电子束、离子辅助和离子束溅射三种工艺对光学薄膜性能的影响

显示全部楼层 · 发表于 2007-10-21 19:42:17

电子束、离子辅助和离子束溅射三种工艺对光学薄膜性能的影响
王英剑李庆国范正修中国科学院上海光学精密机械研究所,上海201800摘　要:运用电子束、离子辅助和离子束溅射三种镀膜工艺分别制备光学薄膜，包括单层氧化物薄膜和增透膜,然后采取一系列测试手段．如Zygo轮廓仪、原子力显微镜、表面热透镜技术和X射线衍射等技术，来分析和研究不同的工艺对这些薄膜性能的不同影响．以判断合理的沉积工艺。

关键词:电子束离子辅助离子束溅射薄膜特性
分类号:　O484.4文献标识码：文章编号：栏目信息：
相关文献:主题相关

spacerover21 · 发表于 2006-1-6 05:41:53

thanks!

asdf · 发表于 2010-2-5 04:17:30

研究研究

asdf · 发表于 2010-2-5 04:22:22

研究研究

usagichen · 发表于 2010-7-5 22:30:44

我也来研究研究的啦

xj2008cg · 发表于 2011-7-14 13:14:59

谢谢楼主好资料

		自动登录	找回密码
密码			注册

[原创] 电子束、离子辅助和离子束溅射三种工艺对光学薄膜性能的影响

本帖子中包含更多资源