zl1982 发表于 2007-9-21 21:55:55

紧急求救：磁控溅射不起辉是什么原因啊  谢谢了

如题，磁控溅射不起辉，前两天是起辉了但是工作电流很小，而且镀出的氧化硅膜周边颜色发灰，而且镀膜速率很低。
急等，各位前辈帮帮忙。小弟在这谢过了！！！！

zhangkai885 发表于 2006-1-6 13:41:53

造成不起辉的现象的原因很多，但根据你的现象，有可能是工作气体流量不够，造成负载不够，导致工作电流很低。也有可能是因为靶的磁性太低，

rainbow 发表于 2005-12-29 21:07:58

在成膜的时候真空压力大概多大？

jinbo8125 发表于 2007-10-4 13:16:39

也可能是靶材和基片之间的绝缘没做好吧，就是说电压可能没加上了，检查两者之间电阻

cyzh 发表于 2007-10-7 02:20:46

不起辉有好多原因的工作气体。工作压强。电压电流
你增加工作气体的流量和提高工作压强会有效的

leoshen 发表于 2007-10-9 12:07:33

如果不是MF电源，电源，可能靶面氧化

niny615 发表于 2007-12-13 05:46:44

靶面中毒的原因

zl1982 发表于 2008-1-9 09:30:36

基片和靶材之间的电阻具体要到什么量级啊

ji8022 发表于 2008-11-18 11:09:02

Re:紧急求救：磁控溅射不起辉是什么原因啊  谢谢了

谢谢，学习了

waitai868 发表于 2009-2-9 09:09:00

Re:紧急求救：磁控溅射不起辉是什么原因啊  谢谢了

基片和靶材之间的电阻具体要到什么量级啊

应该不低于500M欧
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