请教各位前辈几个有关铁电薄膜方面的问题，谢谢先~
1、铁电薄膜是不是就是光学薄膜的一种？现代光学薄膜的制备是不是几乎都采用真空镀膜方法？
真空镀膜方法主要分：
1) 物理气相沉积（PVD）：
蒸发镀：热蒸发、电子束蒸发、溅射蒸发。 。 。
溅射镀：磁控溅射、反应溅射 、中频溅射和脉冲溅射。 。。
离子镀：多弧离子镀、空心阴极电弧离子镀、阴极放电离子镀。 。 。
2) 化学气相沉积（CVD）：
高温和低温CVD、低压CVD、激光辅助CVD 。。 。
以上说法对不对？
2、 敬请将铁电氧化物、磁性合金，以及铁电氧化物与磁性合金的复合膜等简单介绍一下
烦请各位好心的前辈赐教一二，非常感谢！！
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