纳米薄膜测量--激光椭偏仪

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椭圆偏振法简称椭偏法，是一种先进的测量薄膜纳米级厚度的方法。椭偏法的基本原理由于数学处理上的困难，直到本世纪40年代计算机出现以后才发展起来。椭偏法的测量经过几十年来的不断改进，已从手动进入到全自动、变入射角、变波长和实时监测，极大地促进了纳米技术的发展。椭偏法的测量精度很高(比一般的干涉法高一至二个数量级)，测量灵敏度也很高(可探测生长中的薄膜小于0.1nm的厚度变化)。 利用椭偏法可以测量薄膜的厚度和折射率，也可以测定材料的吸收系数或金属的复折射率等光学参数。因此，椭偏法在半导体材料、光学、化学、生物学和医学等领域有着广泛的应用。
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产品说明：
多入射角激光椭圆偏振仪EM01-633用于对纳米层构样品的薄膜厚度和632.8nm波长下的折射率n及吸收系数k进行快速、高精度、高准确度的测量。可用于表征：
! K+ e$ F2 k5 T1 c 1) 单层纳米薄膜；
/ N$ `8 J, i6 H2) 多层纳米层构膜系；
3) 块状材料（基底）
4）透明薄膜
* w8 N, V3 Z% z+ C% C* Y
% H3 J; D& P- ]  TEM01-633操作简单、测量快速、精度高、准确度高、稳定性好，尤其适合于科研和工业产品环境中的新品研发及质量监控。EM01-633应用领域涉及纳米薄膜的诸多领域，如微电子、半导体、生命科学、电化学、显示技术、磁介质、金属处理等。此外，高灵敏测量使得它亦可对太阳能电池等非理想的、产生杂散光的粗糙表面进行测量。
EM01-633多角度激光椭偏仪带有针对太阳能电池的测量组件，改组件被设计用于满足晶体硅电池表面氧化硅薄膜的测量需要，可以提供出色的灵敏度、精确度和重复性

( a/ x+ k' w% `4 L4 E% M产品性能简介：

[     产品名称：激光椭偏仪
/ H) @) Z( E* n7 g产品型号：EM-633

. D' f( r9 t/ Z4 T( r& SMultiple Angle Laser Ellipsometer
多入射角激光椭圆偏振仪

2 f0 b4 A9 d% v8 }% J! G5 H
产品特点：

" H/ P! m8 }  d7 N/ _$ f2 ol        高精度、高稳定性
0 P" D3 ^# C& a& L5 S
' I- t" J# N" `+ w* H. ]l        快速、高精度样品校正
' p, ]1 u: G$ ?8 U3 z' [
l        快速测量、操作简便
( L  X7 S& ]4 h( V+ i8 G
l        多角度测量

l        样品可水平或垂直放置

" B3 ^- N% w! n5 kl        一体化集成设计


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   椭圆偏振法简称椭偏法，是一种先进的测量薄膜纳米级厚度的方法。椭偏法的基本原理由于数学处理上的困难，直到本世纪40年代计算机出现以后才发展起来。椭偏法的测量经过几十年来的不断改进，已从手动进入到全自动、变入射角、变波长和实时监测，极大地促进了纳米技术的发展。椭偏法的测量精度很高(比一般的干涉法高一至二个数量级)，测量灵敏度也很高(可探测生长中的薄膜小于0.1nm的厚度变化)。 利用椭偏法可以测量薄膜的厚度和折射率，也可以测定材料的吸收系数或金属的复折射率等光学参数。因此，椭偏法在半导体材料、光学、化学、生物学和医学等领域有着广泛的应用。
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4 H& w9 w' F6 @" E* o产品说明：
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+ R  I- Y1 s6 u3 Y% v多入射角激光椭圆偏振仪EM01-633用于对纳米层构样品的薄膜厚度和632.8nm波长下的折射率n及吸收系数k进行快速、高精度、高准确度的测量。可用于表征：

% x* F5 b) g( _              1) 单层纳米薄膜；
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1 b  o( N$ y; Q$ U2) 多层纳米层构膜系；

