哪位好心人能发H4的材料库数据给我，谢谢了！！！

doudou1592

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gds

还是根据自己机器镀制后测量计算适合自己

- J5 o2 Z2 |, [* ~# D8 M2 [下面的也许对你有用：
. U- }0 t9 m- I! n  g5 G& w
镀膜材料
2008-01-02 20:28:14
TiC、CrC、TiN、TiCN、TiAlN、TiO2
! U0 x* o  K" U1 J* W$ kH4膜料的特性.膜料为一高折射率材料. 使用两种膜料来镀增透膜,SiO2通常被作为低折射率的膜料,氧化锆, 氧化钽通常被作为高折射率的膜料.然而,H4也是一种优异的高折射率膜料,优点如下：
　　TiO2:由于折射率太高不能被利用。
  T/ N1 g4 d, F+ }9 C" _# ~. K　　*稳定的折射率(即使从一个坩埚中沉积次数
　　*高度的均匀性
　　*高透光率的膜层
' Y* ?) |! o' `+ c6 |  O　　H4和SiO2一起使用也可以在未加热的基片上形成坚硬,没有吸收的膜层,因此,它是应用在树脂眼镜片上很好的膜料.H4也可以被应用在离子辅助沉积法中(IAD,IBAD)。
5 ~7 B- }" \$ s  h: P4 ^6 A　　综上所述,H4在大多数增透膜上有着其它膜料无法比拟的合优势.但是,在紫外应用中,H4则不能被考虑,此时;紫外级别的HfO2可适用。

