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<br/>一 公差分配思路<br/>! G9 D# W( a* Y) K
<br/>原准备用ODP841进行公差分配计算,但该软件是用于几何传函的计算,对小象差系统计算的结果比Zemax中的MTFT好的多,这是因为没考虑衍射效应对象差的干扰。我们设计的系统鉴别率是很高的。因此用ODP841计算偏差很大。故采用Zemax计算。<br/>
) @" j& p% f8 s0 I/ [7 r<br/>首先介召公差计算的总体思路:<br/>( c0 d! F$ j4 d
<br/>在光学设计中给所有工艺允许的总公差是: 使最差情况下的传函由于工艺因素的总下降量不大于0.15 lp/mm(下降后的传函仍有MTF=0.15,以便CCD仍能分辩它对应的空间频率),对于本系统就是在F=1.23光圈、1H,0.7H口径下允许鉴别率总下降量不大于0.15 lp/mm。<br/>/ M" n, c- X9 |7 z3 V# }9 b
<br/>公差分配的环节有:<br/>- n0 J( I( p. D6 j' B9 T
<br/>半径、厚度1(透镜厚度)、厚度2(透镜气隙)、玻璃折射率、玻璃色散、中心偏1(加工偏心)、中心偏2(装配偏心)、余量<br/>
8 B6 R# f$ q+ [; n' Z0 |<br/>上面的公差余量是为了在实际的工艺实施中,由于工艺原因必需放宽公差时,总公差允许量不致于超。<br/>
2 L& @- w0 A* w3 b: O9 s<br/>在计算公差时,先按经验以工艺上最宽松的条件给出各结构参量的公差预定值,这样作是为了先考核最差情况对总公差的影响。当总公差不超时,也不能以此作为公差分配的最终结果,因为在工艺允许的条件下,应尽量提高成象质量,因此应减少对总公差影响大的诸结构公差,这样才能最有效的提高成象质量。<br/>, Y! L3 H5 B J1 [$ a$ o) H
<br/>二 公差分配<br/>
$ r, t$ ?! X1 z, B% B<br/>1 思路<br/>
4 I4 v0 s' z1 h2 Q<br/>对本样例镜头,用Zemax公差计算功能时应遵循如下原则:<br/>
8 ^; ]1 o3 y) w. Q* T<br/>(1) 因为F=2~8口径均比F=1.2口径的传函高很多,因此应以F=1.2口径传函为准考核传函变化量。<br/>
+ j V5 _ v9 H9 w% ]: w9 f<br/>(2) 在F=1.2口径的传函中,应要求0W,0.7W的传函,而0W传函比0.7W传函高很多,因此应以0.7W视场传函为准考核传函变化量所允许的半径公差。<br/>
; p6 H2 W* X& [/ r<br/>(3) 在计算传函时,应以MTF=0.3为基准考核传函的空间频率。<br/>. x+ i0 Q" _6 S% Z
<br/>(4) 正态分布的蒙特卡罗数应取20以上,我们取50(此数越大,得到的公差计算结果的可信度越高,但计算量就越大)。<br/>
; a$ n. x( d* A/ k, _. a6 ^ A' f<br/>(5) 用传函计算公差时,各结构变量公差预定值的给定,可参考“各结构公差计算时预定公差的给定原则”给出。<br/>. a: }# [" k+ y0 n2 l3 o, k
<br/>(6) 为了加速公差计算,应以光学设计中有象质要求的各种情况下,传函最低的的情况,计算公差的允许值。<br/>5 K( V$ T6 F4 {; A5 h# p
<br/>2 各结构公差计算时预定公差的给定原则<br/>
4 k$ T2 T1 l- ?<br/>2.1 TFRN(光圈公差)预定公差的给定<br/> |
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