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溅射功率对直流磁控溅射TiO2薄膜光学性能的影响 % I+ u/ h: A% I. O3 f' }' h. y
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摘要： 通过改变溅射功率,使用直流磁控溅射设备,在玻璃衬底上制备了系列TiO2薄膜.分别用扫描电子显微镜、X射线衍射仪和椭偏光谱仪测试了TiO2薄膜的形貌、结构及厚度.使用紫外-可见分光光度计测试了TiO2薄膜的光学性能.使用TiO2薄膜降解罗丹明B溶液测试了其光催化活性.研究结果表明:溅射功率增大,薄膜的透射谱及吸收谱在紫外出现明显的"红移"现象,光学带隙从3.5...; D) A6 R: _, K% O) _4 k
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发表于 2019-6-9 12:28:03
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