默克公司Patinal镀膜材料类别及特性
类别
, t" H/ m- _# P5 v! [0 t材料名称
" U, b  `' l" G7 Z7 a9 C规格
3 w. Z, {, u% s* O! b$ S9 z' v& z% p折射率
透过范围
8 o4 b( ~3 k% b6 {蒸发温度(℃)
蒸发源
非金属膜料
MgF2
2 N# |7 g1 ~- V$ b% m- r1-2.5mm
' z5 E7 Q; ~/ C) f; A1.38at550nm
200-7000nm
; Y% ]7 N' ~$ ^6 y1300-1600
E.Mo,Ta,W
Si02
1-4mm
1.46at500nm
+ s6 V( P6 D5 N/ S5 L; j200-2000nm
1800-2200
E
9 A% k. b9 K' v# w' n5 S- lCeF3
2 i2 U# s. [0 v9 j) X1mm,1-4mm
1.63at500nm
9 {" \; Y: p. o* z) z300-5000nm
7 B, X$ x8 b5 z6 V1400-1600
& Y2 x: [% ~) R. c, E' b; ~E.Ta
  a- I; P5 d7 w% G. QAJ203
1-3mm
& V  {9 u) Q0 I0 C# R1.63at550nm
! R" U" D  A! ]2 {3 u9 W0 j2 U& v# s200-5000nm
2000-2200
E
Si0
粉末、颗料
1.8at1000nm
800-8000nm
+ n% B1 U8 e* s! R5 Z) N% l& @1200-1600
$ B& ^7 \1 J# R, Z. p2 LE.Mo,Ta,W
Zr02
颗粒、片状
. E% B; E) w. i( W' G0 ?2.05at500nm
320-7000nm
4 p$ Z8 f/ }* f: [约2500
E
# E7 y3 `4 ?6 x# Y* m' R% \- n. t% L4 sTa205
, ?! D6 B& q( \+ M! N& D颗粒、片状
2.1at500nm
& O8 ~( G1 o5 ?: W  q350-7000nm
2 W4 m% v- j( i  Y. x1900-2200
E
" X6 {! r; v: E9 sNb205
1-4mm
2.3at500nm
+ j5 _7 L: T% _, a# P- r% m350-7000nm
% e/ E8 l8 J6 c+ d% L) E* P2 |! B1800-1900
) f- k7 B- u7 R8 ]! @E
Ti02
13.5*6mm
3 K" p2 C9 S- {% A2.4at500nm
, h$ _% h0 Z7 u, s, c* O. G400-12000nm
2000-2200
E
/ ^7 l, y. `9 D, Q. GTi203
7 i$ P; H, X, X" b- i10.4*5.1mm
1 h& U' Z" B0 T1 [7 K9 o2.4at500nm
, v# e& ?, e7 }9 D2 W& C9 w1 k9 p5 I400-12000nm
1800-2000
E,Ta,W
+ k. C! {& o  m- r, L( S' }Ce02
1-4mm,2-3mm
. c1 m/ F  E7 h0 a& `* }2.0at500nm
400-16000nm
约2000
, J' R' ?- F! w' {* z. v$ ^# oE
特殊混合膜料
) p0 ^/ x$ ?# t( PTi0S
% ^3 Q9 c) Q$ c% Y/ \1.4mm
2.4at500nm
( r! ]2 [9 _% V360-12000nm
1800-2000
# W% s0 b- _; n% o1 bE,Ta,W
& p2 i7 A; a2 J  p: U5 |  MH5
: o. U$ w+ W. H$ Q  G- h: [0.5-2mm,1-4mm
2.2at500nm
4 u% f" c  N; |: |& Q) r350-7000nm
% r; n8 \; i' m" C约2000
% p: r  ]8 J3 M; D/ R9 j, e( kE
H2
, B8 ?) b( O. q( h$ T2 y1-4mm
2.1at500nm
! J6 g1 }6 Y- X7 z- `8 l, m( d( G400-5000nm
2000-2200
- o+ L1 T4 y. n. ]& R# ?+ x+ n7 LE,W
H4
2 V! X. ~3 ]# L4 S1 w5 {4 x6 y! V1-4mm
2.1at500nm
. `9 L6 T% z3 T+ ~360-7000nm
2200-2300
. K0 v* J1 Q. a4 v- C. T: J) {E,Mo
M1
1-4mm
* A# O1 [1 D' p* y3 C, q( u5 i1.7at500nm
$ a! O! q2 j4 b6 S7 ~2 |! ~. Q; D300-9000nm
2100-2200
