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推荐KMAC ST2000-DLXn光学薄膜测厚仪

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发表于 2009-3-11 14:44:07 | 显示全部楼层 |阅读模式
  KMAC 简介
; s7 M3 g1 F; q6 o3 l4 n5 p3 v3 u6 M6 F; _3 T, e
K-MAC(株)公司附属韩国物理性质分析研究所,主要开发生产具有高科技含量的 物理化学分析仪器和应用仪器。K-MAC(株)公司在北京设有分公司,可为您提供 及时的售前、售后服务。方便您的研究、生产。
" u: l# h! X3 ?: F  设备简介
+ ?- O7 N+ }# V' U+ x  t1.特点
: c# H0 e; U% q7 T- @l 操作简单易懂  l 非接触式、非破坏式测量方法  l 可同时测量多层膜厚度  l 原地测量  l 价 格合理
4 w  L6 Z$ l% I9 E/ s! G# s2.应用领域
! _! |: G+ U2 f/ ]/ y3 l' j9 X半导体    Poly-Si, GaAS, GaN, InP, ZnS, SiGe ...5 r' l1 X* u; }! h( K1 N
绝缘材料    SiO 2 , Si 3 N 4 , TiO 2 , ITO, ZrO 2 , BTS, HfO 2 ...1 R# O3 J# Z$ ^
聚合物    PVA, PET, PP, PR ...# o/ p! I! x: ]

: Z% r; E5 p* X, NLCD    a-Si, n+a-Si,Oxides, ITO, Cell Gap, Photoresist & Polyimide! }% L( e; p9 J# j
Film9 V/ H  P7 B4 T1 _$ f' _$ }
光学镀层    Hardnes Coating, Anti-Reflection Coating, Filters, Packing & Functional Film ...
/ g) j- g6 T- v: ?2 F" J( {可纪录材料    Phtosensitive Drum, Video Head, Optical Disk ...
" a( y8 {; }- Z/ T% s2 t; g其它    Photoresist Film on CRT & Shadow Mask, Thin Metal Films, Laser: G7 r- A/ e- {
Mirrors ...
( f# x! S' l$ z7 H' z4 e3.可用的基片
+ B7 T1 m8 d7 |. k* KSilicon    SOI    Al 2 O 3    Aluminium# j2 j2 U. Y3 s) \: R4 y
SOS    GaAs    Glass    ......! s  D% j! h0 C& n3 b
软件7 h$ k; ~4 R$ I
⊙  实时测量
' x7 q! ~) |: [0 H⊙  再现性好(精度可达 1A 以下)
* f: r0 Y* Y; M) k  f⊙  厚度及光学常数(折射率、消光系 数)8 I, Y* E- t, G1 Y
⊙  一次最多 3 层薄膜测量
  f& y0 q- z3 d; L⊙  测量结果制图0 E# Q6 N: g. ~8 R8 u6 |
⊙  X-Y-Z 移动控制
- j0 u# o6 ^  Q% N' Y; e- Y( G, k⊙  CCD 影像显示
  w2 P8 ?2 i4 w# n⊙  自定义测量过程1 {/ v* W2 ^# v9 {  f
⊙  打印预览模式) t1 _  q5 u( j% I) Z' I. y9 g1 d
! H2 Y" i+ N4 m8 l# N" a" }3 g% y
4.分光反射镜的工作原理, W! W4 d( n/ r( b8 Q
利用可见光非接触式测量 光源与信号通道 如右图所示,钨-卤光源发出的光通过 光学显微镜入射到样片上的薄膜上,然 后从薄膜表面和基底反射的光通过入射 光纤探针内中间的一个发射光收集光纤 又入射到分光计(spectrometer)。这 个反射光由探测器里的光栅根据波长分 解后,由 CCD 转换成电子信号,再由 A/D 转换器转换成数字信号,最后通过通讯 端口输入到电脑进行分析。
) R( B9 P/ g5 p干涉频谱5 C4 \- }+ l/ e5 d
–  相干光  →  表面反射  + 薄膜  / 底层反射  = 干 涉现象  →  相长  / 相消干涉(与波长有关). O7 R4 J; J3 Z& q/ }) b; _& V
) e8 y- n5 w  a& k  h$ G& b( n
光谱拟合薄膜厚度2 j7 A$ e; v  i/ h
–  在波长范围里测量频谱的正弦波型由 薄膜厚度和  N&K 值决定+ e& l8 v- n& K! |: C
–  由拟合计算测定频谱来优化薄膜厚度 和  N&K 值
/ R  B! d* O* {0 C' H4 ]& t5 z! V; b
4 E- g8 l& H6 L) ^- i5技术指标
: l7 B% F* w9 q, G8 h3 K类型    手动对焦& [% X/ X4 Y% l6 l
测量样本尺寸    ≤ 4"5 k8 b. W6 L. I( v3 F
特点    快速测量  &  操作简单
+ v* L# b2 t9 V, @基于用户友好界面的 Windows 操作 图像打印功能  &  数据保存
; v4 N5 w/ M2 z. m$ M" e) H/ `" t平台尺寸    150 x 120mm(70 x 50mm  行程)
& D' d5 F! V/ y+ w% S  U测量范围    200Å~ 35 ㎛
9 O% O+ I5 N; G. x光斑大小    一般 20 ㎛- n' r# I2 A" Q" o0 ?0 [: u
测量速度    1~2 sec./site
5 t1 Z. u: C# T7 p# _2 f应用领域    Polymers : PVA, PET, PP, PR ... Dielectrics :   
. ]4 d" O3 L* O- m8 @Semiconductors: Poly-Si, GaAs, GaN, InP, ZnS.... ~/ a6 ~, p! v  \, x
物镜    三目镜头
8 Y" E& ], s9 x  w; ^0 ~目镜    内倾四孔转换器 t+ z5 ^1 N& G  b! X' S1 _" U% v
  ) {( h' ~' w3 o7 M% O# {4 Y
) e3 Z0 U4 c* d& n4 Q
刘先生
' N4 g9 r. x; V* O! b . }1 U) y; k# w' S( ~2 m
   
# k: l* G* S* [( K1 e北京燕京电子有限公司   - U. ?" S7 ^3 w$ K
Beijing Yanjing Electronics co.,ltd.   # t! O2 }' Z, A0 t4 Y* g
            3 K. Q2 S+ T" b- d7 x
地址:北京市朝阳区酒仙桥东路9号A2座西区7层   
; y. X6 q/ q/ I邮编:100016   2 {0 {' ]- |' g( Z0 c/ Q
Tel: 86-10-5823-7160   
' Q- q  W9 K' tFax: 86-10-5922-2787   
! D" C$ [; n9 _  V7 ]9 Q5 i- cMsn:po663340@hotmail.com  
2 S* ^+ w% Y2 @! X7 ]E-mail: liusp@beijingec.com

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发表于 2009-4-7 10:38:59 | 显示全部楼层

新加的空白文章3

这是新加的空白文章3,可以在UBB可视化编辑器中,添加和修改文章内容。
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发表于 2009-6-13 13:02:03 | 显示全部楼层

狂顶

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 楼主| 发表于 2009-11-2 18:32:14 | 显示全部楼层
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