liusp 发表于 2010-8-11 04:28:04

推荐可以直接测量薄膜反射率和透射率分光光度计

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一种可以同时测量薄膜反射率、折射率、透射率的光学薄膜测厚仪
产品特征:
· 易于安装
· 基于视窗结构的软件,很容易操作
· 先进的光学设计,以确保能发挥出最佳的系统性能
· 基于阵列设计的探测器系统,以确保快速测量
· 独特的光源设计,有着较好的光源强度稳定性
· 最多可测量5层的薄膜厚度和折射率
· 在毫秒的时间内,可以获得反射率、透射率和吸收光谱等一些参数
· 能够用于实时或在线的厚度、折射率测量
· 系统配备大量的光学常数数据及数据库
· 对于每个被测薄膜样品,用户可以利用先进的软件功能选择使用NK数据库、也可以进行色散或者复合模型(EMA)测量分析;
· 可升级至MSP(显微分光光度计)系统,SRM成像系统,多通道分析系统,大点测量。
· 通过模式和特性结构直接测量。
· 提供的各种配件可用于特殊结构的测量,例如通过曲线表面进行纵长测量。
· 2D和3D的图形输出和友好的用户数据管理界面。

系统配置
型号:SRT100
检测器:双通道CCD阵列的每个像素2048
光源:氘灯和高功率卤素灯
光传输:光纤
载物台:黑色铝合金样品测量平台轻松调整高度,100mmx100mm尺寸
通讯:USB
测量类型:薄膜厚度,反射光谱,透射光谱,折射率
软件:TFProbe 2.3
电脑需要:常规配置
电源:110 - 240伏交流电/ 50 - 60Hz的,1.5A
保修:1年

产品规格
波长范围:250nm到1100 nm
光斑尺寸:500μm至5mm
样品尺寸:100mmx100mm
基板尺寸:最多可至50毫米厚
测量厚度范围*:5nm-50μm
测量时间:最快2毫秒
精确度:优于0.5%(通过使用相同的光学常数,让椭偏仪的结果与热氧化物样品相比较)
重复性误差*:小于1A

产品应用:
半导体制造(PR,Oxide, Nitride..)
液晶显示(ITO,PR,Cell gap... ..)
医学,生物薄膜及材料领域等
油墨,矿物学,颜料,调色剂等
医药,中间设备
光学涂层,TiO2, SiO2, Ta2O5... ..
半导体化合物
在MEMS/MOEMS系统上的功能性薄膜
非晶体,纳米材料和结晶硅

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