二氧化锆薄膜表面粗糙度研究

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二氧化锆薄膜表面粗糙度研究

2 \: H0 D0 f6 ~. v: y0 p+ X( H% b. O4 H二氧化锆（ZrO2)薄膜材料具有膜层吸收小以及膜层牢固、抗腐蚀等许多优良特性，拥有很强的抗激光损伤能力和非常宽的光谱透明范围，是光学薄膜中重要的高折射率材料之一。
此外，由于二氧化锆薄膜具有很好的热稳定性、化学稳定性和机械特性，可被广泛应用于光学和电化学器件等重要领域。实际应用中，二氧化锆薄膜的表面粗糙度是影响薄膜材料性能的主要因素。
二氧化锆薄膜的表面粗糙度是由薄膜沉积及生长过程的微观结果决定的。在薄膜生长的初期阶段，薄膜的生长对于基底表面具有填平的作用，随着膜层厚度的增加会使生长界面趋于平滑，从而使薄膜表面粗糙度对薄膜表面的影响会不断减少，从而使薄膜按照自身的生长规律生长沉积，因此薄膜表面粗糙度的变化趋于平缓，此时的白面粗糙度主要与膜层材料本身以及沉积膜层的工艺参数有关。

2005年，爱特斯开始二氧化锆膜料的生产，同时不断的研发和突破，目前拥有完整的二氧化锆膜料生产线。10年以上专业的生产技术沉淀，造就了坚实的品质。推出的规格、尺寸定制服务更是深得客户的青睐，在国内外市场得到客户的一致好评！