; Z& e+ i/ M- C+ I5 a* F, P0 UE
M2
* N$ o, n: I! H; i1-4mm
/ j( K* t# r  \5 R, y1.7at500nm
) ~$ M- _5 ^# A4 ^1 b210-10000nm
2000-2200
" Y: Y6 r$ H- a; `% Z. CE
M3
1-4mm
1.8at500nm
5 ~$ f/ d0 I  p220-10000nm
; d8 i$ ^! U3 [2 ~: y7 Q$ N# ?$ R! n约2100
1 z9 {: ]7 U# M! r" p4 I' @E,Mo
5 j. g, y% N% B9 b, H  [L5
4 c6 l3 Y) I% z0.5-4mm
3 d) Z' c7 c0 X1.48at500nm
300-7000nm
& {7 h8 C2 ]  V3 X5 K; Z约2000
* q# N% M* L- |+ [; e& V* pE
WR1
7*5mm,11*10mm
& {1 H! N& G8 `3 G- T1.5at500nm
380-700nm
360-450
& F$ `. n: w( v' x+ p% XMo
3 P2 e4 Z* Z1 f- g3 x& J( tWR2
+ b# T) y: e9 ~2 c+ I9 G% C1 R11*5mm
1.5at500nm
+ k8 I! @9 J, K* ?  V- A9 `: @  U380-700nm
4 G, H$ }. l* C" M% R6 e360-450
2 p5 Q2 \' |' b" w# I4 K/ iE,Mo
! R/ b& G  I: iWR3
11*8mm
1.3at500nm
* m6 ^, c! }. O9 g9 T) h380-700nm
350-500
Mo
H4膜料的特性[/url]
6 V8 U9 k2 W" }$ H" @　　
& ^1 i+ N  ~+ p一、H4膜料的特性
1 p3 A9 v! m# ~0 G7 `9 k成分
钛镧混合物
5 r7 \) W' W( b6 X, r2 N0 Y8 j外观
, ^' f# d% A- i7 z1-4mm的黑色颗粒
; p6 \1 c# \) t) g/ g: q密度
5.9g/cm3
" P9 P5 [9 W/ s9 {! W熔化温度
( ^0 H2 T, n- o) o$ z1800℃
沉积温度
2200-2300℃
% }+ T9 l1 l8 f4 @- ~, ~9 V沉积源
电子束
坩埚
铜或钼
4 d3 [3 D% Z* |! ^: b" w氧气压力
0.8-2×10-4
/ G' j4 H* D  g! v沉积速率
' W# l9 b" C  i: w' ?+ q! i4 l2 |0.2-0.8 nm/秒
5 u/ l- h+ S' N" L5 E  W, W基片温度
大约30-300 ℃
二、H4膜层的特性
基片温度
# @) I9 b9 ?7 L, s. M; W  r9 f3 i大约30℃ 300℃
1 |9 _# G, ], b$ F: |( T9 [500nm时的折射率
, a' Q: i: X3 K2 `- D1.99 2.12
/ T" k5 C6 e4 B1 _2 c. H( j400 nm时的吸收
吸收边缘
- u- D# K4 y$ Q$ {300nm
- r- a) U' ~% Q+ |  P; ?*吸收边缘是指在膜厚为270nm的膜层上,透光率为80%的波长。
三、折射率的散布
基片温度
散布公式
6 w8 M  Z: V5 V大约30 ℃
, d' L% B2 a8 P6 Hn=1.887+25410/波长2
/ h2 }" J$ |% x4 z( C  c100 ℃
n=1.982+29820/波长2
' y* j$ {. M6 V- ~/ H300 ℃
, u  U$ x4 H1 g6 qn=2.009+28880/波长2
[url=http://www.jinyu-opt.com.cn/detailed/detailed01-2.html]可获得高折射率膜层的膜料
　　　有许多膜料可以得到高折射率的膜层(>2.0在500nm)。我们可以提供以下几种氧化(TiO2,TiOS,Ti2O3,Ti3O5,TiO),氧佛钽，氧化锆，氧化铪以及硫化锌。我们同时也提供独有的我我H1，H2，H4。
% g+ K, F$ N: R- |8 F+ I表1：可获得高折射率膜层的膜料的较
膜料
大约在500nm的折射率
" ]9 s& E8 O6 L0 |+ x8 ~% f透光范围
氧化钛
2.4
5 c" K: a0 ^: i# }400-12000nm
, V( y! z3 x% m2 k( O氧化锆
2.0
" o& G- ^2 U, M$ _9 F; k1 d320-7000nm
氧化铪
2.0
230-7000nm
9 c. x7 M7 T- f氧化钽
2.1
350-7000nm
7 u- O; N' z: u0 D物质H1
# U0 a- m4 {8 z+ k2 i2.1
" R. X) s+ F. K" S/ r$ H360-7000nm
