工业化生产（大面积镀膜）的矩平面形磁控溅射靶
专业设计1、靶磁路依靠计算机有限元设计,靶材利用率高。
2、精密的水路设计，钕铁硼与冷却水隔离,靶体温升小,可长时间连续稳定工作。
3、靶体完整的电、磁屏蔽可兼容交流溅射和直流溅射。
4、先进合理的结构易于安装和更换靶材。
技术参数：
矩形磁控靶面尺寸（mm）： 长：根据用户使用要求 宽：80/100/120/150/200/300 厚度： 1～20 （导磁材料 1～6） 3、最大比功率： ≤20W/cm2 4、工作压强（Pa）： 8E-1～8E-2
邮箱：r1533@126.com 侃侃 好么 顶一下，楼主！！！ 似乎暂时还和我的行业扯不上关系
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