基本薄膜材料特点(2)
名称：二氧化硅（SIO2）经验告诉我们：氧离子助镀（IAD）SIO将是SIO2薄膜可再现性问题的一个解决方法，并且能在生産环境中以一个可以接受的高速度蒸着薄膜。
SIO2薄膜如果压力过大，薄膜将有气孔并且易碎，相反压力过低薄膜将有吸收并且折射率变大，需要充分提供高能离子或氧离子以便得到合乎需要的速度和特性，必要时需要氧气和氩气混合充气，但是这是热镀的情况，冷镀时这种情况不存在。
SIO2用於防反膜，冷光膜，滤光片，绝缘膜，眼镜膜，紫外膜。
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透光范围（nm）
N （550nm）
蒸发温度（℃）
蒸发源
应用
杂气排放量
200-2000
1?46
1800-2200
电子枪
少
昇华
无色颗粒状，折射率稳定，放气量少，和OS-10等高折射率材料组合制备截止膜，滤光片等。
名称：一氧化硅（SIO）
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透光范围（nm）
N （550nm）
蒸发温度（℃）
蒸发源
应用
方式
600-8000
1?55at550nm
1?8at1000nm
1?6at7000nm
1200-1600
电子枪钼钽舟
冷光膜
装饰膜
保护膜
昇华
制程特性：棕褐色粉状或细块状。
熔点较低，可用钼舟或钛舟蒸蒸日上发，但需用加盖舟因为此种材料受热直接昇华。
使用电子枪加热时不能将电子束直接打在材料上而采用间接加热法。
制备塑胶镜片时，一般第一层是SIO，可以增加膜的附着力。
名称：OH-5（TIO2+ZrO2）
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透光范围（nm）
N （550nm）
蒸发温度（℃）
蒸发源
应用
排放杂气量
300-8000
2?1
约2400
电子枪
增透
一般
蒸气成分为ZrO，O2，TIO，TIO2
棕褐色块状或柱状。
尼康公司开发之专门加TS--ユート系列抗反射材料。
折射率受真空度，蒸发速率，O2压力的影响很大。
蒸镀时不加氧或加氧不充分时，制备薄膜会産生吸收现象。
名称：二氧化镐（ZrO2）
ZrO2具有坚硬，结实及不均匀之特性。该薄膜有时需要烘乾以便除去它的吸收。其材料的纯度及为重要，纯度不够薄膜通常缺乏整体致密性，它得益於适当使用IAD来增大它的折射率到疏松值以便克服它的不均匀性。目前纯度达到99?99/基本上解决以上问题。Sainty等人成功地使用ZRO2作为铝膜和银膜的保护膜，该膜层（指ZrO2）是在室温基板上使用700eV氩离子助镀而得到的。一般为白色柱状或块状，蒸气分子为ZrO，O2。
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透光范围（nm）
N （500nm）
蒸发温度（℃）
蒸发源
应用
排放杂气量
320-7000
2?05
2 at 2000
约2500
电子枪
加硬膜
增透膜
眼镜膜
一般
制程特性：
白色颗粒状，柱状或块状，粉状材料使用钨舟或钼舟
颗粒状，粉状材料排杂气量较多，柱状或块状较少。
真空度小於2*10-5 Torr条件下蒸发可得到较稳定的折射率，真空度大於 5*10-5 Torr 时蒸，膜折射率会稍下降。
材料连续蒸着时会産生不均质性，即开始折射率为2随着光学厚度的增长，折射率逐渐变小。
蒸镀时加入一定压力的氧气可以改善其材料之不均质性。
名称：氟化镁（MgF2）
MGF2作为1/4波厚抗反射膜被普遍使用来作玻璃光学薄膜，它难以或者相对难以溶解，而且会大约120nm的真实紫外线到大约7000nm的中部红外线区域里透过性能良好。Olsen，Mcbride指出从至少200nm到6000nm的区域里，2?75mm厚的单晶体，
MgF2是透明的，接着波长越长吸收性开始增大，在10000nm透过率降到大约2%，虽然在8000—12000nm区域作为厚膜具有较大的吸收性，但是可以在其顶部合用一薄膜作为保护区层。
不使用IAD助镀，其膜的硬度，耐久性及密度随基板的温度的改变而改变的。在室温中蒸镀，MgF2膜层通常被手指擦伤，具有比较高的湿度变化。在真空中大约n =1?32，堆积密度82%，使用300℃蒸镀，其堆积密度将达98%，n =1?39它的膜层能通过消除装置的擦伤测试并且温度变化低，在室温与300℃之间，折射率与密度的变化几乎成正比例的。
在玻璃上冷镀MGF2加以IAD助镀可以得到300℃同等的薄膜，但是125—150eV能量蒸镀可能是最适合的。在塑胶上使用IAD蒸氟化镁几乎强制获得合理的附着力与硬度。经验是MGF2不能与离子碰撞过於剧烈。
透光范围（nm）
N （550nm）
蒸发温度（℃）
蒸发源
应用
排放杂气量
200-7000
1?38
约1100
电子枪
钼钽钨
增透
装饰
眼镜
少
MgF2
（MgF2）2
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制程特性：折射率稳定，真空度和速率的变化影响小
预熔不充分或蒸发电流过大易産生飞溅，造成镜片“木”不良
在挡板打开後蒸发电流不要随意加减，易飞溅。
白色结晶颗粒，常用於抗反射膜，易吸潮。购买时考虑其纯度。
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