ y
; \2 `0 C. v- H- D5 z7 e
各位,谁帮忙分析一下?? 万般感谢!!!!!!!!! |
|