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几种光学薄膜弱吸收测量技术研究进展

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发表于 2010-2-17 00:26:04 | 显示全部楼层 |阅读模式
几种光学薄膜弱吸收测量技术研究进展
6 ^4 I9 N5 l' T0 W$ B李秀[1] 杨富[2][1]张家口市康保三中,河北张家口075000 [2]河北北方学院理学院,河北张家口075000摘 要:高能激光的发展要求有质量非常高的光学薄膜,而光学薄膜吸收的存在成为限制高能激光发展的主要因素之一.为了改善光学薄膜质量,提高其损伤阈值,需要精确测量光学薄膜的微弱吸收.本文对光热偏转技术这种光学薄膜吸收率测量技术的研究现状进行了综述,分析比较了三种常用的光热偏转测量装置性能,并在此基础上,把光热偏转技术与其它弱吸收测试方法进行了比较.[著者文摘]  t# W' H- D1 ~$ A  @/ {

: x) a! l& p- s/ |/ |# ^0 f9 `0 ^关键词:光热偏转技术 光学薄膜 弱吸收
7 s- s/ p8 Y. ~$ F, e8 \分类号: O484.4[著者标引]文献标识码:A文章编号:1673-1492(2009)04-0010-04栏目信息:物理学
* N$ ~' C8 _, k0 A1 l: ~% R7 m! M相关文献:主题相关 全文快照   

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