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" L" Z% O6 _' b$ d6 `- N& x2 S5 d" F: B7 t' t4 X7 d# o( `
<br/>一 公差分配思路<br/>" d# y1 o% e' f9 ^ w
<br/>原准备用ODP841进行公差分配计算,但该软件是用于几何传函的计算,对小象差系统计算的结果比Zemax中的MTFT好的多,这是因为没考虑衍射效应对象差的干扰。我们设计的系统鉴别率是很高的。因此用ODP841计算偏差很大。故采用Zemax计算。<br/>- `8 {% g# _- M
<br/>首先介召公差计算的总体思路:<br/>- X' B: Q M0 z8 [9 F4 ^! c
<br/>在光学设计中给所有工艺允许的总公差是: 使最差情况下的传函由于工艺因素的总下降量不大于0.15 lp/mm(下降后的传函仍有MTF=0.15,以便CCD仍能分辩它对应的空间频率),对于本系统就是在F=1.23光圈、1H,0.7H口径下允许鉴别率总下降量不大于0.15 lp/mm。<br/>/ z4 S% s4 c' l, Y9 v
<br/>公差分配的环节有:<br/>
6 A6 [# h" p; R; a e. |<br/>半径、厚度1(透镜厚度)、厚度2(透镜气隙)、玻璃折射率、玻璃色散、中心偏1(加工偏心)、中心偏2(装配偏心)、余量<br/>
^1 o0 C7 \& s<br/>上面的公差余量是为了在实际的工艺实施中,由于工艺原因必需放宽公差时,总公差允许量不致于超。<br/>2 O- ^5 H4 [5 l1 e% i
<br/>在计算公差时,先按经验以工艺上最宽松的条件给出各结构参量的公差预定值,这样作是为了先考核最差情况对总公差的影响。当总公差不超时,也不能以此作为公差分配的最终结果,因为在工艺允许的条件下,应尽量提高成象质量,因此应减少对总公差影响大的诸结构公差,这样才能最有效的提高成象质量。<br/>
" K- p. X/ E, Q+ [<br/>二 公差分配<br/>. Y8 Y/ P1 Z) f0 {
<br/>1 思路<br/>9 u2 }2 {, Y$ n# M
<br/>对本样例镜头,用Zemax公差计算功能时应遵循如下原则:<br/># s6 h( n- o, u. c, g# @
<br/>(1) 因为F=2~8口径均比F=1.2口径的传函高很多,因此应以F=1.2口径传函为准考核传函变化量。<br/>3 t' p* S' x3 U% z' Q) h" w, C; D
<br/>(2) 在F=1.2口径的传函中,应要求0W,0.7W的传函,而0W传函比0.7W传函高很多,因此应以0.7W视场传函为准考核传函变化量所允许的半径公差。<br/>
* Q1 z6 g z5 s9 i8 `<br/>(3) 在计算传函时,应以MTF=0.3为基准考核传函的空间频率。<br/>. W; i7 z' h1 s4 A1 t, S+ M
<br/>(4) 正态分布的蒙特卡罗数应取20以上,我们取50(此数越大,得到的公差计算结果的可信度越高,但计算量就越大)。<br/>
6 M! a, g8 S( u9 E8 A4 h" z<br/>(5) 用传函计算公差时,各结构变量公差预定值的给定,可参考“各结构公差计算时预定公差的给定原则”给出。<br/># f2 F! z5 s" G) D1 N$ ?: t
<br/>(6) 为了加速公差计算,应以光学设计中有象质要求的各种情况下,传函最低的的情况,计算公差的允许值。<br/>
1 `- Q7 @, w$ Q( m; e/ q2 m. e0 G<br/>2 各结构公差计算时预定公差的给定原则<br/># G" P& w5 K$ C8 x0 U
<br/>2.1 TFRN(光圈公差)预定公差的给定<br/> |
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