n&k Valve 值不准 个人见解:镀膜机的设计差异
① Carrier 行进中的镀膜,欲要用macloed fitting n&k 就需要高膜厚--制作膜厚的机台条件和你做AR的机台参数肯定改变(Power O2 气体分压Exp:H2O)
②独立Chamber式的镀膜,Carrier静止不动, 只改变其镀膜时间,可以保证很多的机台参数无很大的变异在测试及AR测试 更甚者在生产中。 才13RMB ,在问个问题,你认为的过渡层的解释是如何? Tooling值很重要,较薄层很敏感,比如设计的120A,说不定你镀到128A才会到达理论设计曲线,那么在同一材料Tooling值设定后,你需要对单层做微调。AR曲线好不好,需要测其剩余反射率! {:12_131:}{:12_131:}{:12_127:} 对应特薄的膜层,如何测量其tool值? 还要考虑下膜厚均匀性,基底的吸收,以及减小双折射率效应 {:12_131:}
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