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最近碰到一个难题7 r5 x( f W0 f6 x/ b+ T2 u( {
特殊材料如ZF51,lak2
( _! }- B0 B3 Q镀AR膜,* |8 O% ]$ X6 T7 x* M
第一层开离子源,镀SIO2, {! k. A/ ^' l8 }6 V- D: U
镀完之后
$ e ]2 o2 O/ B2 |; H- \5 d# G" ]放置一两天+ Q( a6 @, c3 M5 F c7 e
基片就开始长印子,长路子0 s# c; F2 N @; E
镀后光洁度很好% d! q) S2 R: P7 ^
就是在生产过程中
6 k/ C' E( D6 O0 M5 |5 D$ ?冷加工中间有加入硝酸锌
7 `- c/ O* z7 w其他工艺没变
4 S$ r5 i! x0 ~9 Y( p& J4 D" o8 B大家看看 有没有发生类似的事件 |
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