纳米薄膜测量--激光椭偏仪

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椭圆偏振法简称椭偏法，是一种先进的测量薄膜纳米级厚度的方法。椭偏法的基本原理由于数学处理上的困难，直到本世纪40年代计算机出现以后才发展起来。椭偏法的测量经过几十年来的不断改进，已从手动进入到全自动、变入射角、变波长和实时监测，极大地促进了纳米技术的发展。椭偏法的测量精度很高(比一般的干涉法高一至二个数量级)，测量灵敏度也很高(可探测生长中的薄膜小于0.1nm的厚度变化)。 利用椭偏法可以测量薄膜的厚度和折射率，也可以测定材料的吸收系数或金属的复折射率等光学参数。因此，椭偏法在半导体材料、光学、化学、生物学和医学等领域有着广泛的应用。
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产品说明：
" ?% c4 g7 t3 V7 ~+ c- q5 _3 \4 X多入射角激光椭圆偏振仪EM01-633用于对纳米层构样品的薄膜厚度和632.8nm波长下的折射率n及吸收系数k进行快速、高精度、高准确度的测量。可用于表征：
9 Q4 q' [" G& h& z9 v 1) 单层纳米薄膜；
2) 多层纳米层构膜系；
( v4 p6 [! k+ g. [& l3) 块状材料（基底）
4）透明薄膜

EM01-633操作简单、测量快速、精度高、准确度高、稳定性好，尤其适合于科研和工业产品环境中的新品研发及质量监控。EM01-633应用领域涉及纳米薄膜的诸多领域，如微电子、半导体、生命科学、电化学、显示技术、磁介质、金属处理等。此外，高灵敏测量使得它亦可对太阳能电池等非理想的、产生杂散光的粗糙表面进行测量。
EM01-633多角度激光椭偏仪带有针对太阳能电池的测量组件，改组件被设计用于满足晶体硅电池表面氧化硅薄膜的测量需要，可以提供出色的灵敏度、精确度和重复性
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产品性能简介：

[     产品名称：激光椭偏仪
; @% U3 i3 g. L, {& f# m! [. Q8 i. _产品型号：EM-633
0 [% k! |- n4 g/ V
Multiple Angle Laser Ellipsometer
  T& `5 }# n  i- z多入射角激光椭圆偏振仪
4 J3 ^$ a; Y6 ]
1 d, \+ m& d  M
0 L3 B2 n6 o/ |产品特点：

# ]& }: j. O' W( ul        高精度、高稳定性
4 ]  q* c0 N% Q3 t
6 S) P: S* t, D! t4 U; yl        快速、高精度样品校正
0 f, P7 O9 Y0 H+ L& v
l        快速测量、操作简便
, |, O) ~* |7 }- f* S
l        多角度测量
, o  _# t: n. N; O
) r3 g  _. G/ C2 A( Jl        样品可水平或垂直放置

0 p1 c0 ?- r# v' w2 el        一体化集成设计



, B- k  X9 B5 [* ^   椭圆偏振法简称椭偏法，是一种先进的测量薄膜纳米级厚度的方法。椭偏法的基本原理由于数学处理上的困难，直到本世纪40年代计算机出现以后才发展起来。椭偏法的测量经过几十年来的不断改进，已从手动进入到全自动、变入射角、变波长和实时监测，极大地促进了纳米技术的发展。椭偏法的测量精度很高(比一般的干涉法高一至二个数量级)，测量灵敏度也很高(可探测生长中的薄膜小于0.1nm的厚度变化)。 利用椭偏法可以测量薄膜的厚度和折射率，也可以测定材料的吸收系数或金属的复折射率等光学参数。因此，椭偏法在半导体材料、光学、化学、生物学和医学等领域有着广泛的应用。
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产品说明：

. r( w- A" [0 p多入射角激光椭圆偏振仪EM01-633用于对纳米层构样品的薄膜厚度和632.8nm波长下的折射率n及吸收系数k进行快速、高精度、高准确度的测量。可用于表征：

              1) 单层纳米薄膜；
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2) 多层纳米层构膜系；
0 D+ b. A: o2 b, A
3) 块状材料（基底）

! ]8 O2 r* g! ]0 a4）透明薄膜

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" E% w6 A: D8 e, m- U% ~EM01-633操作简单、测量快速、精度高、准确度高、稳定性好，尤其适合于科研和工业产品环境中的新品研发及质量监控。EM01-633应用领域涉及纳米薄膜的诸多领域，如微电子、半导体、生命科学、电化学、显示技术、磁介质、金属处理等。此外，高灵敏测量使得它亦可对太阳能电池等非理想的、产生杂散光的粗糙表面进行测量。

