退火对ZnO薄膜的结构和光学性质的影响
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【会议录名称】 2006年国防光学及光电子学学术研讨会暨中国兵工学会光学专业委员会成立25周年年会论文集 , 2006 年
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5 Q% S3 H8 [7 ~【作者】 朱桂芳; 徐军; 孔令剑; 曹付允; 李喜来; # V K8 R" Q9 J# i7 u: ~
【英文论文作者】 ZHU Gui-fang; XU Jun; KONG Ling-jian; LI Xi-lai1 CAO Fu-Yun （ Experiment Center; The Second Artillery Engineering Institute; Xian; China） （ Xian Jiaotong Univ; China） （ The Second Artillery NCO Academy; Qingzhou; China）;
; y: H( Z2 F7 ^【作者单位】 第二炮兵工程学院实验中心; 第二炮兵士官学校;
+ c, w* W: l# V# \; F, V8 `; {# O【会议名称】 2006年国防光学及光电子学学术研讨会暨中国兵工学会光学专业委员会成立25周年年会
# q4 e& @" [$ h【会议地点】 中国北京 & p0 u9 {3 Y W* R) [% |; T4 }7 ~
【主办单位】 中国兵工学会光学专业委员会 5 n8 T( v% W( Y$ m
【学会名称】 中国兵工学会光学专业委员会
5 c. ]0 {1 w% W5 T) r【主编】 揭德尔 4 `: }& w" r/ G) ~4 N& t" {0 k
【关键词】 光学材料; ZnO薄膜; 光致发光; 射频磁控溅射;
% y2 V+ m; W1 p. M# P: a" o【英文论文关键词】 optical materials; ZnO films; photoluminescence; radio frequency magnetron sputtering;
' S y2 `3 C% t E【论文摘要】 采用射频磁控溅射法在Si衬底上制备了高c轴择优取向的ZnO薄膜,研究了退火对ZnO薄膜的晶粒尺度和发光光谱的影响。XRD结果显示退火可以改善ZnO薄膜的结构特性,PL谱结果显示退火对ZnO薄膜的发光强度产生很大影响。
6 C6 u: u* Y6 K i+ s- F, S【英文论文摘要】 ZnO thin films with strong c-axis prefered orientation have been successfully deposited on Si substrate by using reactive radio frequency magnetron sputtering. The influence of annealing on the microstructure and photoluminescence (PL) properties of ZnO films was investigated by X-ray diffraction (XRD)and photoluminescence (PL) measurement. The XRD results shows that annealing can improved the crystallinity of the obtained films. The PL of ZnO films were affected by annealing in different ambients can affec... |
发表于 2007-3-31 18:20:07
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发表于 2007-3-31 18:36:03
下载还要钱钱哦 可怜 想看又看不到 既然是交流的地方 又何必设那么多门槛呢 让人找得到 看不到. 伪啊
无语了 下载下来了么有打不开 谁能说下用什么软件打开?PDF WORD都不行 打不开