zhangqy 发表于 2007-9-28 08:56:02

求助640nm~900nm,R<0.8%，K9基片怎么设计啊？

要求在640nm～900nm，R<0.8%怎么镀啊

谢谢！

gds 发表于 2006-1-6 13:41:53

TIO2      16.64
SIO2      52.90
TIO2   170.01
SIO2   155.59
SIO2   110.53
TIO2      68.43
SIO2      40.90
TIO2      37.38
SIO2   156.48
TIO2      35.06
SIO2      31.44
TIO2      89.33
SIO2   128.84

zhangqy 发表于 2007-9-29 09:11:18

谢谢gds，我知道了！
非常感谢你的热心！
由衷敬佩你的业务水平！
向你学习！

jzbb 发表于 2007-11-1 11:26:59

需要这麽多层吗

hhggiu 发表于 2007-11-1 13:32:00

bu haoya na me duo ceng

jlgdkj 发表于 2008-1-7 05:38:06

三层的应该是这样的吧

gds 发表于 2008-1-7 10:33:27

3层需要加温,工艺不好控制

jlgdkj 发表于 2008-1-14 04:08:41

加温没有困难啊 270就可以 工艺到还可以 比较好控制 (光控)

guoaihong 发表于 2008-12-12 10:09:09

用3层膜足可以做好

999520 发表于 2008-12-13 07:10:37

最多只要三层，用氧化铝，氧化锆钛，氟化镁，2【M2HL].控制波长在400纳米左右。基底温度在250左右。氧原子充2.8X10-2.这还用问啊？
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