电子枪蒸发镀ITO

fanyushan · 发表于 2009-11-27 21:52:10

各位大侠，我准备在电子枪蒸发镀设备上镀制ITO膜，基材是亚克力或pc塑料，设备带有离子源，有没有实际做过的大侠，大家帮我一把。

1。可行性，离子源需要能量多大？
2. 氧化铟锡中IN，Sn，O的比例多少合适？
3。腔体不能加温超过60能做出来么？

weimao_liu · 发表于 2009-11-29 00:19:31

不同的薄膜得选取不同的镀制工艺。

weizm · 发表于 2010-1-28 00:21:24

这要看你所镀的膜厚的均匀性了，若要均匀的话，功率必须设定恰当的。

280870377 · 发表于 2012-9-7 02:38:26

摸索中

zhuangzhou · 发表于 2015-1-9 01:14:06

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