0 _: J) o) W3 @. T& y9 i物质H2
2.1
400-7000nm
$ z7 G, f4 t+ q* M! |物质H4
0 h( r6 \& W9 l6 H* k2 N2.1
360
高折射率膜料的比较
膜料
2 o1 X: b! t5 X1 e特性
' X" R; _$ W1 ?5 NTIO2
" [. t2 j1 s  q4 a+400-12000nm的高透光率
+从熔化的状态下沉积
+一致的沉积 -2.4过高的折射率
7 G1 M1 }" L9 t# F5 K-熔化时有氧气放出 熔化时有溅射
Ta2O5
- m& ~7 D7 `$ N* L9 @( {* f+350-7000nm高透光率
+2.1的折射率
! `) `/ U9 U# a, X' J' w5 a+从溶化的状态下沉积
+一致的沉积
! h2 N  D- g* @. G-熔化时有氧气放出
-使用中会变成低态氧化物
+ G1 _& d2 y% l! D( o3 b-蒸镀后需锻烧
ZrO2
+320-7000nm的高透光率
+坚硬,牢固的膜层
3 T$ }; ?; C$ t, j-2.05偏低的折射率
-不均匀的膜层
2 F4 v. k5 N) k6 W3 g; L  z-蒸镀时不熔化
$ \9 n0 \" F' W9 Y% y-不一致的膜厚
1 s9 ?. A+ Z+ W, o: ]H1
+360-7000nm的高透光率
+2.1的折射率
; H/ Y8 h4 ^7 w5 _+坚硬,牢固的膜层
- z( y, V  c! g. r% e+ @+均匀的膜层
9 y: N; C8 `- M. V" O6 c7 i-蒸镀时不熔化,难操作
) }# ]5 f, h  [-不一致的膜厚
H2
+坚硬,牢固的膜层
+2.1的折射率
+一致的膜层
+蒸镀前熔化,易于操作
2 \- Q) V: R  t% I0 x+一致的膜厚
  J3 N# Z! B  t! ~. D3 S-400nm以下的低透光率
H4
/ b- q& G! o2 K1 z. @1 d' _2 n+360-7000nm的高透光率
+对可见光无吸收
+2.1的折射率
; D" j6 K( v% b; n; j( v5 K! \+均匀的膜层
+沉积前熔化
+一致的膜厚
+适合在塑料上蒸镀
, Y' _" o# C. D7 xTiOS膜料Patinal
+ ]; V9 S5 y( A8 {
* ]* s" s( _4 W" u2 _　　氧化钛是构成应用在可见光和近红外光谱范围内的反射镜,分光片,偏振片和滤光片的重要
膜层。在真空镀膜中,氧化钛膜层有着最高的折射率.SiO2/TiO2膜层设计有着很高的对比折射率,
被广泛应用在多层膜中。氧化钛薄膜可由钛的各种氧化物,甚至钛金属来蒸镀得到.如果用传统
的方法来蒸镀钛金属和TiO,很难得到没有吸收的膜层.用Ti2O3和TiO2,在优化的沉积速率,氧气
压力和基片温度下,可以得到低吸收,高折射率的薄膜。
　　TiO2在加热和熔化过程中会释放大量的氧气.即使进行充分的预热,溅射还是不可避免的.在
这个过程中,膜料还是不可避免的.在这个过程中,膜料的成分会发生变化,直到氧和钛达到一个
稳定的比率.在长时间的蒸镀后,熔化的成分变成TiOx,X的值大致为1.7.X射线分析显示,熔化物
的晶体结构为Ti3O5加上少量的Ti4O7。为了减少溅射并得到稳定光学特征的膜层,在蒸镀前必
需进行好几步的预熔。
　　为了避免时间的预热,减少溅射,默克发明了一种新的膜料TiO S颗粒。TiO S的成分和熔化
物TiO2一致,因此,只要很短的预热时间便可进行蒸镀。
TiOS熔化物的成分在蒸镀过程中不会发生改变,因此可以得到均一的膜层和稳定的折射率。
TiOS的成分为TiOx,X的值为1.7,在Ti3O5(=1.667) 和Ti4O7(=1.75)中间。
* B( K5 V& p% Z2 K3 U8 Z  
* y9 [# M# n4 _/ n, Y) I折射率为1.6-1.8的中折射率的膜料
9 M2 |* F, x2 m# {1 }# S& w
　　有许多应用需要用到中折射率的膜料,例如增透膜,分光片,偏光器等。现有合适的膜料有以下几种：
*氧化物：氧化铝，氧化镁，氧化钇
2 f+ B/ [8 ?" r& \*氟化物：氟化铅，氟化铈，氟化镧，氟化钕和其它稀有金属的氟化物
*混合物：M1，M2，M3
5 t: {1 |) F1 s2 b" s% G　　表1：可生成中折射率膜层的物质
4 l8 |5 O% L$ w1 A物质
熔化温度℃
蒸发温度℃
550nm时折射率
5 ^) `9 v& Z4 l, \8 E透过范围
AL2O3
2046
2000-2200
1.63
  P1 f! t+ l0 V* D. }200-5000
MgO
2640
6 Z2 ?* k- Z" A2 R* y1700-1900
9 L9 l- m  |  Q- d" M4 _5 W3 n2 K8 g1.7
2 y2 F+ r) `, s% K$ C0 V: |200-8000
2 S$ a. o6 _0 L& Y  R, A& N) UY2O3
& G) s$ I5 W7 O' z- V2410
