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南京光科光学设计速成培训班
1 P+ J S, c7 l- X' e 地点:南京市! S1 H5 ~# m5 k& }
新街口- S e) H3 `/ J, i' v- M' U
锦江之星 时间: 2011年04月20日 - 04月21日
0 `6 W h1 e% X( w9 O共2天
' v5 D1 k: Y5 [2 V8 p 成像课程费用 ¥3000元9 ^( a6 L1 t* M' K2 h3 u
5 u% @/ A; l1 a3 l 电话:025-84305866
/ \+ r% k2 d+ a" ^) p1 G5 v7 e祁小姐 ada&optotek.com.cn (将&改成@) 课程对象及目标: 这个课程涵盖光学设计的基础知识,因此听课者即使不具备任何的光学设计基础,也可快速掌握0 y' G' l6 l0 d2 k8 z# }
课程结合真实的光学系统实例进行讲解和练习。2 E+ n4 _$ p% [' Q, N
学员可以掌握使用光学设计软件进行从简单到相对复杂的光学系统的建立、分析及优化设计。! j# `. t1 O/ h/ E8 E
本课程使用ZEMAX软件进行讲解,学员可以领略光科独有的ZEMAX软件教学经验和使用技巧。
% X/ `, ?. w: W" V& I1 t课程的目标不局限于光学软件的使用,而是光科独创的光学系统设计技术! 课程内容及纲要 工程光学基础 几何像差及其解决方法:球差、慧差、象散、场曲、畸变,真实光学系统的设计和分析,瑞利判据,PTV及RMS光程差,光学系统的焦深,光线扇形图和光学像差的对应关系,光学系统中的非球面,光阑和光瞳 系统参数定义 光学系统光的波长及颜色,渐晕及相对照度,光学软件ZEMAX的求解类型,无焦光学系统,光学切趾及高斯光束设置,偏振膜层定义 光学设计技术提升 ZEMAX 软件接口布局,光线追迹与应用,几何像差分析,衍射分析 MTF及PSF,反射系统设计,偏心及旋转光学系统设计,M变焦多重结构 光学设计实战训练 实例及专利库,最新美国及日本专利搜索,专利反演-ZEMAX手机镜头反演实例 光学系统的公差分析 双高斯镜头镜头MTF公差分析实例,模拟产品加工、装配、良率计算 % Z) j# V0 c: w7 a6 k. R
5 x- {1 w$ |; j- z3 ]! r- W3 f& L2 J南京光科信息技术有限公司光学设计速成培训课程 上课时间 | 第一天 | 第二天 | 9:00-10:30 | 工程光学基础几何像差及其解决方法:球差、慧差、象散、场曲、畸变$ v( ]! Z, @- u8 U* `7 \1 p5 J
真实光学系统的设计和分析/ R2 Q$ ]7 `0 n/ f: g% n
瑞利判据
R5 a4 H2 _$ o: Q) c- k/ y- nPTV及RMS光程差 | 光学设计技术提升ZEMAX 软件接口布局) O; C3 j% K4 ?3 h. {. A
实例:数码相机镜头设计案例1 C9 W, C5 e& K! f7 c
ZEMAX 软件的自动优化光线追迹与应用
+ F. v8 T# o5 Z3 ?. i% h几何像差分析
9 T- G+ N" W3 _! u6 _9 J衍射分析 MTF及PSF | 10:30-10:45 | 课间休息 | 课间休息 | 10:45-12:00 | 光学系统的焦深: }1 t6 A6 K( i. V5 Y: a1 r4 I
光线扇形图和光学像差的对应关系光学系统中的非球面
# @/ q2 ?3 t. _# I r9 I: Y光阑和光瞳 | 反射系统设计- J9 J7 K$ Q" B+ i: ~; X- n( P
偏心及旋转光学系统设计! d! z3 Z. X+ v3 _
ZOOM变焦多重结构
6 O L' B1 x- C" b; m实例:光学扫描系统 | 12:00-14:00 | 课间休息 | 课间休息 | 14:00-15:30 | 系统参数定义光学系统光的波长及颜色 @! s; k& }# ^1 V, O
渐晕及相对照度* Q. ^4 e' V6 N; Z& ~1 N/ c$ E
光学软件ZEMAX的求解类型 | 光学设计实战训练实例及专利库# B7 C$ n6 A1 N& `! o0 ]1 ^9 r' e& r, D
最新美国及日本专利搜索, \4 w4 F) s8 s' s% c/ [" p+ D" T8 W' o
专利反演-ZEMAX手机镜头反演实例 | 15:30-15:45 | 课间休息 | 课间休息 | 15:45-17:00 | 无焦光学系统" G/ b2 C# S: R1 R8 d- ~0 Z
光学切趾及高斯光束设置
' n# d3 E- {% ?0 |2 E2 y' B1 H/ N偏振膜层定义 | 光学系统的公差分析双高斯镜头镜头MTF公差分析实例
( {5 m% l! O9 }3 Q5 N/ W/ m; R模拟产品加工、装配、良率计算 | * X2 ^, g% X: w! F
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