长期供应美国transene 公司铬（Cr），锡(Sn) 蚀刻液

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供应CHROMIUM ETCHANT 1020、CHROMIUM ETCHANT 1020AC、CHROMIUM MASK ETCHANT、CHROMIUM CERMET ETCHANT TFE 等四种铬蚀刻液以及Indium Tin Oxide Etchant TE-100 锡蚀刻液。其中
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; r" Q$ U4 b! _CHROMIUM ETCHANT 1020
/ c- ^: p2 J' j- A) x0 [（铬蚀刻液1020）纯度高、蚀刻速度快（40埃/秒），蚀刻精度高，蚀刻液与正负胶相容性好，使用后用去离子水清洗即可
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% _, v- {+ O! ]. b$ w; s, s3 O9 hCHROMIUM ETCHANT 1020AC
（铬蚀刻液1020AC）不含硝酸、蚀刻速度慢从而消除蚀刻过程中的钻蚀（截槽），蚀刻液与正负胶相容性好，使用后用去离子水清洗即可

8 x! j% T3 X3 l9 I, Y9 L6 CCHROMIUM MASK ETCHANT
（铬掩膜蚀刻液）高精度的光掩护蚀刻液，无毒害，可视化的蚀刻控制，能精确到亚微米尺度，蚀刻液与正负胶相容性好。

CHROMIUM CERMET ETCHANT TFE
（铬金属陶瓷蚀刻液）专门用于蚀刻沉积在铜、镍或金属上的含铬金属陶瓷，本蚀刻液只与负胶有良好的相容性。
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Indium Tin Oxide Etchant TE-100 锡蚀刻液能有效蚀刻涂覆在陶瓷、绝缘体、半导体、以及多种金属上的氧化锡以及氧化锡铟涂层，本蚀刻液与正负胶有很好的相容性。

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! j$ P" M- J" b$ D7 T0 f/ ~" X
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% ^- b" n$ V/ d3 v6 l联系方式：021-61021226（范先生）
  p3 v4 k0 l1 r4 z邮箱：wangdongmei@eccn.com