8 u2 h2 q* M8 w$ s~2300
* M. f. a! i$ T) x6 e. v1.79
" `6 s: h4 b& T" Q6 Y( ^250-8000
/ p& L: |4 a6 o# qLaF3
4 z" ~3 ]/ ]5 n* M1 w* ]/ ~% U1495
1250-1450
8 ?7 j4 L# H( w: K$ U1.6
CeF3
+ V0 b5 H5 U. |8 s: y. b1460
; _2 X' H1 q1 d1200-1300
1.63
300-5000
NdF3
% [( B* K4 `( X& \! y9 }$ d' K' A1377
3 n# r# x) ~: v# t0 Z1200-1400
/ K- ^" j- x: H% m% ?1.6
DyF3
' Q  ^! \) C5 \* S, B1155
1200-1400
1.6
PbF2
855
; H/ Y4 W0 T) l  |, o900-1100
1.75
250-17000
M1
1 O; u& s1 p$ B! x( e- \~1700
~2100
1.7
300-9000
M2
5 I2 M. O! L2 b/ r% E6 p" I~1900
; B+ o/ i4 @7 n" {8 u1 ^~2100
1.7
) N. ~6 j: J- \- |: s; ~; _3 o220-10000
. a* p! D* L3 AM3
- Y- q" N; E8 S# t' e2 f3 I~1900
~2100
1.8
, I8 X" Q7 m. \220-10000
0 @1 o7 Y0 q! a2 @; x# L+ b氧化铝：
是一种传统的物质，它的膜层相当的坚硬，牢固，在紫外，可见光和红外光范围内几乎没有吸收。氧化铝只能用电子枪蒸镀。氧化铝最大的缺点是它的蒸发温度和熔化温度十分接近，因此，在蒸发时氧化铝熔化很薄的一层，导致膜厚颁布很差。在应用方面，氧化铝经常被用来在眼镜，照相机或相似的产品上镀增透膜。它也可以被用在紫外和红外应用。
5 I% w: M. A2 _$ o/ V; X6 Z氧化镁：
氧化镁很少被用来作为蒸发材料。它在500nm的时候，折射率为1.7到1.75,透光范围从220到8000nm,氧化镁的膜层对湿度和二氧化碳十分敏感,它的升华保持膜层厚度均匀变的很难。
氧化钇：
氧化钇在500nm时的折射率为1.8,透过范围从250到8000nm.它在蒸发时只在表面有很薄的一层熔化,常常会引起膜层表面的粗糙和裂缝,因此,用氧化钇很难获得均一的膜厚。
氟化铈：
8 ?8 W" ^  K  B. k6 ~( V和氟化镁一起用来作为两层增透膜的中折射率材料.55nm时的折射率为1.63.透过范围从300到10000nm.用氟化铈镀的膜层最大的缺点是不坚固,并且同次性很差.它的折射率随膜厚的增加而变大。
氟化镧,氟化钕和氟化镝：
在550nm时的折射率为1.6.但是,很难在增透膜中应用,在紫外应用中很重要。
  t  L& @8 _6 F- v2 M氟化铅：
主要应用在红外领域中。
& c9 ~4 a1 T5 u' S  ~9 q# z7 LM1,M2，M3：
4 C- @6 ]8 @, K3 p. p3 M+ o这是默克为克服氧化铝的缺点而开发的新膜料.M1,M2在500nm时的折射率为1.7,M1的透过范围从300到9000nm,M2的透过范围从220到9000nm,M1和M2只能用电子束来蒸发.M1和M2在蒸发前就完全熔化,可镀在加热或未加热的基片上.膜层相当密集,并且暴露在空气中不湿气的影响。M3在500nm时的折射率为1.8.它的蒸发温度和熔化温度很接近,因此,必须小心的控制。M1,M2,M3的折射率受蒸发速率及氧气压力的影响很小,并且,即使在多次熔化蒸镀及不断的膜料补给的情况下,折射率仍相当稳定。M1,M2和M3的应用包括增透膜,分光片,偏光片等。
" n* R3 H1 N3 o# U" XM1,M2和M3的应用
# B: Y& |3 u3 O# @! W3 o
　　M1,M2和M3的应用包括增透膜,分光片,偏光片等，实例如下：
　　M2十分合适和MgF2一起在接合的玻璃镜上组成分光偏振片。在折射率为1.52的玻璃棱镜上,当入射角为45度时,P的反射几乎消失了.此膜层特别适合于LCD投影系统中。
' }  ?' S3 ~0 [; D　　膜层设计：1.52-(HL)10H-1.52(21层) L:MgF2,n=1.38? H:M2,n=1.7入射角为45度，设计波长为500nm，S在500nm时的反射为99.94%，P为0.005%.P在整个波段的反射小于0.01%(如图1)
　　M2也十分适合在高折射率(n=1.625)的玻璃上镀宽带增透膜.最简单的设计是三层膜:基片(n=1.625)-1.7(λ/4)-2.1(λ/2)-1.38(λ/4)-1(λ0=510nm)反射曲线如图2所示.在415到660nm的波段上反射小于0.5%。
+ E3 r& m6 h7 x# Z$ V) }/ }" G
5 X  s5 g6 d1 D, w* z% I! @' J" t
图1



