二氧化硅膜料-二氧化硅薄膜应用领域及特性

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二氧化硅膜料-二氧化硅薄膜应用领域及特性

: H/ |1 J) A* x" z8 p* nSiO2 薄膜具有良好的硬度、光学、介电性质及耐磨、抗蚀、机械等特性，在光学、微电子等领域有着广泛的应用前景

  I! Q  Q' q2 u) {% M5 M) \SiO2薄膜已经是一种普通应用于各个领域的重要膜层（增透膜、多层膜、保护膜、滤光片…等）。在光学薄膜滤光片中，SiO2 薄膜是很好的一种单层抗反射膜，更是最常用的一种低折射率膜层，用來镀制多层光学薄膜滤光片；在镀膜工艺中，作为金属或者其他材料的表面抗刮和保护层；在半导体技术方面，常用来当作绝缘层的一种材料。

4 ?" I+ }' G- f+ _7 C& n9 eSiO2薄膜其穿透区涵盖0.15μm 至 8μm，具有很小的吸收损耗；和多数不同材料的基板拥有良好的附著性，表面也具有良好的耐刮性；结构稳定，不易与其他材料发生反应，产生变质，具有耐酸性、抗腐蚀的优点。
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  J/ Q3 ^4 c& Y爱特斯光学2004年建立了硅氧化物的生产线，包括二氧化硅。从小颗粒状、柱状二氧化硅，到大切片二氧化硅，种类齐全，最新的规格包括二氧化硅环。客户可按提供具体尺寸、大小定制二氧化硅。