用于辅助镀膜的霍尔等离子体源
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【会议录名称】 '2001全国荷电粒子源、粒子束学术会议论文集 , 2001 年
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- o3 Z$ g& U. O7 \6 e【作者】 尤大伟; 黄小刚; 武建军;
1 c/ x+ K% I# o+ Y/ j5 C, D【作者单位】 中科院空间中心; ; A$ @2 @( u7 l K! ?: p/ Z
【会议名称】 '2001全国荷电粒子源、粒子束学术会议 ) m. L$ D" I& t
【会议地点】 中国深圳
+ D+ _# H% p2 u. K. A/ A9 s5 v9 s【主办单位】 中国电工技术学会电子束离子束专业委员会、粒子加速器学会离子源专业组、中国电子学会焊接专业委员会、北京电机工程学会加速器专业委员会
( _$ m. @: H# K; g/ [) f( m$ O. O& h【学会名称】 中国电工技术学会；中国物理学会 ' n t, o# N1 L
【主编】 耿漫、过骐千
R' C& k0 u; Q5 |【关键词】 光学镀膜; 离子束辅助镀膜; 等离子体加速;
2 r- n$ x' I q! g. O$ V/ i【论文摘要】 上个世纪八十年代以来,人们在制造高质量的光学薄膜时,更加重视等离子体离子的动量传递的辅助作用,它对改进膜的附着力、致密度、吸收度、折射率、结晶结构都大有益处。 目前普遍使用的有栅考夫曼或射频离子源,无栅的APS源均具有控制精确、能量单色性好及束发散角小的优点。但又具有结构复杂、体积庞大的缺点。在电推进技术地面应用的发展过程中考夫曼发展了无栅霍尔源技术,它很适合辅助镀膜工艺,其特出的特点是小型化,结构紧凑、易于拆装;只需二个简单的电源就可以产生满足辅助镀膜所需要的低能(平均能量40-150ev)、大束流(200-1000ma)、大均匀区(40cm)。为了满足光学辅助镀膜的需要,我们设计制造了6cm霍尔等离子体离子源。该源主要性能如下: 源尺寸(直径×长度)φ14cm×14cm;真空室直径φ50-100cm;照射距离30-50cm;离子束平均能量40-120ev;离子束流可到 400ma;工作压力<3×10~(-4)Torr;磁场:永久磁铁;气体流量5-10 Sccm。 该源具有较大的能散度及较大的发散角,此外工作的稳定性要受工作气压的影响。 本文论述了该源的工作原理,讨论并测... # I% y; e0 E' p7 C0 z
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发表于 2007-3-31 18:24:57
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发表于 2007-3-31 18:45:24
