求二氧化硅薄膜各种制备参数对折射率的影响

①起嘚感覺

求二氧化硅薄膜各种制备参数对折射率的影响，最好是磁控溅射方法制备。
求二氧化硅薄膜在各种参数下的色散系数系数

gds

离子源辅助磁控溅射沉积SiO_x阻隔薄膜的研究

Study on SiO_x Coating Deposition by Magnetron Sputtering with Ion Beam Assisted
. h- t  s6 s6 T2 f' M) B
分页下载
" s0 k' L; ]% N0 ~& i6 U分章下载
整本下载
在线阅读
! C9 t$ J8 C9 s
不支持迅雷等下载工具。
+ `9 l$ x! h$ x9 H1 x
. u9 `! t! {- x4 A/ t$ j免费订阅
/ b8 `2 u% B: p( O% }' v

0 ]  X) O0 d" Q
7 H& d- H' }" a. X( _! N【作者】 韩尔立；
2 P5 ~9 w7 ?+ c& j! [+ L) f
# b1 y- f  Z& F【导师】 陈强； 葛袁静；

0 _1 K+ h% ?/ J' W【作者基本信息】 北京印刷学院， 材料物理与化学， 2006， 硕士
# D7 N2 K% c" W6 R
6 L2 g- l0 x! j$ i9 ?2 n4 v 【摘要】 食品保质保鲜要求包装材料具有优良的阻隔性能,即阻止水蒸气和气体渗透的性能。镀 SiOx 阻隔材料具有足以与镀铝材料相媲美的阻隔性能,同时又具有可见光透过和微波直接加热的特性,因而成为包装材料发展的一个热点方向。对PET、BOPP、PE 三种常用包装薄膜基材进行实验比较,选择 PET 作为 SiOx 阻隔膜沉积基材。采用电子束蒸镀和磁控溅射两种沉积工艺在不同工艺参数下制备SiOx 阻隔薄膜。所沉积薄膜用表面轮廓仪进行膜厚测试,并进行了薄膜均匀性测试。利用 FTIR,SEM,XPS ,XRD 分别对沉积膜的结构,表面形貌,元素组成等进行了表征。并考察了离子源辅助对磁控溅射沉积薄膜的影响。研究结果如下:1. 薄膜均匀性测试显示,磁控溅射均匀性较好,在片内均匀性、片间均匀性和炉间均匀性上均优于电子束蒸镀法。2.薄膜表面形貌分析显示,电子束蒸镀沉积的 SiOx颗粒粗大,表面缺陷较多,而磁控溅射沉积 SiOx薄膜均匀致密,但仍有微裂纹,经离子源辅助后裂纹大大减少,甚至消失。3.XRD 测试未显示衍射峰,表明所沉积薄膜为非晶态,可能的薄膜生长方式为岛状生长,形成不连续的无定性非晶态结构。4.用电子束... 更多
3 @7 {4 F) X8 S4 l! `% M$ d
( }7 j  t6 U/ X- N8 |0 ~! B6 w+ S6 S
( [, k. a( ^5 k5 `, w/ a9 O【关键词】 SiO2阻隔薄膜； 电子束蒸镀； 磁控溅射； 离子源辅助；
, p& M" K$ i9 ?& vhttp://pan.baidu.com/share/link?shareid=462417&uk=2013391093

大笨驴

感谢前辈，就是价格有点贵