紧急求救:磁控溅射不起辉是什么原因啊 谢谢了
如题,磁控溅射不起辉,前两天是起辉了但是工作电流很小,而且镀出的氧化硅膜周边颜色发灰,而且镀膜速率很低。急等,各位前辈帮帮忙。小弟在这谢过了!!!! 造成不起辉的现象的原因很多,但根据你的现象,有可能是工作气体流量不够,造成负载不够,导致工作电流很低。也有可能是因为靶的磁性太低, 在成膜的时候真空压力大概多大? 也可能是靶材和基片之间的绝缘没做好吧,就是说电压可能没加上了,检查两者之间电阻 不起辉有好多原因的工作气体。工作压强。电压电流
你增加工作气体的流量和提高工作压强会有效的 如果不是MF电源,电源,可能靶面氧化 靶面中毒的原因 基片和靶材之间的电阻具体要到什么量级啊
Re:紧急求救:磁控溅射不起辉是什么原因啊 谢谢了
谢谢,学习了Re:紧急求救:磁控溅射不起辉是什么原因啊 谢谢了
基片和靶材之间的电阻具体要到什么量级啊应该不低于500M欧