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[薄膜论文] 硕士论文下载:光学薄膜厚度实时监测系统的研究与实现

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发表于 2016-7-22 13:02:39 | 显示全部楼层 |阅读模式

: r  g$ f$ s4 ^4 Z光学薄膜厚度实时监测系统的研究与实现( R, Z& i9 r# e+ m' @
钟俊(光学)* h5 k5 U4 k* W& g
导师:朱万彬3 g$ R# s( Y" O; w6 m
摘 要& J0 t- k# q2 l2 c/ J
光学薄膜实时监控精度决定了所镀制的光学薄膜的厚度精度。随着工业的发, S+ Y( P5 g; s5 T9 Z" |( K
展,对所镀膜层的厚度精度要求越来越高,特别是通信领域所用的窄带滤光片,% q7 Z! w, c: ~
其带宽要求通常小于 1nm,它需要镀制几十层高低折射率材料。如果采用晶控等6 R0 S& W* J4 o) b, Q& W4 u- w' Q- D1 Z
监控光学薄膜物理厚度的方式进行监控,则对每层的镀制精度要求非常高,甚至* c% N: S2 V1 e3 X: Y5 G9 |
当前技术无法解决。而薄膜厚度的光学监控具有自动补偿功能,那么前一层的误
3 J' w: d& U8 n" {" h差可以由后面层补偿,则此时对每层监控精度要求低很多,因此这种滤光片的镀$ W2 Q( Z5 ], l5 |  K4 @+ I) Q1 {
制通常采用光学监控的方法进行监控,这即是本文所研究的背景。对于光学监控
4 P$ e5 v, \7 p2 @存在下面一系列难点以及关键技术需要解决:光源的波动导致监测光的不稳定、3 {( f: b4 W  e4 ?
镀膜机内蒸镀膜料引起的杂散光的去除、数据信号高精度不失真的采集以及最终! {; b; ?, Y1 k
规整膜系极值点判断。
* S, c2 e8 d7 b  d+ w; W论文主要开展了如下的工作:首先利用 MATLAB 软件仿真镀膜过程中膜料的6 I) s! W" Q9 v0 V
沉积过程,接着使用 LabVIEW 软件仿真了反射率转化为电信号之后随着时间变化
8 W1 y$ r6 f! {4 K的过程,并采用锁相放大进行噪声抑制和信号解调,采用 NI 公司的 PCI-6281 数
& L/ X+ g9 _, J9 h( \: L据采集卡采集镀膜机的主信号和参考信号,通过 Savitzky-Golay 平滑滤波器处* V2 A7 f3 `8 g- l
理采集的信号,去除高频噪声,得到了较平稳的信号。讨论了光学薄膜透过率或+ a3 r4 U( l/ I  w0 N
者反射率曲线随着时间的变化关系,经比较得知采用傅里叶级数函数进行拟合得" p; |8 }: {; I* I( p% F0 ^3 L
到的误差最小。最终规整膜系监控采用极值点判断的方法,分别采用了单纯的使7 E" n0 E, n- h& a3 @4 H9 b
用主信号,每隔一秒求一个均值作为此时的监控电压,然后通过拟合求出极值点,
8 ], `6 M4 o6 L这种监控的最终精度为 2nm,监控精度相对较低,另外一种监控方法是使用主信; v& a* |1 ^# S' p: k
1optical transmittance or reflectance curve hanges over time, through comparing found
0 J8 r- _2 v& ?3 p, kthat fitting modle of Fourier series function has the minimum error. Eventually1 W, u# u* M) D" X$ D
normalized film system monitoring methods used to determine extreme points,% P8 Q0 f% d0 D! n0 A2 ?& z" E
respectively, by the mere use of the main signal, every second request as a means of
- G+ D' _$ [* w" S3 x4 O6 ~monitoring the voltage at this time, and then obtained by fitting the extreme point, this
, f& a2 n& z% mmonitoring the final accuracy of 2nm, another kind of monitoring is to use the main
7 H4 |( x3 y! Asignal and reference signal for phase-locked amplification, followed by the same
5 f- R* m0 G) b: ]# O* Ccurve fitting, the final monitoring accuracy is 1nm, achieved the desired target.5 [6 `& i3 @7 O1 r  e, p
Key words: optical thin film thickness; monitoring; Fourier series; extreme points2 S* U7 B( t& _8 }
链接:http://pan.baidu.com/s/1qYb6AJy 密码:
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