离子束溅射Ta2O5薄膜光学性质的热处理研究
本帖最后由 zkyioe 于 2018-5-2 07:13 编辑离子束溅射Ta2O5薄膜光学性质的热处理研究
使用离子束溅射法,在熔融石英衬底上沉积Ta2O5薄膜,并将Ta2O5薄膜置入100℃到500℃的环境中退火.通过XRD、透过率光谱、面吸收测试,研究了热退火温度对Ta2O5薄膜折射率与面吸收的影响.总结了退火温度与薄膜折射率与面吸收的对应关系,并给出简单的理论解释.该结论对Ta2O5薄膜的制备及光学性能调控提供一定的参考价值.
**** Hidden Message *****
离子束溅射Ta2O5薄膜光学性质的热处理研究
5 a, L1 M) {; S0 W1 W9 n6 r, H
了解一下工艺内容 学习下 666666666666 学习学习
页:
[1]