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[原创] 薄膜干涉在检查光学元件表面时应用的分析与探讨

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发表于 2007-1-3 19:36:22 | 显示全部楼层 |阅读模式
【篇名】    薄膜干涉在检查光学元件表面时应用的分析与探讨 8 I% h6 h7 L  @6 ^2 ~, K
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5 b6 E- k, ^- v$ D  i【作者】  郭小花. .  
1 K6 ~1 d! A. T" y0 T  R4 c【刊名】   科技资讯    2006年25期    编辑部Email  - g8 t+ v( c8 q
CJFD收录期刊  - y3 U7 @; g; Y# `4 h
【机构】  天水师范学院数信学院 甘肃天水741001.  
5 ~# T& g$ |" z# M. _' g【关键词】   光学元件. 干涉条纹. 被检表面. 样板.  
9 t# n" f/ ^9 S% O3 P5 @【聚类检索】  同类文献   引用文献   被引用文献      Z" u% z1 R# j" [
【摘要】  在制造光学元件时,常常需要得到十分精确的平面、球面等,为此我们必须检查元件表面的质量,最简单的方法是用样板检验。我们通过观察干涉条纹的形状来判断被检表面的缺陷,从而进行相应的磨制,最终达到我们的标准要求。  
. G# {7 c7 @8 S. W/ ]" X% B5 H" o【光盘号】  SCTA0611S1

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