% j& `+ g+ n8 [1 ]# ^$ @" O　　M1在从近红光到近紫外的波段内有很高的透过率,在300nm时有吸收.它也能从熔化的状态下被蒸发,具有良好的同次性和均匀的膜厚.此物质适合于在高折射率的镜片上镀增透膜.图4显示了在高折射率(n=1.625)的玻璃基底上用Al2O3(n=1.65)M1和(n=1.7)的3层增透膜的反射曲线的比较.从中可以看出用M1的效果要好得多．

2 N# h( a( W8 }8 _$ g3 s3 i　　我们也可以仅用氧化物来镀增透膜.图5显示了用SiO2(n=1.46)和H4(n=2.15)的膜系,当然膜厚不再是简单的1/2或1/4光学厚度.有时候会需要很薄的膜厚,在膜厚和折射率上微小的变动都会有很大的影响,因此相对于经典的3层膜系来说要难得很多.从中可以看出,3层膜在中间波段有最低的反射率,但是4层膜C有着3层膜无法实现的从400到700nm宽广的低于0.5%的反射。
' x0 U! y- ?/ C+ q9 Q
用于塑料基底的增透膜
7 m, n6 z( S& q1 F
　　在塑料基底上镀膜,我们无法在镀膜过程中加热基底.因此,我们必须在膜料的选择上倍加小心,以确保它能在低温下形成稳定的膜层.此外,由于温度偏低,折射率也随之变低,因此,相应的膜定的膜层.此外,由于温度偏低,折射率也随之变低,因此,相应的膜层设计也要改变.MgF2不能在低温下被蒸镀，因为只有在200℃以上的温度时它才能形成稳定的膜层。因此，我们只能选择氧化物来蒸镀。
7 V6 k8 T9 _% Z4 e: v　　我们可以使用下列氧化物：
品名
在塑料基底上的折射率
2 J! O2 n0 ]2 h4 s9 kSiO2
1.45
/ \7 ]3 O+ w, P3 C, Y( WAl2O3
% g/ @, n4 G5 y6 m* r9 D1.62
M1
* t/ W( V  [- a8 ?1.65
Y2O3
0 n' s2 ^- ~6 c6 @1.8
% }; A( Y% G* d5 u( p8 QZrO2
/ E/ @2 s/ F2 q1.9
H1
6 V3 H& Q8 q, `+ l- n1.95
H4
" {7 [8 E& e- f0 x: s: D) U1.95
TiO2
" Z4 y- o3 h' I, P% T+ @1.9-2.0
　　H2不能在低温下被蒸镀，因为它在蓝光波段有吸收。
　　最常用的塑料基底是：
品名
- j3 o  `- }) F# ]$ u在塑料基底上的折射率
8 i4 G6 [0 @# V2 {; p9 iCR39
( W8 ^( |4 t0 x1.5
9 ]7 e# Y0 V6 A8 q8 ~聚碳酸酯
; Y1 H7 u1 l. E" `  U; o1.59
( X/ C9 z' Y5 _1 ]5 r9 t3 C* ]/ VPMMA
1.48-1.50
7 p' ?6 u  ~! {5 B3 t+ s9 W! ]1 b) g+ U1 W　　下图显示了由M1,H4T和SiO2组成的3层增透膜的反射曲线,在从390到750nm的波段上的反射率小于1%.同时,一个5层膜也被显示在图上作为比较落后,它的反射曲线在415到680nm的波段上反射率小于1%,并且在中间波段有相当低的反射率。

. L) P+ J3 |$ @9 A  K! n　　下图显示了由M1,H4,SiO2组成的3层增透膜在聚碳酯基底上的反射曲线，在从390到750nm的波段上反射率小于1%。同时，一个5层膜也被显示在图上作为比较，它的反射曲线的低反射段比较窄，但是在中间波段有相当低的反射率。

tfc3.5

理论的找做磨料的就行

gchtang

gds 你太强了 111

飞鸿2009

好东西哦i
  W; d& g- _, F0 A。。。。。。。。。

mxbplayboy

学习中！！！！