JB/T 6922—2004 真空蒸发镀膜设备

bomoaa

JB/T 6922—2004 真空蒸发镀膜设备
Vacuum evaporation coating plant
" f( W! s( P8 j. m" d本标准是对JB/T 6922一1993《真空蒸发镀膜设备》的修订
- M! L7 u+ Z. Q7 V( I0 z3 v, O本标准与JB/T 6922-1993相比，主要变化如下:
! j+ f) ?6 j/ ?8 ~3 T8 J! i; i/ g— 增加了原标准的“4.1工作环境条件”的内容;
一增加了4.3.6, 4.3.7, 4.4.12等条款;
6 R) W' R2 e4 A+ m% P— 纠正了某些错误概念，如将原标准的:“4.2.8...在产品说明书规定的参数范围内......”修订为 “4 .2. 8...在产品设计要求规定的参数范围内......’。
本次修订按GB/T 1.1-2000标准对JB/T 6922-1993的标准格式进行了调整
本标准代替JBfT 6922- 1993
/ Q7 |& o; B1 o* [- B1、范围
JB/T 6922—2004 真空蒸发镀膜设备标准规定了真空蒸发镀膜设备的型式和基本参数、技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存等要求。
" M/ a2 c0 C  y1 |4 C本标准适用于极限压力在5x10-4Pa-5 x10 -3Pa范围的真空蒸发镀膜设备(以下简称设备)
. F% ?9 w+ b7 s- ^# ~2、规范性引用文件
下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准
GB/T191包装储运图示标志(GB/T 191-2000,e qvIS O7 80: 1997)
! _7 ]) r$ H( Q' U. [1 |3 u8 lGB/T 6070 真空法兰(GB/T6 070-1995,e qv ISO 1609: 1 98 6, V acuum technology-Flangedimensions)
# ^. \( I5 H1 P( d; s4 x" |# CGB/T 11164-1999 真空镀膜设备通用技术条件
- [% z% r# p' k' H, ?GB/T 13306 标牌
5 `' J1 G$ ]5 ~$ _JB/T 1090 J型真空用橡胶密封圈型式及尺寸
JB/T 1091 JO型和骨架型真空用橡胶密封圈型式及尺寸
, o  V! N+ J7 R0 o3 J0 ?JB/T 1092 O型真空用橡胶密封圈型式及尺寸
JB/T 7673 真空设备型号编制方法
3、型式与基本参数
, n8 F- I* I0 C% Y* k& y, j3、结构形式
% w- E& A9 P5 K, z& ~2 C' j设备主要由镀膜室、蒸发系统、真空系统、机架、保护装置及电气控制装置组成。
1 M& Y9 G' n$ Z1 ~4 ~- |3.2 基本参数
设备的基本参数应符合表1的规定。
. `; G* X9 f+ z0 q) @; V
, x! t' R  J% U1 J) R更多详细信息请查看PDF：JB/T 6922—2004 真空蒸发镀膜设备
更多真空技术标准请查看：真空技术标准汇编
, z- A+ p* S6 D/ E6 e5 ]