. {4 T0 [& d$ u0 T EM01-633多角度激光椭偏仪带有针对太阳能电池的测量组件，改组件被设计用于满足晶体硅电池表面氧化硅薄膜的测量需要，可以提供出色的灵敏度、精确度和重复性
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2 c9 L, R) d& |/ ^产品性能简介：

               

l         高稳定性的He-Ne激光光源、高精度的采样方法，以及低噪声探测技术，保证了系统的高稳定性和高准确度；

l         样品位置校准可以保证样品调整到最佳的高度和倾斜度，从而获得最佳优信号，没有位置校准很难保证样品在合适位置，信号不能调整到最佳输出状态，测量的重复性和准确定都很难保证。
1 s+ m8 ]& F' k: U2 g3 c
4 x3 E! c* h8 r/ T* \l         高灵敏度探测器更适合于绒面太阳能电池片的弱信号测试，可以提高信噪比，保证测量结果的稳定和正确。
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' ~5 F2 \3 X( zl         采用补偿器技术可测量的△范围为0-360度，没有死角，可确定△的正负号，并可计算出偏振因子P的值，P值可从侧面评估测量结果；针对太阳能电池绒面特征，测量时P值越接近1表明测量结果可靠性越高；没有补偿器的仪器当△在0度或180度附近的测量精度非常低，也就是有两个测量死角，在测量50nm以下薄膜时折射率误差较大，当然也无法计算偏振因子P的值，也就无从判断结果的可靠性。
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) ~7 c* }' S( a8 v! Q  D. G) [l         耗材是仪器长期使用的耗费品，并会带来进一步的资金投入，EM01-PV采用了伺服电机来直接带动器件旋转，定位精度高，基本没有损耗，采用皮带传动会有打滑引起的测试稳定性问题，并周期性的带来更换的费用和不便。

! n+ C' t; S  a* Pl         高精度的光学自准直望远技术，保证了快速、高精度的样品校正；
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l         稳定的结构设计、可靠的样品位置校准，结合先进的采样技术，保证了在单入射角度下的快速、稳定测量；

+ t+ L3 q- c' _+ `, d) f# el         分立式的多入射角位置选择，可应用于复杂样品的和绝对厚度的测量；

l         仪器适应性的结构设计，保证了样品可水平放置或垂直放置，方便进行液相池中的样品测试；

l         一体化集成式的仪器结构设计，使得系统操作简单、整体稳定性提高，并节省空间；
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- S, S  T2 E, Q( |2 B# \* Al         专用软件中预定义了当前一些常见的应用（如半导体、微电子、生命科学等），可方便用户。
0 M; @) B7 Q4 J) l* M
! c! \" u/ R- k. D+ vl         内置模型数据库，免费的软件升级
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1 }7 C- U0 U& k- K) j2 s$ k
规格及主要技术指标：

4 u9 M! _* [2 k/ [4 z7 P' EEM01技术指标：
  J, U- v: W, F  d. J, c
; N3 \: H( ^0 }6 ?: y0 |激光波长:632.8nm(He-Ne laser)

激光稳定性:0.1%（rms）
- f* n) y0 Z$ _/ |3 ^. }
+ \1 E( W, u  Y7 C, [ψ和Δ的精度:δ(ψ) = 0.08°，δ(Δ) = 0.008°(入射角度为90°)

; s, q' \0 a9 J# @膜层厚度精度:0.05nm(对于Si基底上65nm的SiO2膜层)
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重复性:0.05nm(对于Si基底上65nm的SiO2膜层)
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折射率精度:1x10-3(对于Si基底上65nm的SiO2膜层)

结构:PSCA

  q) P/ l5 k4 N3 ~: g激光光束直径:1mm
4 q4 P# V3 Z+ D7 h, W, Z0 c
入射角度:手动选择，范围40°-90°，步进5°

9 }, ^+ W6 s6 B样品方位调整:
三维平移调节：±25mm（X-Y-Z）

二维俯仰调节：±4°

+ l8 L/ N9 [+ U$ I8 @) c, Y光学自准直望远系统监视:
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最大样品尺寸:Φ170mm

2 g. |+ Q  A3 I! W2 m/ O+ B5 }. Y单次测量时间:200ms

7 y# I7 }" ^- d- p) ^7 y  s推荐测量范围:0-2000nm
1 D1 H6 _  l; M8 I
$ D3 ~. `" Q  P外形尺寸(长x宽x高):980x660x430mm (入射角为90º时)
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2 D8 t& ]- E3 J4 B; Tdec-kevin@163.com

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