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[求助] 晶振所测厚度不稳定

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480
发表于 2007-2-9 21:37:29 | 显示全部楼层 |阅读模式
各位大虾,2 Z: {# A/ S' W

. g$ `* M" u0 J1 A我现在用蒸镀机是Kronos的QM-311 thickness monitor,镀的MgF,但是同一条件下镀出来厚度极不稳定,monitor 上0.8kA,实际厚度可能是36uinch,12uinch....请问一下这种不稳定的情况是什么原因造成的,是否和晶振类型有关?我用的是gold type的晶振,需不需要用alloy type的呢?
! M+ r7 I$ Q' a/ u0 I) I- C6 Z& v# Z% i  T. u. a2 M; m
紧急!
. P' }9 |8 ]; k: Q( z( X- ^; L# [. S) @* ^; d
谢谢!

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318
发表于 2007-2-25 21:05:56 | 显示全部楼层
晶控仪不适合控制MGF2,每镀一次要换晶片,如果与别膜料交替,可以多几层.
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