fanyushan 发表于 2009-8-17 22:50:09

电子枪蒸发率曲线不稳

各位大侠:
    本人在做膜系时，遇到问题，我那出来，大家共同讨论
南光1300，双电子枪，原料题Ti3O5，SiO2.本地真空3.0E-3Pa，工作真空9.0E-3Pa
   问题1：在熔料时，晶振的蒸发率监控曲线有小峰（换不同厂家的晶振片，电子枪清理任然如此），但有时侯就没有
         这种现象
问题2：在镀膜时，蒸发率曲线有时也会上下起伏，特别是刚打开挡板时，曲线会有一小峰


我这里也有一些想法，先不说出来，以免误导大家

wukeyi28 发表于 2009-8-19 00:25:16

问题1膜料有分解 真空室内气体流动
问题2挡板轴那里漏气不
仅供参考 欢迎拍砖

longmin 发表于 2009-8-19 02:45:10

聽你述
貴機在融藥時晶振已啟動
且因融藥會放氣
尤其以高折射率材料更會放氣
這應該是可能造成有小峰的原因
至於在镀膜时可能有下列原因造成
1　融藥過程中還有氣體未完全放出
2　ｐｉｄ控制參數需要再重新調整
3　晶振的冷卻水溫差過大
上述幾點為個人意見
請參考

fanyushan 发表于 2009-8-19 03:44:45

楼上您好，对于熔料过程中气体未放完我比较赞同，因为我曾经观察到沉积膜料时，坩埚内有象水沸腾的现象，我估计膜料中的气体或潮气没有放干净；对于晶振冷却水温差异，我不太理解，因为如果晶振系统冷却水温的超过其承受能力，那么系统会报警并且会严重影响蒸发率曲线和膜系设计，并不应该只是随机现象。问题2，挡板处漏气，我倒是可以检漏查看

致谢楼上各位

zhi_ma 发表于 2009-8-20 05:50:53

问题1：1.膜料预熔时间不够气体没有放完，2.电子枪蒸发膜料时功率不稳定3.沉积速率太快
问题2：1.ｐｉｄ控制參數需要再重新調整，2.sio2在镀时一般都会有波动有时很大和晶振关系不大上面仅是个人意见宫，仅供参考。

gpx007 发表于 2009-8-20 07:35:19

可能是电子枪灯丝有问题，你可以检查一下先！

sajia 发表于 2013-12-4 11:27:24

看看

tangtang0427 发表于 2014-2-19 11:59:49

有没有使用离子源辅助，离子源的状态是否稳定？设置是否有所变化，真空度呢？

√感觉这东西 发表于 2014-6-11 01:40:34

sio2 压得平实 不呢 @
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