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% G) k) a8 H4 P$ ]光学薄膜厚度实时监测系统的研究与实现
3 J2 ?: G! ^& t9 ^2 L钟俊(光学): Y9 k/ ]* Y+ q0 n
导师:朱万彬
+ G3 W9 e7 M# H6 W, @! f$ _" ^摘 要! L {; e; l$ b0 _$ V
光学薄膜实时监控精度决定了所镀制的光学薄膜的厚度精度。随着工业的发1 b/ E D% K+ E# A
展,对所镀膜层的厚度精度要求越来越高,特别是通信领域所用的窄带滤光片,0 M2 s \% ~ [, u0 R+ V- w
其带宽要求通常小于 1nm,它需要镀制几十层高低折射率材料。如果采用晶控等
0 q. w& d' R) w- \0 [. `监控光学薄膜物理厚度的方式进行监控,则对每层的镀制精度要求非常高,甚至& ?5 ~/ X. x' c& d
当前技术无法解决。而薄膜厚度的光学监控具有自动补偿功能,那么前一层的误7 Q. a# c; I4 _) F; \4 e
差可以由后面层补偿,则此时对每层监控精度要求低很多,因此这种滤光片的镀 K2 N8 n, V; L5 u+ N: {! x
制通常采用光学监控的方法进行监控,这即是本文所研究的背景。对于光学监控! Z2 l) j, f8 f9 `
存在下面一系列难点以及关键技术需要解决:光源的波动导致监测光的不稳定、8 A% A' i: G: d& A- B& Z ~
镀膜机内蒸镀膜料引起的杂散光的去除、数据信号高精度不失真的采集以及最终
4 ^* h2 p+ \1 ?5 s! `规整膜系极值点判断。
! k# U( H5 R- t4 h+ y, s3 Z4 |论文主要开展了如下的工作:首先利用 MATLAB 软件仿真镀膜过程中膜料的
5 @( W! O7 h& D# N沉积过程,接着使用 LabVIEW 软件仿真了反射率转化为电信号之后随着时间变化+ q+ k0 b3 c& T0 C% c) Z
的过程,并采用锁相放大进行噪声抑制和信号解调,采用 NI 公司的 PCI-6281 数2 ]1 _+ V4 W9 m b
据采集卡采集镀膜机的主信号和参考信号,通过 Savitzky-Golay 平滑滤波器处
" Z! u+ Z ~; b0 L, j# l理采集的信号,去除高频噪声,得到了较平稳的信号。讨论了光学薄膜透过率或6 C7 w4 f$ V; Z) G8 g2 p( P7 p
者反射率曲线随着时间的变化关系,经比较得知采用傅里叶级数函数进行拟合得
, f( f& y. ]: {8 x$ V/ F到的误差最小。最终规整膜系监控采用极值点判断的方法,分别采用了单纯的使
: h4 I& ~. u r. J用主信号,每隔一秒求一个均值作为此时的监控电压,然后通过拟合求出极值点,3 E3 j7 |# y5 L
这种监控的最终精度为 2nm,监控精度相对较低,另外一种监控方法是使用主信
; Y% b6 G0 J2 ]' G, _1optical transmittance or reflectance curve hanges over time, through comparing found
1 ?" n& X9 m6 y5 x1 Y9 ?% ]that fitting modle of Fourier series function has the minimum error. Eventually
# D2 s" R- @; n3 n- |normalized film system monitoring methods used to determine extreme points,) A( K& E+ N+ Z8 }' ~$ s
respectively, by the mere use of the main signal, every second request as a means of( V6 q I& x. t
monitoring the voltage at this time, and then obtained by fitting the extreme point, this
+ Q1 ^& W, u8 C, U+ b9 G2 ymonitoring the final accuracy of 2nm, another kind of monitoring is to use the main' m& q. }" P# Z
signal and reference signal for phase-locked amplification, followed by the same
" E' ^/ O, `/ F& p$ d5 Kcurve fitting, the final monitoring accuracy is 1nm, achieved the desired target.( s# z2 F! a6 \3 _7 m
Key words: optical thin film thickness; monitoring; Fourier series; extreme points
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