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* I0 W) F M4 c; l" Z! v$ U<title>评述了软X射线光学多层膜的结构设计</title>' @6 f; G- `) J! O) a# f
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1 e3 _. Y+ G1 W. d 日本兵库工业研究所无机材料室开发出一种新的薄膜生长方法。该法是由激光蒸发法和激光辐照技术结合而成的一种新技术。此法可用于生产液晶显示器或触摸屏用的透明导电薄膜，目前已生产出了世界顶级的低温低阻薄膜。<br>
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此法采用大功率准分子激光器作紫外辐照源照射ITO靶，令ITO形成雾状并沉积于玻璃衬底。在薄膜沉积同时，来自镜面反射的令一束激光同时照射该点薄膜。辐照激光束的运作借助于被称为Spring-8的设备实现。<br>: F7 O6 i1 d! G; [, O6 C d2 K4 _
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由于采用此项技术，薄膜结晶质量获得改善。在沉积温度为25℃时的薄膜电阻率为1.5×10<sup>-4</sup>Ω.cm，沉积温度为200℃时的电阻率为8.9×10<sup>-5.5</sup>Ω.cm。此项结果表明，甚至可在塑料衬底上形成优质薄膜。<br>( h% y+ j1 c* }3 `5 b% _
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发表于 2006-8-24 01:54:39
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