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蒸发镀膜应该说是比较成熟的镀膜工艺,当然对于铝膜来说应该没有什么太多的技术性问题,因为已经有多年的历史,最初使用比较多的是蒸发镀膜。当然根据加热方法的不同又有不同的方法,实用的是(塑料薄膜)电阻加热。至于其它镀膜则是需求不同有所区别。' H0 {5 B) v- f
中频镀膜发展较晚,但它的优点也显而易见,主要是其镀膜速度较快,而且相对于蒸发镀膜有更好的可控性,同时能够镀绝缘膜,很容易实现反应镀。当然也有其缺点,最主要的是控制性和膜质的问题。
% g T1 S; J' z; V 很多人認為濺射就是低蒸發率,但經我們這幾年來的經驗,其實中頻濺射的蒸發率相當的高,並且有很好的結合力,目前很熱門的手機按鍵是朝這各方向發展,鍍膜後不用再噴塗透明保護漆,耐摩耗顏色多樣選擇,要達到這種量產工藝,當然設備上需要有更多的配置,包括清洗.置換.結合力.顏色的穩定度.溫升的控制等都需要友好的控制手段。
! w2 O( a$ }+ X4 z; k: d塑料鍍膜最重要的一個環節是前清洗和活化技術,再來是鍍膜過程中如何控制溫升問題,$ W, g! w% T( ~- d$ D3 X' ~3 j
清洗與活化我們用的是雙級脈衝電源,產生高離化率的等離子體,等離子體的氣體選擇與被鍍物有關係,換句話說是想除去的是何種物質,而決定加入哪種氣體,重點是要把工件表面物質置換出來,使後面沉積薄膜能有效結合,: c7 M1 }$ l+ f
真空薄膜是一個多方面專業的工作,跟很都學科關係密切,流體力學 物理現象 化學現象 電學 材料科學 磁場的關係 勝至於跟粒子量學也相關等等,算是一門多方面學科,所以很能吸引我們大家去探討2 Q& ^& V$ ~5 m7 e& J& |* X& _
中頻濺射鍍膜有它一定的優點,但也有一定的缺點,最終看取捨哪方面對整個過程有效,目前我們的方向還是在量產過程,如何得到穩定重複的一個工藝,並且得到一定範圍的膜層,膜層指標定的比較嚴苛,一般顏色要求LAB值得平方根均值小於2.5的範圍,膜厚.耐蝕性能多有很高的要求,有這些要求就必須有很多手段去實現一個好的膜層,
' \/ o9 i6 i" w8 D6 Y/ A 鍍前處理是很重要的工序,關係薄膜的效果,除了前處理的要求要做到儘善儘美,在真空下鍍膜前的活化與清洗對薄膜的結合力,也是很重要的一個工序,我們一般要求鍍膜前必須輝光清洗,達到深層清洗 活化 排除真空室的雜氣,
5 t( e# E9 w! u+ C3 I/ o9 U 輝光清洗有很多方法,直流輝光清洗 單級脈衝輝光清洗 高壓輝光清洗 RF輝光清洗
) q( Y. @0 o% `+ E 雙級脈衝輝光清洗 這些方法分別對各種不同工件起不同的作用,工藝的選擇與偏壓電源的選擇,都是系統應考慮的 |
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