oplvjhmkha 发表于 2012-2-25 14:52:16

导电氧化膜工艺

导电氧化是电子产品铝构件的常用处理工艺。根据产品不同情况的需要，有无色膜和彩色膜等方法。

(1)无色透明导电氧化

磷酸22g／L
硼酸2g／L
铬酐4g／L
温度室温
氟化钠5g／L
时间l5～60s


膜层的厚度约在0．3～O．5μm，导电性能良好。

(2)彩色导电氧化

铬酐4g／L
温度30～35℃
氟化钠lg／L
时间25～30s
铁氰化钾0．5g／L

95489548 发表于 2013-9-4 21:37:02

{:12_131:}
页: [1]
查看完整版本: 导电氧化膜工艺