1 V. p  o6 @+ ?) H9 ~4 M3) 块状材料（基底）

4）透明薄膜
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. ^- Y9 q1 o% |( x, Q- d+ VEM01-633操作简单、测量快速、精度高、准确度高、稳定性好，尤其适合于科研和工业产品环境中的新品研发及质量监控。EM01-633应用领域涉及纳米薄膜的诸多领域，如微电子、半导体、生命科学、电化学、显示技术、磁介质、金属处理等。此外，高灵敏测量使得它亦可对太阳能电池等非理想的、产生杂散光的粗糙表面进行测量。
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$ q2 _+ S" T: w% L1 _+ \ EM01-633多角度激光椭偏仪带有针对太阳能电池的测量组件，改组件被设计用于满足晶体硅电池表面氧化硅薄膜的测量需要，可以提供出色的灵敏度、精确度和重复性
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/ L( Z7 K, @6 ]7 U+ [产品性能简介：
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l         高稳定性的He-Ne激光光源、高精度的采样方法，以及低噪声探测技术，保证了系统的高稳定性和高准确度；
: l( D, D6 g- @: Z  I, V' B* O
l         样品位置校准可以保证样品调整到最佳的高度和倾斜度，从而获得最佳优信号，没有位置校准很难保证样品在合适位置，信号不能调整到最佳输出状态，测量的重复性和准确定都很难保证。

l         高灵敏度探测器更适合于绒面太阳能电池片的弱信号测试，可以提高信噪比，保证测量结果的稳定和正确。

$ t- _- W& n& |8 N$ `+ d8 v  A0 Bl         采用补偿器技术可测量的△范围为0-360度，没有死角，可确定△的正负号，并可计算出偏振因子P的值，P值可从侧面评估测量结果；针对太阳能电池绒面特征，测量时P值越接近1表明测量结果可靠性越高；没有补偿器的仪器当△在0度或180度附近的测量精度非常低，也就是有两个测量死角，在测量50nm以下薄膜时折射率误差较大，当然也无法计算偏振因子P的值，也就无从判断结果的可靠性。
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; B% B; P+ l. w% S$ ul         耗材是仪器长期使用的耗费品，并会带来进一步的资金投入，EM01-PV采用了伺服电机来直接带动器件旋转，定位精度高，基本没有损耗，采用皮带传动会有打滑引起的测试稳定性问题，并周期性的带来更换的费用和不便。
  L6 a. z: c' D  ?5 y/ x$ N
l         高精度的光学自准直望远技术，保证了快速、高精度的样品校正；

l         稳定的结构设计、可靠的样品位置校准，结合先进的采样技术，保证了在单入射角度下的快速、稳定测量；

l         分立式的多入射角位置选择，可应用于复杂样品的和绝对厚度的测量；

' K, [; f2 s. c2 Z& Cl         仪器适应性的结构设计，保证了样品可水平放置或垂直放置，方便进行液相池中的样品测试；

6 q# X- r) z8 ]8 J5 Vl         一体化集成式的仪器结构设计，使得系统操作简单、整体稳定性提高，并节省空间；

l         专用软件中预定义了当前一些常见的应用（如半导体、微电子、生命科学等），可方便用户。
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l         内置模型数据库，免费的软件升级
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6 R8 ~  Y: R" N3 B$ o; K+ A规格及主要技术指标：
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6 H2 p  i; F+ g; {EM01技术指标：
: R1 [; a" ?; s: @+ t
" ]" w) f3 A7 v9 u激光波长:632.8nm(He-Ne laser)
8 e1 l0 O8 I' `% ]$ H
& I* ]  Y3 @1 d激光稳定性:0.1%（rms）
  f( t# E% g0 ^# [3 g. T3 D
6 N2 l4 r3 A; [- A* v& xψ和Δ的精度:δ(ψ) = 0.08°，δ(Δ) = 0.008°(入射角度为90°)

- a; k7 s  ]6 o/ \$ I* h膜层厚度精度:0.05nm(对于Si基底上65nm的SiO2膜层)
' Y, q: l( o! W4 o% ^+ x7 p, \! M0 X! ^
重复性:0.05nm(对于Si基底上65nm的SiO2膜层)

  R9 M$ i& N8 ?! c折射率精度:1x10-3(对于Si基底上65nm的SiO2膜层)

结构SCA

激光光束直径:1mm

+ S; A, ~- Q: P* F# o$ r入射角度:手动选择，范围40°-90°，步进5°
; y+ B" \# S; H% m1 n+ V
样品方位调整:
+ F% A; m4 M5 {* v/ s三维平移调节：±25mm（X-Y-Z）
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* d$ Q" o' I! y$ J# k; q& `二维俯仰调节：±4°

光学自准直望远系统监视:

- K+ J; B% j- Q3 M8 Z最大样品尺寸:Φ170mm

单次测量时间:200ms

推荐测量范围:0-2000nm

( O7 D2 B; V6 \7 E外形尺寸(长x宽x高):980x660x430mm (入射角为90º时)
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: ]* b, u$ n* l5 I5 x' d+ t! D" wdec-kevin@163.com

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