离子束溅射中的基片温度及其控制方法

gds · 发表于 2009-8-5 03:28:58

离子束溅射中的基片温度及其控制方法

[会议论文] 贾嘉, 陈新禹，2004 - 中国光学学会2004年学术大会

离子束溅射技术以其在制备薄膜中的独特优点，成为获得高性能薄膜材料的重要手段。对于薄膜的制备，基片的温度是一个重要参数。本文主要从薄膜结构、应力和附着力三个方面总结了基片温度对离子束溅射工艺中薄膜生长的影响，并...

yupo54 · 发表于 2009-8-5 15:57:09

看看，谢谢

doctor · 发表于 2009-8-6 03:05:12

困难很大啊!

deepsky · 发表于 2009-8-6 20:03:43

啥意思啊，发个摘要在这

gds · 发表于 2009-8-7 00:00:01

引用第3楼deepsky于2009-08-06 12:03发表的 :3 b8 O7 g& l. k W! S" T1 h! A+ H
啥意思啊，发个摘要在这

附件：
%bb子束溅射中的基片温度及其控

制方法.rar (434 K) 下载次数:0

		自动登录	找回密码
密码			注册

[转贴] 离子束溅射中的基片温度及其控制方法

本帖子中包含更多资源