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摘 要：采用WO3和ZrO2复合陶瓷靶材,以射频磁控溅射法在石英基片上沉积制备了ZrW2O8薄膜.利用X射线衍射仪（XRD）、表面粗糙轮廓仪和扫描电子显微镜（SEM）,研究了不同工艺参数和不同退火温度对ZrW20s薄膜的相组成、沉积速率和表面形貌的影响.采用高温X射线衍射和Powder X软件研究薄膜的负热膨胀特性.实验结果表明:随着溅射功率的增加,薄膜沉积速率增加;而随着工作气压的增加,薄膜沉积速率先增加后减小;磁控溅射沉积制备的ZrW20s薄膜为非晶态,表面平滑、致密,随着热处理温度的升高,薄膜开始结晶且膜层颗粒增大;在740℃热处理3 n血后得到膜层颗粒呈短棒状的三方相ZrW2O8薄膜,在1200℃密闭条件下热处理3 min淬火后得到膜层颗粒呈球状的立方相ZrW2O8薄膜,且具有良好的负热膨胀特性. v1 ?+ Y/ x ~( B% T; a+ s4 H
- `7 n9 ]8 e q- n$ D" K# \ 关键词：钨酸锆;薄膜;磁控溅射;负热膨胀 0 b7 d4 h( K) E) ?
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分类号：O484.5;TB43 文献标识码：A
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' A% F" F& b3 O( o( I 文章编号：1672-7126（2008）增刊-042-05 9 \/ W) q" M! M, k2 l/ |- ?" s, \$ K4 W
1 _7 C$ I9 O1 ?: P: m
Deposition Conditions and Growth of ZrW2O8 $ X; F8 x4 D2 W* ~
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Liu Hongfei Cheng Xiaonong Zhang Zhiping Fu Tingbo |
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发表于 2025-7-22 10:34:34
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