关于莱宝镀膜机的光控系统的几个问题
各位前辈，我们都知道，镀膜最重要的两个参数之一是膜层厚度．因此如何控制膜层厚度接近理论设计值，就显得非常重要．大家都知道，目前国内的不论是光控还是晶控都是监测的是膜层厚度，不管是物理的，几何的还是光学的，这些实际做出来的结果和理论值的差距都是蛮大的．现在莱宝镀膜机膜厚控制系统采用的是宽光谱实时监测系统，就是采用监测镀制膜层的光学特性，而不是膜层厚度，这个可以说是一个里程碑，可能从这里开始，监测膜层厚度的时代即将成为历史．这个可以说是莱宝公司的一个核心技术，目前，国内的镀膜机厂家几乎是做不出来的．
晚辈这些话是现学现卖，班门弄斧．不过只是想抛砖引玉，希望前辈多多指点．
晚辈想问的问题是：
１．莱宝机子本身就装有膜系设计软件，可以实时评价镀制膜层的光学性能，然后对缺陷进行后 续弥补吗？
２．如果是这样子，是不是说，以后的膜系设计就可以很不费劲的变成实际的产品？
希望大师给予指点！ 梦想和现实总是有一定的差距的！！！ 根本就不可能很輕易, 鍍膜行業哪怕你設計的再好,曲線再漂亮,
沒有好的機臺,好的人員,經驗是不行的. 有人知道莱宝机的离子源的额定功率吗？请赐教，谢谢！ {:12_131:} {:12_131:}
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