氮化铝薄膜的光学性质(英文) 5 q4 F* q. u0 M+ i
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【作者】 刘文. 王质武. 杨清斗. 刘毅. 卫静婷. 唐伟群. .
' a8 [/ ^0 L/ E6 r9 \【刊名】 硅酸盐学报 2007年05期 编辑部Email $ b/ |" Z) C6 a, @
《中文核心期刊要目总览》来源期刊 “中国期刊方阵”入选期刊 ASPT来源刊 CJFD收录期刊 - r* ?& U+ t; o5 R5 T4 F0 t
【机构】 深圳大学光电子学研究所 广东省光电子器件与系统重点实验室. 光电子器件与系统教育部重点实验室. 深圳大学师范学院. 深圳518060. / i$ U9 D& ]4 r M. Q( C) V
【关键词】 氮化铝. 石英衬底. 折射率. 吸收系数. 透射光谱.
& u" C7 w, y" k4 X) Q0 R【聚类检索】 同类文献 引用文献 被引用文献 : D6 d9 [: b8 |+ i w
【摘要】 采用直流磁控溅射法在石英衬底上制备了氮化铝(AlN)薄膜。用 X 射线衍射仪分析了薄膜结构。利用椭圆偏振仪和紫外/可见/近红外分光光度计对 AlN 薄膜进行了相关光学性能的研究,获得到了薄膜的折射率随波长的色散关系曲线。在波长为 250~1 000 nm,薄膜的折射率为 1.87~2.20。结合透射光谱图,分析了 AlN 薄膜的光学性质。结果表明:利用磁控溅射方法可以获得(100)择优取向 AlN 薄膜;AlN 薄膜在 200~300 nm 远紫外光范围内具有强烈的吸收,在 300~1000 nm 波长范围内具有良好的透过率。 : b6 q. F+ w! {# Z; w3 b
【光盘号】 SCTB0706 |